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卢江

作品数:25 被引量:57H指数:6
供职机构:中国科学技术大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学一般工业技术电子电信电气工程更多>>

文献类型

  • 19篇期刊文章
  • 4篇会议论文

领域

  • 9篇理学
  • 5篇电子电信
  • 4篇一般工业技术
  • 3篇天文地球
  • 2篇电气工程
  • 1篇经济管理
  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 4篇导体
  • 3篇电镜
  • 3篇电子显微镜
  • 3篇多层膜
  • 3篇退火
  • 3篇甲苯
  • 3篇富勒烯
  • 3篇
  • 3篇超导
  • 3篇超导体
  • 3篇BI-SR-...
  • 2篇电镜研究
  • 2篇氧离子
  • 2篇碳60
  • 2篇热稳定
  • 2篇热稳定性
  • 2篇显微镜
  • 2篇离子
  • 2篇离子注入
  • 2篇金属诱导

机构

  • 22篇中国科学技术...
  • 2篇中国高等科学...
  • 2篇中国科学院上...
  • 1篇南京大学
  • 1篇浙江大学
  • 1篇中国科学院
  • 1篇中国科技大学
  • 1篇安徽省药物研...
  • 1篇中国高等科学...

作者

  • 23篇卢江
  • 11篇李凡庆
  • 10篇张庶元
  • 9篇陈志文
  • 7篇贾云波
  • 6篇陆斌
  • 6篇周贵恩
  • 6篇谭舜
  • 3篇李碧琳
  • 3篇黄允兰
  • 3篇张国赏
  • 2篇邢锦云
  • 2篇王奎仁
  • 2篇范成高
  • 2篇洪吉安
  • 2篇俞跃辉
  • 2篇林成鲁
  • 2篇李齐
  • 2篇邹世昌
  • 2篇周有勤

传媒

  • 6篇科学通报
  • 2篇Journa...
  • 2篇物理学报
  • 2篇光谱学与光谱...
  • 2篇电子显微学报
  • 1篇低温与超导
  • 1篇无机材料学报
  • 1篇半导体杂志
  • 1篇电子科学学刊
  • 1篇政治经济学季...
  • 1篇第八次全国电...
  • 1篇中国物理学会...

年份

  • 1篇2024
  • 1篇1997
  • 1篇1996
  • 4篇1995
  • 5篇1994
  • 3篇1992
  • 5篇1991
  • 1篇1989
  • 2篇1988
25 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
富勒烯甲苯溶液结晶的研究
采用类似于 Kratschmer 等人的方法得到包含有 CC等富勒烯的烟灰,经甲苯溶液提取得到 C约 85%,C约15%的混合物。用层析法分离 C和 C,甲苯作溶剂的洗脱液经高压液相分析,分别得到 C纯度为 99%以上的...
李凡庆张国赏卢江陈志文邢锦云贾云波李碧琳陆斌张庶元
文献传递
Bi-Sr-Ca-Cu-O体系中的单斜相与掺Ba效应的研究
1991年
采用固相反应法合成名义组份为Bi_2Sr_2Ca_(1-x)Ba_xCu_2O_y(A),Bi_(1.7)Pb_(0.3)Sr_2Ca_(2-x)Ba_xCu,O_y(B)的样品。此样品的物相和结构分析表明:在Bi系中存在着一种新的单斜相,其晶胞参量为a=24.84A,b=6.29A,c=20.70A,β=114.2°。这种单斜相和Bi系的超导电性存在着一定的关联。对于2212相,当它和单斜相共存时,在磁化曲线上出现95K左右的抗磁转变,且Ba离子的掺入促进这种单斜晶体的生长。对于掺Ba的2223相,电子衍射分析展示Ba离子进入2223相,并致使其晶体微结构产生变化,在沿b轴方向出现新的超结构,而且沿此方向同时观察到周期分别为27A,43A的两种调制模式。物性测试表明,适量Ba的掺杂可使2223相的零电阻温度提高到114K,同时在磁化曲线上出现118K的抗磁转变。这种临界温度的提高可能与2223相晶体的微结构变化有关。
毛志强韩智毅王瑜杨丽卢江范成高周贵恩陈兆甲张裕恒
关键词:BA
高频溅射碳化硅薄膜的退火效应被引量:7
1996年
本文采用高频溅射方法,在抛光Si(111)衬底上制备出碳化硅薄膜,研究了薄膜的高温真空退火效应.实验表明,退火后的薄膜具有较为理想的结晶取向和发光性质.
陈伟王玉霞蔡维理汤洪高石磊卢江胡克良周贵恩赵亚盾钱逸泰
关键词:碳化硅薄膜退火效应
钽/硅多层膜在550℃退火后的局域扩散反应
<正>多层膜提供了一个具有大量界面的扩散、晶化、固相反应的系统。本文研究了在550℃退火后钽/硅多层膜的结构变化。钽/硅多层膜在低温550℃退火时,由于钽、硅原子互扩散的短程性,使得钽与硅反应后形成的二硅化钽晶粒的生长取...
卢江李凡庆陈志文谭舜陆斌张庶元王路春李齐
文献传递
X射线衍射研究(001)MgO单晶上外延生长GdBa_2Cu_3O_(7-x)超导薄膜的晶格相互关系
1992年
磁控溅射法在SrTiO_3单晶衬底上外延生长的YBa_2Cu_3O_(7-x)超导薄膜有很好的轴向晶格匹配。Zr(Y)O_2单晶衬底上YBa_2Cu_3O_(7-x)超导薄膜,由于膜和衬底的晶格常数失配较大,外延生长不是轴向晶格匹配,而是膜晶体绕c轴旋转45°后。
周贵恩石磊黄允兰贾云波卢江李宏成易怀仁王瑞兰张裕恒
关键词:超导体晶格GDBACUO
W/C.Mo/Si,W/si,Pt/si多层膜热稳定性的电镜研究
本文利用横截面电镜试样方法研究了W/C、Mo/Si、W/Si、Pt/Si四种多层膜的热稳定性。它们均生长在Si(100)衬底上,其周期数分别为125,65,288,35。透射电镜实验在H—800上进行。W/C多层膜有未退...
蒋最敏卢江张庶元吴自勤
氧离子和氮离子共注人硅形成绝缘埋层的微观结构及其光学性质
1991年
本文利用俄歇能谱和红外吸收谱研究了硅中O^+(200keV,1.8×10^(18)/cm^2)和N^+(180keV,4×10^(17)/cm^2)共注入、并经1200℃、2h退火后所形成的绝缘埋层的微观结构及其光学性质。结果表明:O^+和N^+共注入所形成的绝缘埋层是由SiO_2相和不饱和氧化硅态组成;在氧化硅埋层的两侧形成氮氧化硅薄层;表面硅-埋层的界面和埋层-体硅的界面的化学结构无明显差异。通过对波数范围在5000—1700cm^(-1)的红外反射谱的计算机模拟,得到了该绝缘埋层的折射率、厚度等有关的参数值,这些结果与离子背散射谱的分析结果相一致。本文还讨论了绝缘埋层的形成特征。
俞跃辉林成鲁朱文化邹世昌卢江
关键词:离子注入绝缘埋层微观结构光学
富勒烯甲苯溶液结晶的研究
1994年
富勒烯甲苯溶液结晶的研究李凡庆,张国赏,卢江,陈志文,邢锦云,贾云波,李碧琳,陆斌,张庶元(中国科技大学结构分析开放研究实验室,合肥230026)采用类似于Kratschmer等人 ̄[1]的方法得到包含有C_(60)C_(70)等富勒烯的烟灰,经甲苯...
李凡庆张国赏卢江陈志文邢锦云贾云波李碧琳陆斌张庶元
关键词:富勒烯甲苯碳60碳70
金牙微细粒金矿床首次发现含铂汞金矿、汞金矿和铂金矿被引量:9
1992年
滇、黔、桂金三角是我国重要的微细粒金矿床分布区。作者在研究该区金牙微细粒金矿床中金的賦存状态时首次发现了含铂汞金矿、汞金矿和铂金矿,这对金牙金矿床的矿物学和金的提取工艺研究以及矿床成因探讨都有重要意义。
王奎仁周有勤李凡庆卢江洪吉安
关键词:金矿床
碘插入Bi-Sr-Ca-Cu-O晶体的结构变化
1992年
Xiang等报道了碘插入Bi_2Sr_2Ca_1Cu_2O_y高T_c超导体的初步物理特征,原晶体c轴为30.82,插入碘后的晶体c轴变为37.78。该文作者认为碘插入晶体后,在每个c周期中增加了一个3.5厚的碘层。原晶体的超导转变温度在82K到90K的范围,插入碘后的2212相晶体除了超导转变范围很窄(T_c=80K)外,没有发生根本变化。陈祖耀研究组重复了Xiang等人的工作,并对Bi系其它相晶体做碘插入研究。
周贵恩黄允兰贾云波卢江石磊陈祖耀顾震天钱逸泰汪习清张裕恒
关键词:BISRCACUO晶体结构超导体
共3页<123>
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