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文献类型

  • 4篇专利
  • 1篇会议论文

领域

  • 1篇一般工业技术

主题

  • 3篇溅射
  • 2篇底盘
  • 2篇真空
  • 2篇真空热处理
  • 2篇真空室
  • 2篇托盘
  • 2篇防护膜
  • 2篇高温稳定性
  • 2篇
  • 2篇
  • 2篇磁体
  • 1篇一致性
  • 1篇直流磁控
  • 1篇直流磁控溅射
  • 1篇微观形貌
  • 1篇理化性能
  • 1篇非晶
  • 1篇非晶薄膜
  • 1篇高通量
  • 1篇AI

机构

  • 5篇中国科学院宁...

作者

  • 5篇聂霞
  • 5篇冒守栋
  • 5篇宋振纶
  • 2篇郑必长
  • 2篇张丽娇
  • 1篇杨丽景

年份

  • 3篇2017
  • 1篇2016
  • 1篇2015
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
用于研究多元薄膜结构和性能的实验装置
本发明提供了一种用于研究多元薄膜结构和性能的实验装置,包括真空室、溅射源、底盘和样品托盘,所述溅射源、所述底盘和所述样品托盘均安装在所述真空室内,所述样品托盘安装在所述底盘上,所述样品托盘设置在所述溅射源的溅射范围内。本...
宋振纶聂霞冒守栋晏敏胜郑必长
文献传递
AI系二元薄膜的高通量制备研究
非晶合金由于没有晶态材料中常见的晶界、缺陷,宏观上表现为各向同性,具备很多晶体材料所不具备的物理和化学性质.非晶薄膜在理论上比块体非晶合金更容易获取.本文采用一种高通量的沉积方法选取具有非晶形成可行性研究较多的Al-Ti...
聂霞丁雪峰冒守栋杨丽景宋振纶
关键词:直流磁控溅射微观形貌理化性能
用于研究多元薄膜结构和性能的实验装置
本发明提供了一种用于研究多元薄膜结构和性能的实验装置,包括真空室、溅射源、底盘和样品托盘,所述溅射源、所述底盘和所述样品托盘均安装在所述真空室内,所述样品托盘安装在所述底盘上,所述样品托盘设置在所述溅射源的溅射范围内。本...
宋振纶聂霞冒守栋晏敏胜郑必长
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一种用于钐钴磁体工件表面防护的方法
本发明公开了一种用于钐钴磁体工件表面防护的方法,在预处理的钐钴磁体工件表面沉积Ni系薄膜,再经真空热处理,得到表面防护的钐钴磁铁。本发明中,通过在钐钴磁铁表面沉积得到结构致密的Ni系薄膜,能够有效隔绝氧化介质,在Ni系薄...
宋振纶冒守栋晏敏胜聂霞张丽娇
文献传递
一种用于钐钴磁体工件表面防护的方法
本发明公开了一种用于钐钴磁体工件表面防护的方法,在预处理的钐钴磁体工件表面沉积Ni系薄膜,再经真空热处理,得到表面防护的钐钴磁铁。本发明中,通过在钐钴磁铁表面沉积得到结构致密的Ni系薄膜,能够有效隔绝氧化介质,在Ni系薄...
宋振纶冒守栋晏敏胜聂霞张丽娇
文献传递
共1页<1>
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