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柳沥翔

作品数:5 被引量:17H指数:3
供职机构:北京航空航天大学材料科学与工程学院空天材料与服役教育部重点实验室更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:化学工程理学一般工业技术更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇化学工程
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 3篇酸酯
  • 3篇碳酸酯
  • 3篇聚碳酸
  • 3篇聚碳酸酯
  • 2篇正硅酸乙酯
  • 2篇涂层
  • 2篇耐磨
  • 2篇耐磨涂层
  • 2篇光学
  • 2篇硅酸
  • 2篇PC
  • 1篇性能表征
  • 1篇溶胶
  • 1篇溶胶-凝胶
  • 1篇色谱
  • 1篇色谱法
  • 1篇平板
  • 1篇气相
  • 1篇气相色谱
  • 1篇气相色谱法

机构

  • 4篇中航工业北京...
  • 3篇北京航空航天...
  • 1篇北京化工大学

作者

  • 5篇柳沥翔
  • 4篇陈宇宏
  • 3篇周克斌
  • 2篇詹茂盛
  • 1篇袁渊
  • 1篇丁雪佳

传媒

  • 2篇工程塑料应用
  • 1篇功能材料
  • 1篇航空材料学报

年份

  • 2篇2012
  • 2篇2011
  • 1篇2010
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
基于甲基三甲氧基硅烷/正硅酸乙酯的聚碳酸酯耐磨涂层被引量:6
2012年
以甲基三甲氧基硅烷(MTMS)水解聚合产物作为主要成膜物质,引入正硅酸乙酯(TEOS)水解产物硅溶胶作为无机增强物,采用溶胶凝胶法在聚碳酸酯(PC)表面形成耐磨涂层。结果表明:PC表面形成了Si—O—Si的交联网络结构。通过测试耐磨实验前后光学性能的变化研究表面涂覆涂层的聚碳酸酯的耐磨性能与涂层组分之间的关系。当涂层原料MTMS和TEOS的摩尔比为2∶1时,聚碳酸酯的耐磨性能达到最优,500次摩擦后雾度为13.22%,为纯PC的56.21%。
陈宇宏柳沥翔詹茂盛周克斌
关键词:甲基三甲氧基硅烷正硅酸乙酯耐磨涂层
正硅酸乙酯为无机组分前驱体的聚碳酸酯耐磨涂层被引量:4
2012年
以正硅酸乙酯(TEOS)作为无机组分的前驱体,甲基三甲氧基硅烷(MTMS)水解聚合产物作为有机组分,通过溶胶-凝胶法在聚碳酸酯(PC)表面形成耐磨涂层。红外光谱分析表明该涂层具有Si—O—Si的交联网络结构。研究了MTMS和TEOS的摩尔比对涂层的光学性能、硬度、附着力和耐磨性能的影响。结果表明,当MTMS和TEOS的摩尔比为2∶1时,涂层的综合性能达到最优,该涂层在经历500次耐磨试验后的雾度为12.69%,而纯PC的雾度增至42.38%。采用SEM和TEM分析了MTMS/TEOS具有优异耐磨性能的原因在于该涂层具有纳米SiO2粒子分散于有机基体的微观结构。
陈宇宏柳沥翔詹茂盛
关键词:涂层耐磨溶胶-凝胶聚碳酸酯
注射压缩成型和注射成型平板的光学性能对比研究被引量:7
2010年
研究了注射成型和注射压缩成型平板的光学性能特点,然后对两者光学性能的差异进行了分析。结果表明,注射成型平板的光学畸变和角偏差大,与其残余应力大且分布范围宽有关;而注射压缩成型平板的残余应力相对较小且分布范围较窄,型腔压力分布更为均匀,从而成型平板具有更低的光学畸变和角偏差。
陈宇宏袁渊周克斌柳沥翔
关键词:注射成型注射压缩成型角偏差残余应力
PC和PCCD应力光学系数的理论计算与比较
基于聚合物流变理论,通过采用MOPAC软件包计算出了聚碳酸酯(PC)和聚(1,4-环已烷二甲酸-1,4-环己烷二甲醇)酯(PCCD)的极化率,然后计算出了PC和PCCD在熔融状态下的应力光学系数Cm,结果表明PC的Cm远...
柳沥翔陈宇宏詹茂盛
关键词:聚碳酸酯光学材料性能表征
PC与PCCD相容性的研究
2011年
用溶解度参数法包括三维溶解度参数基团贡献计算法、反气相色谱法以及差示扫描量热(DSC)法研究了聚碳酸酯(PC)和聚(1,4-环己烷二甲酸-14,-环己烷二甲醇)酯(PCCD)的相容性。研究了色散、极性和氢键作用力对PC和PCCD相容性的影响。用基团贡献计算法得到PC和PCCD的三维溶解度参数非常接近,并且每一维度(即色散,极性,氢键)的溶解度参数都很接近;反气相色谱法结果显示PC的溶解度参数为18.1(J/cm3)1/2,PCCD的溶解度参数为17.3(J/cm3)1/2,两者的溶解度参数也很接近;DSC结果显示两者共混物只有一个玻璃化转变温度(Tg),且在两单组分Tg之间。这三种方法都证实了PC和PCCD是完全相容的。
周克斌陈宇宏丁雪佳柳沥翔
关键词:基团贡献法反气相色谱法DSC相容性
共1页<1>
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