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夏磊

作品数：8 被引量：20H指数：3
供职机构：东华大学更多>>
发文基金：上海市科委纳米专项基金国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学电气工程电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇学位论文
  • 2篇专利

领域

  • 4篇理学
  • 1篇电子电信

主题

  • 5篇常压等离子体
  • 3篇气相沉积
  • 3篇化学气相
  • 3篇化学气相沉积
  • 3篇硅基
  • 2篇等离子体
  • 2篇体气
  • 2篇脉冲偏压
  • 2篇光材料
  • 2篇光致
  • 2篇光致荧光
  • 2篇发光
  • 2篇发光薄膜
  • 2篇发光材料
  • 1篇多孔
  • 1篇荧光
  • 1篇阻挡放电
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米多孔
  • 1篇介质

机构

  • 6篇东华大学

作者

  • 6篇夏磊
  • 4篇徐金洲
  • 4篇张菁
  • 3篇郭颖
  • 2篇周荃
  • 2篇刘磊
  • 2篇杨沁玉

传媒

  • 2篇东华大学学报...

年份

  • 1篇2010
  • 3篇2008
  • 2篇2007
共 8 条 记 录，以下是 1-6
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排序方式：
纳米多孔硅基薄膜的常压等离子体化学气相沉积过程研究被引量：4
2008年
采用常压等离子体化学气相沉积(APECVD)的方法制备了带有新颖结构和特殊蓝紫光(400nm左右)发光特性的硅基薄膜.通过在自行研制的等离子体反应装置中通入按100∶1∶1的体积比进行配比的SiH4∶H2∶Ar混合气体进行APECVD,在加负偏压条件下获得了由Si基组成的絮状多孔纳米结构薄膜.通过等离子体发射光谱测定了沉积过程中的电子温度在2.2eV左右,扫描电子显微镜(SEM)观测薄膜表面形貌后肯定了偏压对薄膜纳米结构的形成起着重要的作用.
夏磊周荃徐金洲张菁
介质阻挡放电及其在聚合物表面刻蚀中的应用被引量：1
2008年
介质阻挡放电(DBD)是在大气压条件下产生非平衡等离子体的一种常规技术,在许多方面有着广泛的应用.介绍了笔者自行研制的DBD装置,讨论了使用该装置所产生的常压低温等离子体对聚合物材料表面刻蚀处理后,材料上染率、粗糙化、润湿性、生物相容性和表面形貌等方面的变化.探讨了DBD在这些方面的应用前景.
周荃夏磊徐金洲郭颖张菁
关键词：等离子体表面处理
常压等离子体化学气相沉积制备纳米多孔硅基薄膜的过程和特性研究
本文中主要阐述了通过常压介质阻挡放电等离子体化学气相沉积(APECVD)方法，利用硅烷(SiH4)为硅源，与氩气(Ar)、氢气(H2)按照一定配比混合，在不同的反应条件下进行气相沉积反应，并通过引入脉冲负偏压调节薄膜的微...
夏磊
关键词：等离子体化学气相沉积光致荧光
文献传递
常压等离子化学气相沉积制备纳米多孔硅基薄膜的过程和特性研究
本文中主要阐述了通过常压介质阻挡放电等离子体化学气相沉积(APECVD)方法，利用硅烷(SiH)为硅源，与氩气(Ar)、氢气(H)按照一定配比混合，在不同的反应条件下进行气相沉积反应，并通过引入脉冲负偏压调节薄膜的微观结...
夏磊
关键词：光致荧光
文献传递
常压等离子体气相沉积制备纳米硅基多孔发光材料的方法
本发明涉及一种常压等离子体气相沉积制备纳米硅基多孔发光材料的方法，包括步骤：(1)沉积基片置于立体梳状电极之下，用机械泵将反应室中的空气除去；(2)通过进气口的莲蓬头通入混合气体，调节混合气体流速，控制沉积室气压为常压附...
杨沁玉夏磊刘磊徐金洲郭颖张菁
文献传递
常压等离子体气相沉积制备纳米硅基多孔发光材料的方法
本发明涉及一种的常压等离子体气相沉积制备纳米硅基多孔发光材料的方法，包括步骤：(1)沉积基片置于立体梳状电极之下，用机械泵将反应室中的空气除去；(2)通过进气口的莲蓬头通入混合气体，调节混合气体流速，控制沉积室气压为常压...
杨沁玉夏磊刘磊徐金洲郭颖张菁
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