常香荣
- 作品数：35 被引量：72H指数：5
- 供职机构：北京科技大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家重点实验室开放基金更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术化学工程金属学及工艺更多>>
- 离子注入法制备β-C_3N_4的研究被引量：3
- 1997年
- <正>超硬材料的研究是材料科学领域的一大重要课题.Cohen等在研究物质的硬度时,得出了一个半经验公式,从而预言了一种碳氮化合物p一qN;可能具有比金刚石还高的硬度~[1-3]
- 顾有松潘礼庆赵敏学常香荣王振军田中卓肖纪美胡仁元
- 关键词：离子注入超硬材料
- 正电子湮灭技术研究多晶形变镍中氢和缺陷的互作用
- 吴奕初田中卓常香荣
- 关键词：镍氢脆湮灭纯金属
- 超硬薄膜β-C_3N_4的制备和表征被引量：5
- 2000年
- 本文采用微波等离子体化学气相沉积 (MPCVD)法 ,用高纯氮气 (99.999% )和甲烷 (99.9% )作反应气体 ,在单晶硅和多晶铂基片上沉积 β -C3N4薄膜。X射线能谱 (EDX)分析了这种晶态C -N膜的化学成分 ,对不同样品的分析结果表明 ,N/C原子比在 1.1～ 2 .0范围内。X射线衍射结构分析结果与计算的α -和 β -C3N4单相X射线的峰位和强度相比较 ,说明它是α -和 β -C3N4的混合物。FT -IR和Raman谱支持C -N共价键的存在。薄膜的体弹性模量达到 349GPa。
- 张永平顾有松常香荣田中卓时东霞张秀芳袁磊
- 关键词：超硬薄膜MPCVD
- 纳米晶软磁薄膜Fe-Ti-N的结构、磁学性能和热稳定性研究被引量：1
- 2003年
- 在高溅射功率900 W 下用RF磁控溅射方法制备了厚为630-780nm的Fe-Ti-N薄膜,结果表明:当膜成分(原了分数, ％.下同)在Fe-3.9Ti-8.8N和Fe-3.3Ti-13.5N范围内,薄膜由α’和Ti2N沉淀组成,磁化强度4πMs超过纯铁,最商可达2.38T:而矫顽力Hc下降为89 A/m.可以满足针对1.55 Gb/cm2高存储密度的GMR/感应式复合读写磁头中写入磁头的需要.N原子进入α-Fe使α’具有高饱和磁化强度;Ti的加入,阻止α’→α’+γ’的分解,稳定了强铁磁性相α’.是Fe-Ti-N具有高饱和磁化强度的原因.由于由晶粒度引起的对Hc的影响程度HcD与晶粒度D有以下关系:HcD∝D6,晶粒度控制非常重要.N原了进入α+Fe点阵的八面体间隙,引起极大的畸变,使晶粒碎化.提高溅射功率也使晶粒度下降.两者共同作用,能使晶粒度下降到约14nm,使Hc下降,晶界是择优沉淀地点,在α’晶界上沉淀Ti2N能起钉扎作用,阻止晶界迁移,使纳米晶α’不能长大。
- 李丹顾有松常香荣李福燊乔利杰田中卓方光旦宋庆山
- 关键词：磁学性能热稳定性磁场热处理
- 高纯铝中不同应变速率拉伸的正电子湮没研究
- 1990年
- 一、引言 一般地讲,金属发生变形时,随着形变量的增加,正电子参数增加,小形变量时,参数增加显著;形变量达到一定程度;参数将趋于饱和。Park等在研究高纯铁单晶的变形时发现,正电子寿命与形变量的变化规律随形变方式(拉伸、弯曲、冷轧)而变。
- 吴奕初王明华常香荣田中卓肖纪美何永枢
- 关键词：高纯铝应变速率正电子湮没
- Fe-N软磁薄膜的性能及其磁场热处理后的各向异性模型被引量：6
- 2002年
- 本文报道了采用RF磁控溅射制备出了高性能的Fe-N薄膜 ,膜厚约 2 0 0nm ,磁场热处理后薄膜中含有α′和少量γ′ ,具有优质的软磁性能 ,饱和磁化强度 2 4T ,高于纯铁的 ,矫顽力小于 80A/m ,2～ 10MHz下的磁导率为15 0 0。然后提出一个模型 ,合理的解释了磁场热处理后薄膜表面的各向异性现象 ,包括不同方向的磁滞回线 ,剩磁比 。
- 李洪明周剑平顾有松常香荣赵春生徐秀英田中卓
- 关键词：FE-N薄膜磁学性能各向异性模型软磁材料
- MPCVD 合成 β-C_3N_4 晶态薄膜被引量：3
- 1999年
- 采用微波等离子体化学气相沉积法（ＭＰＣＶＤ），以Ｎ２、ＣＨ４作为反应气体合成碳氮膜。通过控制反应温度、气体流量、微波功率、反应气压等工艺条件，在Ｓｉ和Ｐｔ基片上，进行β－Ｃ３Ｎ４晶态薄膜的合成研究。扫描电镜（ＳＥＭ）下观察到生长在Ｓｉ基底上的薄膜具有六角晶棒的密排结构。扫描隧道显微镜（ＳＴＭ）下观察到在Ｐｔ基底上生长的碳氮薄膜由针状晶粒组成。ＥＤＸ分析表明，随沉积条件的不同，Ｓｉ基底上的氮碳薄膜中Ｎ／Ｃ在１．０到２．０之间；Ｐｔ基底上生长的碳氮薄膜Ｎ／Ｃ在０．８～１．３之间。Ｘ射线衍射分析（ＸＲＤ）发现薄膜中含有β－Ｃ３Ｎ４和α－Ｃ３Ｎ４。
- 时东霞马立平张秀芳袁磊顾有松张永平段振军常香荣田中卓
- 关键词：MPCVD晶态
- 磁控溅射Fe-N薄膜的结构和性能被引量：3
- 2000年
- 研究了氮流量对磁控溅射Ｆｅ－Ｎ薄膜的磁性和结构的影响．加氮薄膜的软磁性能明显优于纯铁的．当氮的流量为１．０ｍＬ·ｍｉｎ^（－１）时，矫顽力 Ｈ_ｃ达到最小值２０５Ａ／ｍ．当氮流量为０．８ｍＬ·ｍｉｎ_（－１）时，饱和磁化强度达到Ｍ_ｓ＝２．３６Ｔ．在 Ｆｅ－Ｎ薄膜中未发现γ’－Ｆｅ４Ｎ和 α”－Ｆｅ１６Ｎ２．
- 周剑平李华飚乔祎顾有松李丹常香荣赵春生田中卓
- 关键词：磁控溅射饱和磁化强度FE-N薄膜
- 高纯Fe中氢损伤规律的研究被引量：1
- 1992年
- 本文采用正电子湮没技术研究了高纯Fe中的氢损伤规律,实验结果表明,在0.5mol/L H_2SO_4溶液中不加毒化剂电解充氢时,产生氢损伤的临界电流密度为20 mA/cm^2;而在0.5mol/L H_2SO_4溶液中加少量As_2O_3作为毒化剂电解充氢时,即使很小的电流密度也会产生氢损伤,配合慢拉伸试验,还发现试样内部产生氢损伤以后。
- 吴奕初常香荣田中卓肖纪美
- 关键词：氢损伤临界电流密度纯铁
- Fe-N软磁薄膜的结构和性能被引量：1
- 2002年
- 用RF溅射制备厚度为200nm的Fe-N薄膜在250℃,12000A/m磁场下真空热处理后,当N含量在5%~7%(原子百分数)范围内形成a′+a″相时,4πMs可达2.4T,Hc<80A/m,2~10MHz下高频相对导磁率μr=1500,可满足针对10Gb/in2存储密度的GMR/感应式复合读写磁头中写入磁头的需要.Fe-N系薄膜中a′相的形成机理和点阵常数与块状试样按Bain机理形成的a′相有明显的差别,得到了薄膜中a′相的a,c与C_N^a′之间的线性关系式.
- 周剑平李丹顾有松赵春生常香荣李福燊乔利杰田中卓方光旦宋庆山
- 关键词：磁性薄膜软磁薄膜硬盘磁头材料
