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张华刚

作品数:2 被引量:1H指数:1
供职机构:武汉大学物理科学与技术学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学一般工业技术更多>>

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 1篇铁电
  • 1篇铁电性
  • 1篇透射电子显微...
  • 1篇量子
  • 1篇量子点
  • 1篇脉冲激光
  • 1篇脉冲激光沉积
  • 1篇脉冲激光沉积...
  • 1篇缓冲层
  • 1篇光学
  • 1篇光致
  • 1篇光致发光
  • 1篇发光
  • 1篇分子束
  • 1篇分子束外延
  • 1篇SI基
  • 1篇BNT
  • 1篇INAS量子...

机构

  • 2篇武汉大学

作者

  • 2篇张华刚
  • 1篇刘天志
  • 1篇孟宪权
  • 1篇李美亚

传媒

  • 1篇武汉大学学报...
  • 1篇第二届中国可...

年份

  • 1篇2006
  • 1篇2005
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
脉冲激光沉积法在Si基片上生长BNT铁电多层薄膜
采用脉冲激光沉积(PLD)技术,在Si(100)基片上直接制备了c轴一致取向的LSCO(La0.5S0.5CoO3)电极层和Bi3.15Nd0.85Ti3O12(BNT)铁电薄膜,并利用X-射线衍射、扫描电镜分析测定了薄...
张华刚李美亚李少珍于本方魏建华赵兴中
关键词:铁电性SI基
文献传递
InAs量子点的结构及光学性质研究被引量:1
2005年
采用分子束外延技术在(001)GaAs衬底上生长了多层 InAs量子点,原子力显微镜观测了生长在表面的量子点,用透射电子显微镜观察到五层量子点截面像,傅立叶变换光谱仪测试量子点光致发光谱.原子力显微镜以及透射电镜观察结果表明:第一层量子点为椭圆状;上面四层为透镜状量子点,呈现明显的垂直对准,且量子点的密度下降,大小趋向一致.样品中有些位置不同层的量子点连成一线,其边缘存在应力.由于第一层量子点与其他四层量子点的大小、形状不同,导致量子点光致发光峰的半高宽增加.
孟宪权张华刚刘天志
关键词:量子点分子束外延透射电子显微镜光致发光
共1页<1>
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