冯驰
- 作品数：16 被引量：35H指数：4
- 供职机构：北京工业大学激光工程研究院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金北京市自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信理学机械工程更多>>
- 二极管侧面泵浦薄片激光器热效应模拟分析
- 2010年
- 以在大尺寸复合薄片上获得较好的泵浦均匀性和较高的吸收效率为目的,对泵浦分布进行了理论分析。计算表明,阵列距离27mm、晶体半径11mm和吸收系数0.13mm可获得较好的泵浦均匀性和较高的吸收效率。计算了由温度分布和应变分布造成的相位畸变,总泵浦功率为700W时的相位畸变为0.523μm,总泵浦功率为3024W时的相位畸变为2.258μm。明显小于其它文献中理论计算和实验测量的相位畸变。在较小泵浦功率下对相位畸变进行了初步的实验测量,实验测量结果与理论计算基本一致。该技术可向更大功率扩展。
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- 关键词：ND:YAG薄片激光器侧面泵浦热效应
- 大尺寸Nd:YAG侧面泵浦薄片激光器热效应实验研究被引量：4
- 2011年
- 对二极管侧面泵浦的薄片激光器进行了热效应理论模拟和实验研究。针对大尺寸的复合薄片增益介质的热负荷与表面形变进行了有限元理论分析和数值模拟以及实验研究。在不同的泵浦条件下分别进行了波前相位测量,分析了高功率泵浦情况下,大尺寸薄片状激光晶体的形变状况。实验测量结果表明,大尺寸薄片晶体的表面热形变较小,热耗散功率密度降低,与有限元理论模拟分析的结果基本一致,增大激光增益介质的表面尺寸有利于减小热效应。
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- 关键词：激光技术薄片激光器侧面泵浦
- 纳秒电光调QNd:YVO_4激光器被引量：9
- 2011年
- 介绍了一种新颖的短腔电光调Q窄脉宽激光器,通过分析影响脉宽的主要因素,确定了激光器的结构及参数。在准连续端面泵浦条件下,采用掺杂原子分数为1.0%、沿a轴切成布儒斯特角的Nd:YVO4晶体作为增益介质,直接获得偏振光振荡,有效缩短了腔长。在物理腔长20mm时,采用退压式电光主动调Q结构,减小了插入损耗,获得了脉冲宽度为1.049ns、单脉冲能量为0.32mJ、光束质量平方因子为1.9的稳定激光输出。
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- 关键词：电光调Q激光器
- 二极管侧面泵浦薄片激光器泵浦性能数值仿真被引量：1
- 2012年
- 利用二极管侧面泵浦薄片激光器泵浦分布的对称性,通过泵浦分布中的特殊点对泵浦均匀性进行定量描述的方法,提出了由泵浦均匀性和吸收效率共同表征的泵浦性能指标,并使用该指标对一定范围内的阵列距离、圆薄片晶体尺寸和吸收系数的泵浦性能进行了对比。在一定取值范围内,当圆薄片晶体半径为13 mm、阵列与晶体中心间距为37 mm、吸收系数为0.10 mm-1时,泵浦性能指标达到最小值0.111 0。采用接近最优泵浦性能指标值的泵浦参数进行实验,初步测量了热效应造成的薄片相位畸变,根据泵浦分布计算出的相位畸变分布与实验结果基本相符。文中提出的泵浦性能指标和相应计算结果为薄片激光器的优化设计提供了理论参考。
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- 关键词：ND:YAG薄片激光器侧面泵浦泵浦效率
- 高平均功率六棒串接脉冲Nd:YAG激光器
- 2012年
- 报道了一种腔内六棒串接的脉冲Nd:YAG激光器。采用4×4矩阵对晶体棒失调角度对谐振腔光轴的影响进行了理论分析,给出了六棒串接脉冲激光器中晶体棒失调角度的允许范围。在串接实验中,谐振腔采用对称平平腔结构,通过调整每根晶体棒的失调角度到允许范围内,实现了六棒串接脉冲Nd:YAG激光器。在输入电功率86kW,占空比17%时,获得了平均功率3 018W的脉冲激光输出,峰值功率17.75kW,最高单脉冲能量为66J,光束参数乘积为26.3mm.mrad,电光转换效率3.5%,长时间工作不稳定性小于2%。
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- 关键词：脉冲激光器ND:YAG灯泵浦
- 多棒串接固体激光器晶体棒精确对准方法
- 本发明涉及一种多棒串接固体激光器激光晶体棒的精确对准方法，属于大功率固体激光器技术领域。本发明提供了一种脉冲或者连续激光器中多个晶体棒的串接方法。根据多棒串接谐振腔的腔长L，腔内晶体棒个数N，相邻晶体棒的间距d，晶体棒直...
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- 超高真空离子源晶片清洗系统
- 本发明公开了超高真空离子源晶片清洗系统，包括进样真空室、离子束真空室和磁力传送杆，两真空室由隔离阀门相连接，进样真空室上设有进样阀门、真空泵和观察玻璃窗，离子束真空室上设有观察玻璃窗、真空泵、红外烘烤灯和氢离子源，磁力传...
- 李强冯驰雷訇姜孟华惠勇凌
- 文献传递
- 一种通过控制泵浦光特性实现亚纳秒调Q输出的激光器
- 一种通过控制泵浦光特性实现亚纳秒调Q输出的激光器，属于全固态激光技术领域。它包含了沿光的传播方向依次设置的泵浦源，光纤耦合装置，后腔镜，激光增益介质，电光调Q元件，耦合输出镜，其中后腔镜、激光增益介质、电光调Q元件和耦合...
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- 文献传递
- 超高真空离子源晶片清洗系统
- 本本实用新型公开了超高真空离子源晶片清洗系统，包括进样真空室、离子束真空室和磁力传送杆，两真空室由隔离阀门相连接，进样真空室上设有进样阀门、真空泵和观察玻璃窗，离子束真空室上设有观察玻璃窗、真空泵、红外烘烤灯和氢离子源，...
- 李强冯驰雷訇姜孟华惠勇凌
- 文献传递
- 超高真空离子源晶片清洗系统
- 本发明公开了超高真空离子源晶片清洗系统，包括进样真空室、离子束真空室和磁力传送杆，两真空室由隔离阀门相连接，进样真空室上设有进样阀门、真空泵和观察玻璃窗，离子束真空室上设有观察玻璃窗、真空泵、红外烘烤灯和氢离子源，磁力传...
- 李强冯驰雷訇姜孟华惠勇凌
