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陈鹏

作品数：4 被引量：1H指数：1
供职机构：中国科学院兰州物理研究所更多>>
相关领域：金属学及工艺一般工业技术电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 4篇电弧
  • 4篇微粒
  • 2篇离子镀
  • 1篇氮化铁
  • 1篇电弧喷涂
  • 1篇电流
  • 1篇电流关系
  • 1篇电子发射
  • 1篇镀膜
  • 1篇阴极
  • 1篇阴极沉积
  • 1篇真空镀膜
  • 1篇喷涂
  • 1篇冷阴极
  • 1篇离子镀膜
  • 1篇场致电子发射
  • 1篇沉积速率

机构

  • 4篇中国科学院兰...

作者

  • 4篇陈鹏
  • 4篇张世良
  • 3篇胡永年
  • 3篇任妮

传媒

  • 2篇真空与低温
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇中国真空学会...

年份

  • 1篇1990
  • 3篇1989
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
压力对电弧源喷射微粒密度及膜沉积率的影响
1990年
在2.7Pa 至2.7×10^(-2)Pa 氮压力范围,测量了不同压力下电弧源喷射的微粒密度及薄膜沉积速率的变化。随压力升高,微粒密度及膜沉积速率下降。利用 AES 和 SIMS 对不同压力下形成的 TiN 膜及工作后的阴极表面进行了深度剖面分析。最后对实验结果进行了讨论。
张世良陈鹏胡永年洪惠荫任妮孙玉珠
关键词：真空镀膜沉积速率
电弧源喷射微粒及膜沉积率空间分布
张世良陈鹏洪惠荫
关键词：电弧喷涂阴极沉积离子镀镀膜
电弧源喷射微粒及膜沉积率与弧电流关系
1989年
利用冷阴极电弧源镀膜时,源喷射微粒其直径从亚微米至十几微米,随弧流增加,微粒密度、膜沉积率及大直径微粒均上升。本文给出了上述试验结果及按直径分布微粒密度图。给出了阴极工作表面平均温度计算公式,计算了灼坑(CRATER)半径与弧流关系,为合理选择源工作参数,进行源设计提供了依据。
张世良陈鹏洪惠荫胡永年任妮孙玉珠翟晓明
关键词：场致电子发射氮化铁冷阴极
电弧源喷射微粒及膜沉积率空间分布被引量：1
1989年
测量了冷阴极电弧源镀膜时膜沉积率及源喷出的微粒空间分布。为了获得最大沉积率及减少膜层中微粒,给出了工件最佳工作位置选择。
张世良陈鹏洪惠荫胡永年孙玉珠任妮翟晓明
关键词：离子镀膜
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