杨保雄
- 作品数：14 被引量：18H指数：3
- 供职机构：北京科技大学更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信化学工程更多>>
- 激光窗口材料氯化钾晶体类金刚石防潮保护膜
- 本发明提供了一种强激光窗口材料KCL晶体类金刚石防潮保护碳膜的制造方法，即采用高纯石墨靶在高纯氢气气氛中的直流溅控溅射方法制备类金刚石碳膜。其溅射功率为100-1200瓦，氩压为5-13Pa。并在溅射前“洗靶”。类金刚石...
- 吕反修杨保雄叶锐曾程德刚于文秀孙金标
- 文献传递
- 聚乙烯促进低压气相金刚石成核的机理被引量：1
- 1994年
- 研究了在微波等离子体化学气相沉积（ＭＰＣＶＤ）条件下，聚乙烯对金刚石在单晶硅衬底上形核的影响．发现预先涂覆在硅衬底的聚乙烯显著地促进了金刚石的形核；提出了聚乙烯促进金刚石形核的机理和具有ＳＰ３杂化结构的含碳活化粒子过饱和度概念及其促进金刚石形核的观点．
- 王建军吕反修杨保雄
- 关键词：晶核聚乙烯金刚石膜成核
- 磁控溅射类金刚石碳膜的显微硬度被引量：1
- 1991年
- 采用显微硬度测试方法,研究在单晶硅衬底上沉积厚度仅为0.09-0.56μm的磁控溅射类金刚石碳膜的力学性能。结果表明,溅射碳膜的硬度随溅射工艺参数呈规律性变化,且可以和碳膜的类金刚石性质以及碳膜结构的SP^3和SP^2成分的变化相联系。采用Johnson复合硬度模型进行的分析表明,溅射碳膜的真实硬度在HV6000-6600之间,比天然金刚石的硬度略低。溅射类金刚石碳膜具有明显的压痕尺寸效应(ISE),其指数约为m=1.9。
- 吕反修杨金旗杨保雄叶锐曾
- 关键词：显微硬度类金刚石碳膜溅射
- 聚乙烯对低压气相沉积金刚石成核的促进作用被引量：1
- 1993年
- 王建军吕反修杨保雄
- 关键词：金刚石形核聚乙烯气相沉积
- 微波法低温沉积细晶粒金刚石薄膜
- 本发明提供了一种用化学气相沉积工艺沉积可用于光学及电学领域的金刚石薄膜技术。其特征在于工作气体中含有0.1-10%的高纯氧气，0.1-10%的高纯甲烷，剩余为高纯氢气，工作气体的压力为1-100t，在金则石膜沉积过程中微...
- 杨保雄吕反修蒋高松叶锐曾
- 文献传递
- 基片预处理工艺对CVD金刚石成核行为的影响
- 1993年
- 本文采用微波等离子体辅助化学气相沉积工艺,对不同预处理的(100)单晶硅基片上金刚石的成核行为进行了初步研究,并利用定量金相及扫描电子显微镜分析了金刚石的成核速率及晶体特征。由此提出了用0.1μm超细金刚石粉对基片的研磨工艺。该工艺可有效提高金刚石成核率,从而有助于获得晶粒细小均匀,表面粗糙度低的金刚石薄膜。采用C60涂复并结合研磨工艺,使成核率获得了进一步提高。
- 杨保雄陈俊王建军吕反修
- 关键词：金刚石成核化学气相沉积基片预处理
- 金刚石薄膜的低温沉积研究
- 1995年
- 采用微波等离子体辅助化学气相沉积法成功地在２８０～４４５℃沉积了金刚石薄膜。发现低温沉积的金刚石薄膜的形核密度随着温度的降低可得到极大提高；表面粗糙度随着温度的降低可得到大幅度的降低。
- 王建军吕反修杨保雄
- 关键词：金刚石薄膜微波等离子体
- MPCVD低温沉积金刚石薄膜及其特征被引量：5
- 1992年
- 应用微波等离子体辅助的化学气相沉积(MPCVD)工艺成功地实现了金刚石薄膜在700-790℃范围内的低温沉积.发现氧在CH_4-H_2系统中的引入不仅可以减小或消除Raman谱上位于1550cm^(-1)的非金刚石特征峰,而且还使位于1332cm^(-1)的金刚石特征峰半高宽显著减小。正是由于原子态氧在较低温度下具有远比原子态氢强烈得多的对石墨和类金刚石碳的刻蚀作用,才用金刚石的低温生长得以顺利进行。本文详细报导了金刚石薄膜低温沉积工艺及其所得薄膜的表征结果,并就Bachmann等最近提出C-H-O金刚石相图针对低温沉积数据进行了讨论。
- 吕反修杨保雄蒋高松
- 关键词：金刚石薄膜微波等离子体
- 微波法低温沉积细晶粒金刚石薄膜
- 本发明提供了一种用化学气相沉积工艺沉积可用于光学及电学领域的金刚石薄膜技术。其特征在于工作气体中含有0.1—10％的高纯氧气，0.1—10％的高纯甲烷，剩余为高纯氢气，工作气体的压力为1—100τ，在金刚石膜沉积过程中微...
- 杨保雄吕反修蒋高松叶锐曾
- 文献传递
- 微波等离子体CVD金刚石薄膜的显微结构被引量：5
- 1994年
- 用扫描电镜（ＳＥＭ）和透射电镜（ＴＥＭ）对６种微波等离子体ＣＶＤ金刚石薄膜的表面形态和显微结构进行了研究．结果表明：在金刚石晶粒长大过程中，（１１１）面方向长大时产生密度很高的微孪晶缺陷，而（１００）面方向长大时产生的晶体缺陷较少．
- 袁逸杨保雄白元强王建军吕反修
- 关键词：金刚石显微结构MPCVD
