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文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇液态金属离子...
  • 1篇微细
  • 1篇微细加工
  • 1篇钨丝
  • 1篇离子束
  • 1篇聚焦离子束
  • 1篇

机构

  • 1篇清华大学

作者

  • 1篇袁忠远
  • 1篇张克潜
  • 1篇董桂芳
  • 1篇应根裕
  • 1篇汪健如

传媒

  • 1篇微细加工技术

年份

  • 1篇1998
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
镓液态金属离子源的制备被引量:11
1998年
镓液态金属离子源广泛应用于聚焦离子束技术 ,本文介绍了一种利用电子轰击的方法制备镓液态金属离子源的工艺和设备 ,测试了源的 I- V发射特性曲线 ,d I/ d V≈ 0 .0 5 ( μA/ V) ,进行了新旧工艺下电流发射稳定度的比较 ,最佳源发射稳定度大于 95 % ,寿命大于 1 0 0 0小时。
董桂芳袁忠远汪健如应根裕张克潜
关键词:液态金属离子源聚焦离子束微细加工钨丝
共1页<1>
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