邓守权
- 作品数：25 被引量：66H指数：5
- 供职机构：同济大学电子与信息工程学院更多>>
- 发文基金：高等学校骨干教师资助计划教育部高校骨干教师资助计划更多>>
- 相关领域：电子电信化学工程环境科学与工程建筑科学更多>>
- 四种阻垢剂与Mg^(2+)之间的配位化学作用研究被引量：4
- 2004年
- 本文采用酸碱电位滴定分析方法,运用先进的数据处理程序-BEST程序,通过建立恰当的配位化学模式,研究了水溶液中四种阻垢剂:氨基三甲叉磷酸(ATMP)、2-磷基-1,4-丁三酸(PBTCA)、聚丙烯酸(PAA,MW=2000)、马丙共聚物(PMAAA,MW =3000)自身的解离以及与Mg2+离子间的配位化学作用,得到相应的配合物稳定常数,作出各种配合物在不同pH值下形态分布图,并对阻垢机理的解释提供一定的理论基础。
- 闻瑞梅邓守权朱志良范伟张亚峰
- 关键词：阻垢剂PBTCA阻垢机理ATMP配位化学解离
- ATMP对钙、镁离子阻垢作用机理的配位化学研究被引量：7
- 2003年
- 采用电位滴定方法,运用先进的配位常数计算程序,通过恰当配位化学模型的建立,研究了水溶液中氨基三亚甲基膦酸(ATMP)自身的解离以及与Ca2+、Mg2+离子间的配位化学作用,测定了相应的解离常数和配合物稳定常数,并得到了各配合物物种在不同pH条件下的形态分布,从溶液配位化学的角度对ATMP的阻垢作用机理进行了讨论。
- 张荣华朱志良邓守权倪亚明
- 关键词：ATMP镁离子阻垢配位化学循环冷却水处理
- 一种去除印染废水色度的方法
- 本发明涉及一种去除印染废水色度的方法，其特点是：首先，在印染废水中加入双氧水，使双氧水在印染废水中的浓度达到0.001mol/L～0.1mol/L；然后，按0.14L～0.70L/min流量用泵将上述配置好的含双氧水的印...
- 闻瑞梅邓守权
- 文献传递
- 电去离子过程中膜堆电阻的研究被引量：5
- 2004年
- 研究了电去离子(EDI)过程膜堆电阻的组成,考察了电压、进水电导率及进水流量等因素对膜堆电阻的影响,探讨了EDI膜堆电阻的表达式.
- 闻瑞梅张亚峰邓守权范伟
- 关键词：电去离子高纯水
- EDI对于去除太空用水中弱电解质——氨的研究被引量：5
- 2005年
- 研究了太空站水的总循环开发中EDI膜堆电流、进水的总氨浓度、进水流量等因素对EDI去除氨的影响,并对各影响因素进行了解释.实验结果显示:在氨进水质量浓度高达208.3mg/L的情况下,出水总氨的质量浓度为0.072mg/L,EDI对氨的去除率为99.97%.
- 闻瑞梅范伟邓守权张亚峰
- 关键词：EDI弱电解质太空站氨浓度去除率
- 半导体工艺用高纯水中硅、硼的去除被引量：5
- 2005年
- 本文主要研究了EDI(Electrodeionization)对高纯水中硅、硼的脱除方法 .通过对电压、进水电导率 (淡室、浓室 )、流量 (淡室、浓室、极室 )、pH值等因素的研究 ,得出EDI最佳脱硅、硼条件 .EDI进水SiO_2 浓度为 10 0 0 μg/L ,最佳出水硅为 2 .6 6 μg/L ,为目前国内最好水平 .EDI进水硼浓度为 5 0 μg/L ,最佳出水中硼含量为 <1μg/L .满足了大规模集成电路用水中硅、硼的要求 (对于兆位电路硅要求 <3μg/L ,硼要求 <1μg/L) .
- 闻瑞梅邓守权张亚峰葛伟伟
- 关键词：电脱盐硼高纯水
- PBTCA与铜、锌、镉、镍离子间的配位化学研究被引量：7
- 2002年
- 采用电位滴定方法 ,运用先进的配位常数计算程序 ,通过恰当配位化学模型的建立 ,研究了水溶液中 2-膦基丁烷 - 1,2 ,4 -三羧酸 (PBTCA)自身的解离以及与Cu2 + 、Zn2 + 、Cd2 + 、Ni2 + 离子间的配位化学作用 ,测定了相应的解离常数和配合物稳定常数 ,并得到了各配合物物种在不同 pH值条件下的形态分布 。
- 朱志良邓守权倪亚明
- 关键词：PBTCA电位滴定配位化学镍离子镉离子
- 杂质离子在EDI中的传质模型被引量：13
- 2003年
- 该文介绍了EDI的工作原理,提出了水中杂质离子在EDI中的四个传质过程,即(1)杂质离子从水相到树脂相的传质;(2)杂质离子在树脂相中的传质;(3)杂质离子从水相到离子选择性交换膜的传质;(4)杂质离子在离子选择性交换膜内的电迁移传质。并推导出上述四个过程的传质速率方程,以利于进一步了解EDI的性能,便于EDI的推广应用。
- 闻瑞梅范伟邓守权张亚峰
- 关键词：杂质离子EDI电去离子传质模型水处理
- 用185nm UV降低水中总有机碳的研究被引量：1
- 2005年
- 研究了用185nmUV降解水中有机物的机理,185nmUV首先光解高纯水,并通过实验测出所形成的H2O2,证实了185nmUV照射水时,可以产生活性中间体HO·等。185nmUV应用到高纯水制备系统中,能有效地将高纯水中的总有机碳(TOC)降低到≤0.3μg/L,满足超大规模集成电路用水的需要。同时185nmUV对废水中的有机物也有较好降解作用,是一种降解水中难生物降解的有毒有害的有机污染物的新方法,有利于丰富高级氧化技术以及环境保护。
- 邓守权闻瑞梅
- 关键词：NMUV总有机碳高纯水
- EDI去除高纯水中弱离子化杂质和185nmUV降解水中有机物的研究以及半导体工艺中排放废气的治理及检测
- 本论文研究了两种高纯水新技术EDI(Electrodeionization)和185nmVU(Vacuum Ultraviolet)来去除水中的弱离子化杂质.研究包括:第一部分,研究EDI去除水中弱离子化杂质(硅、硼、氨...
- 邓守权
- 关键词：半导体工艺废气治理高纯水有机物EDI
- 文献传递
