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周涛

作品数：2 被引量：1H指数：1
供职机构：同济大学波耳固体物理研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇理学

主题

  • 1篇微型化
  • 1篇NH4
  • 1篇表面处理

机构

  • 2篇同济大学
  • 1篇中国科学院

作者

  • 2篇周涛
  • 1篇张晓青
  • 1篇夏钟福
  • 1篇付晓明
  • 1篇沈莉莉
  • 1篇张家明

传媒

  • 1篇功能材料与器...
  • 1篇中国物理学会...

年份

  • 1篇2007
  • 1篇1991
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
化学表面处理对微型化的氮氧化硅驻极体层电荷储存性能的影响被引量：1
2007年
研究了化学表面处理对微型化的氮氧化硅膜电荷稳定性的影响,考察了表面处理对脱阱面电荷横向扩散的抑止作用。借助对微型化前后的样品在高温和高湿环境中的表面电位衰减测量的对比,研究了不同试剂的表面处理对微型化样品的电荷储存及其动态特性的影响。
沈莉莉夏钟福周涛付晓明张晓青
关键词：表面处理微型化
〔(NH4)0.8K0.8〕2SnCl6的高压Raman光谱
金刚石对顶压机(DAC)技术的发展以及其与Raman光谱结合工作的实现,使我们对晶体的压力下的晶格振动行为的研究成为可能.本文报道ABX类混晶[(NH) K]SnCl室温下,1bar—30 Kbar流体静压力范围内的测量...
张家明周涛姜山单伟谢(音员)沈学础张家明徐永晨
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