马胜利
- 作品数：152 被引量：408H指数：11
- 供职机构：西安交通大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划教育部“新世纪优秀人才支持计划”更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术化学工程理学更多>>
- 工业型脉冲直流等离子体化学气相沉积工模具表面强化设备
- 徐可为陶冶何家文马胜利南俊马张凌云朱晓东
- 研制出高技术的工业生产气相沉积设备，真空炉体选用钟罩式结构，利用自重密封，气密性好，真空极限达1帕，炉体内安装加热系统，实现内热式而非马弗式加热，显著提高了加热的效率，炉体设计温度700度，上下温差不超过10度，阴极引入...
- 关键词：
- 关键词：工模具
- 基于灰关联分析的卡门涡街形流道多目标优化被引量：3
- 2015年
- 借鉴流体力学中的卡门涡街形状来设计滴灌灌水器的流道结构。提取关键结构参数,采用数值模拟方法进行正交试验,研究结构参数对性能指标的影响。考虑灌水器水力性能与抗堵性能对流道结构要求的矛盾性,在正交试验的基础上采用灰关联分析的方法,进行流道结构多目标优化。最终优化得到的卡门涡街形流道突扩、突缩、漩涡运动耗能明显,具有良好的水力性能,而且边界光滑无流动死角,沙粒不易在流道内沉积,具有良好的抗堵性能。通过正交试验与灰关联分析结合,获得了流态指数为0.498,粒子通过率为0.951的综合性能良好的滴灌灌水器流道。证明了正交试验基础上的灰关联分析,是面向水力性能与抗堵性能的灌水器流道多目标优化的有效方法,为灌水器流道优化提供了一种良好途径。
- 楚华丽魏正英马胜利苑伟静
- 关键词：卡门涡街数值模拟正交试验灰关联分析
- 残余氧对TiN+Si_3N_4纳米复合薄膜硬度的影响被引量：6
- 2004年
- 用直流等离子体增强化学气相沉积设备在不锈钢表面沉积纳米晶TiN和纳米非晶Si3N4复相薄膜.主要研究了氧元素对薄膜硬度的影响.结果表明,薄膜中极其微量的氧含量就会使nc-TiN+a-Si3N4薄膜的硬度大幅降低.薄膜中氧含量小于0.2％(原子分数),薄膜硬度可以达到45-55 GPa,而氧含量升至1％-1.5％后,薄膜硬度降至30 GPa左右.其原因与晶界处形成SiOx相有关.
- 马大衍马胜利徐可为S.Veprek
- 关键词：PCVDTINSI3N4氧含量
- 电弧增强磁控溅射沉积Ti-Al-Si-C-N硬质厚涂层及其摩擦学性能研究
- 硬质厚涂层在严酷服役条件下可显著改善工件表面的使役性能,延长其使用寿命。近年来因等离子喷涂的硬质厚涂层的致密性和使用性能不足,以及水电镀厚涂层制备过程污染严重等,采用真空镀膜技术沉积硬质厚涂层正逐步显示出巨大优势,已成为...
- 李泽宇马胜利徐可为
- 关键词：摩擦学性能
- 文献传递
- 铝及铝合金阳极氧化膜结构及其应用被引量：32
- 1998年
- 叙述了铝及铝合金的阳极氧化技术研究进展，并重点介绍了阳极氧化膜的组织结构及其新近发现的一些可贵特性，讨论了它的应用前景。
- 马胜利井晓天
- 关键词：阳极氧化铝铝合金
- 气相沉积制备硬质薄膜技术与应用述评被引量：20
- 2002年
- 本文对气相沉积技术的发展与最新趋势给出了述评 ,重点强调了等离子体辅助化学气相沉积 (PCVD)的优势。
- 马胜利徐可为介万奇
- 关键词：硬质薄膜PCVD
- N2流量对电弧离子镀Ti1-xAlxN薄膜成分与微观结构的影响
- 用电弧离子镀方法获得了Ti1-xAlxN纳米晶薄膜;考察了沉积过程中N2流量对薄膜沉积速率、化学成分、晶粒尺寸以及微观结构的影响。结果表明,制备的Ti1-xAlxN薄膜主要由游离态 a-Ti和Ti1-xAlxN固溶体相组...
- 王昕徐建华马胜利徐可为阎逢元
- 关键词：硬质薄膜电弧离子镀微观结构
- 文献传递
- Ti-Si-N功能涂层制备及细胞相容性研究
- 心血管系统疾病目前主要依靠人工移植体来治疗。钛合金是设计制造人工移植体的理想材料,为了有效保护人体组织和延长人工移植体的使用寿命,一般均在钛合金基体上制备具有良好生物相容性的功能涂层。本文采用磁控溅射方法在Ti6Al4V...
- 张明马胜利徐可为朱剑豪
- 关键词：磁控溅射血管内皮细胞细胞相容性
- 一种纯金电化学抛光的新方法被引量：2
- 1998年
- 提出了一种在硫酸基电解液中纯金的电化学抛光方法，讨论了电解液组成浓度及工艺操作参量对纯金电化学抛光表面质量的影响。结果表明：在一定浓度组成的硫酸基电解液中，采用合适的工艺操作参量（ＤＡ，Ｔ，ｔ）可以使现有纯金表面的粗糙度下降两级，而表面光亮度明显提高，并呈鲜艳的金黄色外观。
- 马胜利徐可为井晓天井晓天
- 关键词：电解液电化学抛光纯金粗糙度光亮度
- 一种生物医用NiTi合金表面制备类金刚石涂层的方法
- 本发明公开了一种生物医用NiTi合金表面制备类金刚石涂层的方法，该方法包括下列步骤：将预处理好的基体放入电弧增强磁控溅射离子镀膜设备的转架杆上面，采用平面对靶的方式将平面C靶安置在炉体内壁上；通入氩气到真空室，对真空室和...
- 马胜利杭瑞强
- 文献传递
