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张一心

作品数：1 被引量：0H指数：0
供职机构：中国科学院半导体研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇施主
  • 1篇退火
  • 1篇辐照
  • 1篇SI
  • 1篇碳
  • 1篇氧

机构

  • 1篇中国科学院
  • 1篇中国原子能科...
  • 1篇机电部

作者

  • 1篇张一心
  • 1篇李光平
  • 1篇何秀坤
  • 1篇李朝勇

传媒

  • 1篇Journa...

年份

  • 1篇1992
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
CZNTD Si中氧碳对缺陷-杂质复合体行为的影响
1992年
本文研究了CZNTD Si中氧碳和缺陷-杂质复合体的热处理行为.分析了辐照和退火中的氧碳沉淀、缺陷-杂质复合体的形成、演变与施主的关系.确定了辐照施主是很少的,而主要是退火中形成的新施主,并且碳对这种施主起着强烈的促进作用.
张一心李朝勇李光平何秀坤卢存刚李祖华
关键词：辐照退火氧碳施主
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共1页<1>
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