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张庆乐

作品数:9 被引量:25H指数:4
供职机构:大连大学更多>>
发文基金:中国石油科技创新基金更多>>
相关领域:化学工程金属学及工艺一般工业技术经济管理更多>>

文献类型

  • 5篇期刊文章
  • 4篇专利

领域

  • 2篇化学工程
  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇经济管理
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 4篇镀层
  • 4篇多晶
  • 4篇多晶硅
  • 4篇多晶硅薄膜
  • 4篇硅薄膜
  • 3篇稀土
  • 3篇稀土铈
  • 3篇化学镀
  • 3篇防垢
  • 3篇掺杂
  • 2篇镀液
  • 2篇真空
  • 2篇真空烧结
  • 2篇真空系统
  • 2篇致密
  • 2篇致密性
  • 2篇磷掺杂
  • 2篇耐蚀
  • 2篇耐蚀性
  • 2篇基板

机构

  • 9篇大连大学
  • 1篇中航工业沈阳...

作者

  • 9篇王宙
  • 9篇付传起
  • 9篇张庆乐
  • 3篇杨萍
  • 3篇董桂馥
  • 2篇何旭
  • 1篇曹健
  • 1篇苏宝华

传媒

  • 2篇表面技术
  • 2篇功能材料
  • 1篇材料保护

年份

  • 1篇2017
  • 3篇2015
  • 3篇2014
  • 2篇2013
9 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
稀土铈对化学镀复合镀Ni-P-PTFE镀层耐蚀性能的影响被引量:10
2013年
为了进一步提高化学镀Ni-P-PTFE复合镀层的耐蚀性能,采用在化学镀液中添加稀土铈的方法在45号碳钢试片表面制备了稀土铈Ni-P-PTFE复合镀层。用扫描电镜观察了镀层的表面形貌,并研究了稀土铈浓度对镀层中PTFE含量的影响,通过浸泡失重法分别研究了在3.5%NaCl和3.5%NaOH溶液中稀土铈浓度对镀层耐蚀性能的影响。结果表明:适量稀土铈的加入提高了镀层中PTFE的含量,降低了镀层的腐蚀速率,提高了复合镀层的耐蚀性能,在铈质量浓度为0.02 g/L时,在3.5%NaCl和3.5%NaOH溶液中镀层的腐蚀速率分别为0.402 mg/cm2和0.235 mg/cm2。
何旭付传起王宙张庆乐
关键词:稀土铈腐蚀速率耐蚀性能
稀土铈诱导超声化学共沉积Ni-P-PTFE防垢镀层及其制备工艺
本发明公开一种稀土铈诱导超声化学共沉积Ni-P-PTFE防垢镀层及其制备工艺,通过稀土铈超声诱导共沉积提高镀层中PTFE含量;在45号钢板⑴基体上制备Ni-P-PTFE防垢镀层⑵,镀层⑵中PTFE粒子含量30vol%-4...
付传起王宙张庆乐曹健
文献传递
镀液活性剂和PTFE含量对Ni-P-PTFE复合镀层防垢性能的影响被引量:10
2014年
目的提高Ni-P-PTFE复合镀层的防垢性。方法采用化学镀的方法,在45#碳钢表面制备NiP-PTFE复合镀层,研究镀液中活性剂和PTFE(聚四氟乙烯)含量对复合镀层中PTFE含量、镀层结垢速率的影响,从而得到最佳施镀参数。结果随着活性剂含量的增加,镀层中PTFE含量先上升,后下降,而镀层的结垢率呈现出先下降、后上升的变化趋势。结论当镀液中活性剂含量为0.3 g/L,PTFE乳液添加量为6 mL/L时,镀层的结垢速率最低,为0.004 85 g/(m2·h),此时镀层的防垢性能最佳。
张庆乐付传起苏宝华杨萍王宙
关键词:化学镀表面活性剂
稀土铈对化学镀Ni-P-PTFE复合镀层防垢性能的影响被引量:4
2013年
采用化学镀的方法在45号碳钢试样表面制备了稀土铈促进共沉积的Ni-P-PTFE复合镀层,利用扫描电子显微镜观察和分析了镀层的表面形貌,研究了稀土铈浓度对复合镀层的表面形貌、镀层的沉积速率、镀层中PTFE含量以及镀层防垢性能的影响。结果表明,适量稀土铈的加入使得镀层表面黑色粒子更加密集,即PTFE在镀层中的含量增加,在铈浓度为0.04g/L时达到最大;镀层的沉积速率与镀层中PTFE含量均随铈浓度的增加而呈现先升后降的趋势,在铈浓度为0.04g/L时分别达到最大值28.25μm/h和40.43%,而镀层中PTFE含量也随着沉积速率的增加而升高;铈的加入提高了镀层的防垢性能,镀层的结垢率随着铈对镀层中PTFE含量的影响而发生变化,当铈浓度为0.04g/L时,结垢率最低,仅为9.026g/m2,防垢效果最佳。
何旭付传起杨萍张庆乐王宙
关键词:稀土铈
一种磷掺杂多晶硅薄膜及其制备方法
本发明提供了一种磷掺杂多晶硅薄膜及其制备方法,属于功能材料领域。通过将多晶硅粉末与磷粉末按比例混合均匀,压片、真空烧结制得硅靶材,将硅靶材和石英玻璃基片放入真空系统中,采用激光溅射沉积的方法制备出磷掺杂多晶硅薄膜。本发明...
王宙骆旭梁付传起董桂馥雍帆张庆乐
文献传递
激光脉冲溅射沉积制备多晶硅薄膜的方法
本发明涉及激光脉冲溅射沉积制备多晶硅薄膜的方法,具体包括以下步骤:将基板进行前处理;将镀膜材料硅靶材与基板放入真空系统中,抽真空至1.0×10<Sup>-4</Sup>Pa,基板温度为500~700℃,基板与硅靶材之间的...
王宙骆旭梁董桂馥付传起雍帆张庆乐
文献传递
四硼酸钠对化学镀镍磷非晶镀层镀速及耐蚀性能的影响被引量:5
2015年
采用化学镀的方法在45#碳钢试样表面制备了四硼酸钠(硼砂)促进Ni-P沉积的非晶镀层。利用扫描电子显微镜和X射线观察及分析了镀层的表面形貌与表面结构,研究了四硼酸钠的浓度对非晶镀层的表面形貌、沉积速率、P含量、孔隙率以及耐蚀性能的影响。结果表明,添加一定量的四硼酸钠能使镀层晶粒更加细化,分布更为均匀,镀层的沉积速率有很大的提高。随着四硼酸钠含量的增加,沉积速率逐渐升高,而镀层中的磷含量逐渐降低。当四硼酸钠的含量超过2.5g/L时,镀液的稳定性会大大的降低;镀速达到最大值21.35μm/h;磷含量最低为14.3%。四硼酸钠的加入对镀层的耐蚀性影响不大,但可以提高沉积速率从而提高镀层的使用周期,具有很好的经济效益和使用价值。
张庆乐付传起雍帆骆旭梁王宙
关键词:耐蚀性镀速
一种磷掺杂多晶硅薄膜及其制备方法
本发明提供了一种磷掺杂多晶硅薄膜及其制备方法,属于功能材料领域。通过将多晶硅粉末与磷粉末按比例混合均匀,压片、真空烧结制得硅靶材,将硅靶材和石英玻璃基片放入真空系统中,采用激光溅射沉积的方法制备出磷掺杂多晶硅薄膜。本发明...
王宙骆旭梁付传起董桂馥雍帆张庆乐
锗掺杂真空蒸镀基板距离对多晶硅薄膜的影响
2014年
在真空蒸镀多晶硅薄膜中掺入杂质可改善膜的微结构及电特性,目前有关基板距离对所得膜层的影响研究不多。采用真空蒸镀掺杂锗的方法制备出多晶硅薄膜;通过扫描电镜、X射线衍射仪、拉曼光谱仪等研究了基板距离对掺锗多晶硅薄膜的组织、形貌、晶粒尺寸及晶化率的影响。结果表明:随着基板距离的增大,薄膜的晶粒尺寸和晶化率均呈现出先增大后减小的相似趋势;当基板距离为90 mm时,晶粒尺寸显著增大,最大达到0.8μm左右,多晶硅薄膜晶粒形貌、结构性能最好,且具有较高的结晶度,薄膜的晶化率最高可达到85.10%。
杨萍王宙付传起张庆乐
关键词:多晶硅薄膜晶化率
共1页<1>
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