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刘雳颋

作品数:4 被引量:18H指数:3
供职机构:中国科学技术大学工程科学学院精密机械与精密仪器系更多>>
发文基金:国家自然科学基金安徽省自然科学基金中国科学院“百人计划”更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 4篇电子电信

主题

  • 3篇紫外光刻
  • 3篇光刻
  • 2篇相干
  • 2篇相干光
  • 1篇信噪比
  • 1篇衍射
  • 1篇衍射效应
  • 1篇遗传算法
  • 1篇正交
  • 1篇正交实验
  • 1篇正交实验法
  • 1篇紫外
  • 1篇仿真
  • 1篇部分相干
  • 1篇部分相干光

机构

  • 4篇中国科学技术...

作者

  • 4篇刘雳颋
  • 3篇郑津津
  • 3篇赵玮
  • 3篇沈连婠
  • 2篇李木军
  • 2篇李晓光
  • 1篇田扬超
  • 1篇范明聪
  • 1篇张峰
  • 1篇王晓东
  • 1篇于磊

传媒

  • 1篇机械工程学报
  • 1篇中国科学技术...
  • 1篇纳米技术与精...

年份

  • 3篇2008
  • 1篇2007
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
接近式紫外光刻中图形失真的分析与预修正仿真被引量:6
2008年
接近式紫外光刻中光刻胶图形形状失真是影响基于紫外光刻工艺的大深宽比微结构质量的重要因素之一。为把握其规律,并探寻减小光刻胶模型形状失真的对策,利用部分相干光理论建立光刻理论模型,计算光刻胶表面的光强分布及变化规律,模拟得到的光刻胶图形轮廓明显地呈现拐角圆化和直边带毛刺等畸变现象。提出一种应用遗传算法的误差预补偿方法,在掩模图形的设计阶段,调整引起衍射的掩模特征形状以实现光刻胶表面的衍射光场调制,并根据光刻胶曝光轮廓特点,提出一种分段分类的思想,设计评价策略,减小问题的求解空间,实现了掩模设计图形的快速优化。结果表明优化补偿后的掩模图形降低了衍射造成的曝光图形的形状失真程度,图形质量得到了显著改善。该研究为提高接近式紫外光刻精度提供了一种新的思路。
李木军沈连婠李晓光赵玮刘雳颋郑津津
关键词:相干光遗传算法
紫外光刻加工误差实验被引量:4
2008年
为研究基于紫外光刻加工技术的光刻胶模型形状误差与工艺参数的关系,利用正交实验法对正性光刻胶AZ9260进行了实验研究引入田口方法关于信噪比统一测度的思想,获得了各加工工艺参数对光刻胶模型加工误差的影响显著度,其中甩胶速度、曝光时间和显影时间为显著因素.对所获得的光刻胶模型电镜图片采用了一种改进的Canny算法,实现了图像边缘提取进而对加工误差的表征与量化方法进行了研究,获得了10~30gm尺度的方形、直线和圆形图形的尺寸误差、直边直线度和直角圆化误差值.研究表明,图形的尺寸误差和直边直线度误差与图形尺寸之比随图形尺寸变大而变小,直角圆化的圆角半径不大于2μm.
刘雳颋沈连婠赵玮于磊张峰田扬超郑津津
关键词:紫外光刻正交实验法信噪比
紫外光刻中部分相干光的传播及衍射效应被引量:9
2007年
基于Hopkins公式,研究了接近式紫外光刻中扩展准单色光源经柯勒照明系统传播到掩模表面上任两点的复相干度,并建立相应的基于部分相干光理论的光刻模型.应用部分相干光的传播理论,研究掩模平面到光刻胶表面任意两点互强度的传播,进而得到光刻胶表面的光强分布.以此为基础,分析了由于掩模与光刻胶之间光的衍射效应而产生的光刻微结构的图形失真.给出了理论模型的计算模拟结果,并用实验对该理论模型的计算结果进行了验证.
李木军沈连婠赵玮李晓光范明聪王晓东刘雳颋郑津津
关键词:部分相干光
紫外光刻加工误差的实验研究
1986年德国教授W.Ehrfeld首先开发的LIGA技术(lithographic、 Galvanformug、Abformug)实现了深度X射线光刻、电铸成型和塑料铸模技术的完美结合,被认为是最有,前途的三维微细加工...
刘雳颋
关键词:紫外光刻
文献传递
共1页<1>
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