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冯沁

作品数：62 被引量：0H指数：0
供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
发文基金：国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域：电子电信理学机械工程一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 60篇专利
  • 1篇期刊文章
  • 1篇科技成果

领域

  • 21篇电子电信
  • 3篇机械工程
  • 3篇理学
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 27篇光刻
  • 13篇超分辨
  • 11篇刻蚀
  • 10篇天线
  • 10篇膜层
  • 8篇多层膜
  • 8篇掩模
  • 8篇衍射
  • 8篇湿法腐蚀
  • 7篇纳米光刻
  • 7篇沟槽
  • 6篇膜厚
  • 5篇等离子体
  • 5篇银膜
  • 5篇透镜
  • 5篇纳米
  • 5篇介电
  • 5篇介电常数
  • 5篇介质加载
  • 5篇光刻胶

机构

  • 62篇中国科学院

作者

  • 62篇罗先刚
  • 62篇冯沁
  • 42篇王长涛
  • 39篇赵泽宇
  • 27篇刘玲
  • 27篇黄成
  • 22篇刘凯鹏
  • 22篇杨磊磊
  • 19篇陶兴
  • 16篇崔建华
  • 15篇王彦钦
  • 14篇邢卉
  • 13篇潘丽
  • 13篇刘尧
  • 13篇方亮
  • 12篇胡承刚
  • 10篇杨欢
  • 8篇高平
  • 7篇赖之安
  • 7篇姚纳

传媒

  • 1篇激光与光电子...

年份

  • 1篇2015
  • 7篇2014
  • 4篇2013
  • 23篇2012
  • 11篇2011
  • 15篇2010
  • 1篇2009
共 62 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种基于亚波长金属孔阵列的电磁完美吸收体
一种基于亚波长金属孔阵列的电磁完美吸收体，制作步骤：(1)选择石英基片，并将其表面抛光；然后采用真空蒸镀，在表面抛光后的石英基片表面沉积一层厚度大于50纳米为的金膜；(2)在金膜表面蒸镀一层厚度为35纳米至45纳米的Si...
罗先刚冯沁赵泽宇胡承刚崔建华
一种介质加载型周期沟槽缝隙天线
一种介质加载型周期沟槽缝隙天线，首先确定天线的工作频率f；然后选择金属板材料；在金属板中央区域开一长度为sl，宽度为sw金属缝隙结构，波导结构作为激励源放在金属板下方激励该金属缝隙。接着在金属板的出射面，对称地排布若干周...
冯沁黄成崔建华赵泽宇罗先刚
一种利用两次离子束刻蚀技术制备成像面为平面的超透镜制备方法
本发明提供一种利用两次离子束刻蚀技术制备成像面为平面的超透镜制备方法，其主要步骤为：利用IBE刻蚀半圆柱形沟槽得到和其曲率半径相同但是径深减小的圆弧形曲面沟槽，然后在圆弧形曲面沟槽内沉积多层膜，之后利用IBE对多层膜进行...
罗先刚赵泽宇王长涛王彦钦高平刘玲冯沁黄成杨磊磊陶兴
文献传递
高灵敏度、高稳定性表面增强拉曼芯片的制备方法及应用方法
本发明公开了一种高灵敏度、高稳定性表面增强拉曼芯片的制备方法及应用方法，该方法首先是在1cm×1cm的双面精抛光石英基底上通过自组装的方法得到单层排布的聚苯乙烯纳米球阵列；再采用反应离子刻蚀工艺对制作的单层纳米球阵列进行...
罗先刚高平杨欢赵泽宇冯沁陶兴刘玲刘凯鹏杨磊磊
文献传递
一种用于光刻的高效超分辨聚焦器件制备方法
本发明提供一种用于光刻的高效超分辨聚焦器件制备方法，该方法首先确定入射波，再选取合适的基底材料，在基底上蒸镀或溅射沉积一层金属膜，让入射波垂直于金属膜表面入射；在金属膜上表面取中心点为原点，选定x轴方向及y轴方向，取垂直...
罗先刚王长涛赵泽宇王彦钦冯沁陶兴杨磊磊刘凯鹏刘玲姚纳
一种平面像场超分辨成像透镜的制备方法
本发明提供一种平面像场超分辨成像透镜的制备方法，先选择基底材料；在基底表面旋涂牺牲层，其厚度为d<Sub>1</Sub>；在牺牲层上沉积平面多层膜，包括可用于激发表面等离子体的金属膜层和介质膜层，多层膜的厚度为d<Sub...
罗先刚王长涛赵泽宇冯沁王彦钦高平罗云飞黄成杨磊磊陶兴
一种用于高深宽比纳米图形加工的反射式表面等离子体成像光刻方法
一种用于高深宽比纳米图形加工的反射式表面等离子体成像光刻方法，是采用光刻胶-银膜一光刻胶的三层膜层结构基片，纳米掩模图形面与基片表层光刻胶接触曝光。银膜功能是通过紫外照明光，将铬膜上的线宽尺度在20nm～500nm的图形...
罗先刚王长涛冯沁邢卉潘丽刘尧方亮刘玲
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一种基于面激元辐射模式的表面沟槽结构
一种基于面激元辐射模式的表面沟槽结构，首先确定该表面沟槽结构实现聚束(beaming)效应的工作频率f；然后选择金属板材料；在金属板中央区域开一亚波长孔径(半径为r)或狭长缝隙(宽度为w)。接着在金属板的出射面(或同时在...
黄成赵泽宇冯沁崔建华罗先刚
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一种表面等离子体超分辨干法光刻方法
本发明公开了一种表面等离子体超分辨干法光刻方法，其步骤为：1)清洗基片；2)在基片上镀一层无机光刻胶TeO<Sub>x</Sub>；3)于TeO<Sub>x</Sub>膜层上镀一层金属薄膜；4)如此反复镀若干周期，最后一...
罗先刚赵泽宇王长涛冯沁王彦钦刘利芹陶兴胡承刚黄成杨磊磊
文献传递
一种高分辨力超衍射聚焦结构透镜的制作方法
本发明提供一种高分辨力超衍射聚焦结构透镜的制作方法，该方法选取合适的基底材料，在基底上蒸镀或溅射沉积一层金属膜，让一定偏振态的单色光垂直于金属膜上表面入射；选取金属膜上表面的中心点为坐标原点，过中心点的坐标轴分别为x轴和...
罗先刚赵泽宇王长涛冯沁王彦钦胡承刚黄成陶兴杨磊磊姚纳
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