徐均琪
- 作品数：251 被引量：474H指数：11
- 供职机构：西安工业大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国际科技合作与交流专项项目陕西省自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信一般工业技术机械工程更多>>
- 光学窗口用低应力类金刚石薄膜被引量：1
- 2018年
- 类金刚石(DLC)薄膜自身具备较好的光学性能,从而在红外光学窗口具有极大的应用前景,但其残余应力决定了薄膜的稳定性。基于射频磁控溅射技术,在双面抛光Si(100)基底上,采用射频功率350 W、本底真空2. 0×10^(-7)Pa、溅射气压7. 1×10^(-3)Pa、氩气流量50 mL/min等工艺,沉积厚度为2. 5785μm、残余应力为0. 9 GPa的DLC薄膜,膜基结合力良好。Raman光谱测试显示薄膜具备DLC薄膜特性。轮廓仪测试的S_q为0. 957 nm,样品表层较为平滑。利用剥离法,用3M胶带检测薄膜附着力等级达到3B,未出现薄膜脱离现象。
- 王娜吴慎将苏俊宏徐均琪王可瑄
- 关键词：光学窗口射频磁控溅射类金刚石薄膜光学特性表面形貌
- 非平衡磁控溅射类金刚石薄膜的特性被引量：13
- 2005年
- 非平衡磁控溅射(UBMS)结合了普通磁控溅射(MS)和离子束辅助沉积的优势,易于实现离子镀,近年来得到了广泛的应用。采用该技术制备的类金刚石薄膜(DLC)具有许多独特的性质。本文研究了非平衡磁控溅射技术制备DLC薄膜的光学、机械,电学和化学性能。研究表明,非平衡磁控溅射制备的DLC膜具有较宽的光谱透明区,且表面光滑、摩擦系数小、耐磨损、抗化学腐蚀,同时具有较高的电阻率和良好的稳定性。
- 徐均琪杭凌侠惠迎雪
- 关键词：类金刚石薄膜离子束辅助沉积DLC薄膜DLC膜溅射制备
- 1064 nm激光高反膜残余应力及其形变分析被引量：1
- 2022年
- 目的由于光学薄膜自身的残余应力,致使镀膜前后基底面型变化较大。针对这一问题,本文制备单层膜和激光高反膜,明确单层膜应力机制,以此研究不同膜系高反膜的应力情况及其面型变化,通过增加压应力补偿层减小面型变化,为制备微变型激光高反镜提供方法。方法从理论上分析单层膜残余应力机制,采用等效参考温度的方法代替光学薄膜本征应力的效果,通过仿真方法得到薄膜的本征应力。使用有限元分析和试验方法研究激光高反膜的残余应力情况。以单层膜试验为依据,使用等效参考温度、生死单元和载荷步技术,仿真分析多层膜–基系统的残余应力分布及其面型变化。采用电子束热蒸发技术制备不同的高反膜,通过Zygo激光干涉仪测试其镀膜前后的面型,分析基底初始面型、膜料和膜系对高反镜面型的影响。结果仿真发现,多层膜–基系统残余应力呈现层状分布,从基底到膜层由拉应力变为压应力,再由压应力变为拉应力。在残余应力作用下,整个多层膜–基系统呈凹形,位移呈环状分布。对于TiO_(2)/SiO_(2)组合,通过分析对比不同膜系下对应每一层膜层的残余应力及其对整体面型的影响,发现膜系G│(HL)^(10)H2L│A比G│(HL)^(10)H│A面型的变化更小。试验发现,通过增加压应力补偿层使得高反膜的残余应力减小,高反镜(熔石英基底,ϕ30 mm×2 mm)的面型基本没有变化(ΔPV=0.004λ),这与仿真结果一致。结论熔石英基底上TiO_(2)、HfO_(2)、H4和SiO_(2)的本征应力在残余应力中起主导作用,TiO_(2)、HfO_(2)和H4一般表现为拉应力,SiO_(2)表现为压应力。不同膜料组合的高反膜体系均表现为压应力。膜系G│(HL)^(10)H2L│A比G│(HL)^(10)H│A残余应力和面型变化更小,其残余应力为-39.70 MPa,比不加补偿层减小了22.26 MPa,面型基本没有变化。当加2L应力补偿层时,在满足光谱特性的基础上可�
- 李阳徐均琪苏俊宏袁松松刘祺刘政
- 关键词：多层膜残余应力生死单元
- 中红外集成双通道滤光片的制备方法
- 本发明为一种中红外集成双通道滤光片的制备方法，其克服了现有技术中光谱仪微型化程度得不到保证以及不能实现任意光谱或者大范围光谱分光的问题，本发明能够完成任意光谱或大范围光谱的分光，微型化与集成化程度更高。本发明包括以下步骤...
- 周顺张立宇张凯峰刘卫国郭峰徐均琪吴春芳李坤
- 微小喷嘴零件内孔图像检测技术研究
- 喷嘴零件是影响发动机性能的一个重要部件,体积小,轮廓复杂的特点使得其检测工作十分困难,尤其是喷嘴零件的内孔,一直是检测工作中的一大难题。传统的接触式检测方法因难以夹持,易造成表面损伤而导致被测件报废。本文就喷嘴零件内孔检...
- 张良苏俊宏杨利红徐均琪
- 文献传递
- 脉冲离子源所镀膜层厚度分布曲线的测量被引量：2
- 2002年
- 为了解决大面积类金刚石薄膜的均匀性,首先要研究脉冲离子源所镀制的类金刚石薄膜的厚度分布曲线。针对这一目的,做了大量工艺实验,在不同的脉冲离子源电源参数(主回路电压,脉冲频率)、基片高度以及磁场等工艺参数下制备了样品,并选择了一种合适的膜厚测量仪器进行了膜厚分布测量,获得了在各种工艺参数下脉冲离子源所镀膜层厚度的分布曲线。
- 蔡长龙王季梅李刚杭凌侠徐均琪严一心
- 非平衡磁控溅射DLC薄膜应力研究被引量：3
- 2005年
- 类金刚石(DLC) 薄膜可用作红外增透保护膜,高的薄膜残余应力造成薄膜附着力下降是目前应用中存在的主要问题之一.本文从DLC薄膜作为红外增透保护膜的需求出发,采用非平衡磁控溅射技术生长DLC薄膜.实测了薄膜的残余应力,分析研究了薄膜残余应力在不同工艺条件下的变化情况.探讨了薄膜残余应力与薄膜厚度、光学透过率、离子能量、沉积速率以及能流密度之间的关系.研究结果表明,薄膜残余应力平衡值在0.9～2.2GPa之间,相应的单面镀膜样片的透过率在4μm波长处为69% ～ 63%,随工艺的不同而变化.工艺优化后薄膜残余应力显著下降.硅基底上薄膜与基底剥离的力的临界值大于2160GPa·nm,最大薄膜厚度≥ 2400nm;锗基底上最大薄膜厚度≥ 2000nm,可以满足整个红外波段的需求.
- 杭凌侠Y.YIN 徐均琪李建超
- 关键词：应力类金刚石薄膜非平衡磁控溅射
- 钛酸镧薄膜的制备及工艺优化被引量：3
- 2015年
- 为了获得制备钛酸镧(LaTiO3)薄膜的最优工艺条件,采用电子束热蒸发技术在K9基底上制备了单层LaTiO3激光薄膜。研究了不同工艺条件对LaTiO3薄膜激光损伤特性的影响。研究结果表明,对LaTiO3薄膜激光损伤阈值(laser-induced damage threshold,LIDT)影响最大的工艺条件是沉积温度,其次是工作真空度,最后是蒸发束流。获得了制备单层LaTiO3激光薄膜的最优工艺条件:沉积温度175℃、工作真空度2.0×10-2 Pa、蒸发束流120mA(8keV);证明了最优工艺下制备的LaTiO3薄膜具有良好的激光损伤特性、稳定性以及重复性,所制备LaTiO3薄膜的激光损伤阈值为16.9J/cm2(1 064nm,10ns)。
- 杭良毅徐均琪程耀进苏俊宏
- 关键词：激光损伤
- 一种基于空间载频干涉法的相位解包新算法
- 干涉图的处理是光干涉计量中的关键技术。现代干涉测量技术具有高精度、非接触性和大视场等的测量优点。采用泰曼一格林型干涉系统,建立被测物与干涉相位之间的数学模型,通过数字图像算法编制软件处理,从而实现薄膜样片厚度的自动化测量...
- 万文博苏俊宏杨利红徐均琪
- 文献传递
- 金属高反膜的激光损伤特性研究
- 高反膜的抗激光损伤特性严重影响着激光系统中激光器的有效输出功率的提高.因此提高高反膜的抗激光损伤特性就成为了关键.在热蒸发真空镀膜机中采用阻蒸发法制备Ag膜，用轮廓仪测试薄膜厚度，在激光损伤测试仪上测试薄膜的抗激光损伤阈...
- 苏俊宏侯妮妮徐均琪
- 关键词：烘烤温度损伤阈值
