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林炳

作品数:9 被引量:30H指数:4
供职机构:中国科学院上海技术物理研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金上海市青年科技启明星计划更多>>
相关领域:理学电子电信机械工程更多>>

文献类型

  • 8篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 9篇理学
  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 7篇光学
  • 6篇光学薄膜
  • 3篇滤光片
  • 3篇晶体
  • 3篇红外
  • 2篇数据拟合
  • 2篇速率
  • 2篇离子束
  • 2篇离子束刻蚀
  • 2篇刻蚀
  • 2篇光子
  • 2篇光子带隙
  • 2篇光子晶体
  • 1篇定标
  • 1篇银膜
  • 1篇中波红外
  • 1篇入射
  • 1篇入射光
  • 1篇闪电
  • 1篇闪电探测

机构

  • 9篇中国科学院
  • 1篇同济大学

作者

  • 9篇林炳
  • 7篇张凤山
  • 7篇刘定权
  • 4篇于天燕
  • 1篇孔令方
  • 1篇陆卫
  • 1篇王少伟
  • 1篇陈效双
  • 1篇王占山
  • 1篇李大琪
  • 1篇吴永刚
  • 1篇王利

传媒

  • 3篇光学仪器
  • 2篇红外与毫米波...
  • 1篇红外
  • 1篇光学学报
  • 1篇光子学报
  • 1篇2004年光...

年份

  • 2篇2006
  • 3篇2005
  • 3篇2004
  • 1篇2003
9 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
中波红外8通道微型集成滤光片的研制被引量:5
2005年
利用组合刻蚀法布里珀罗(F-P)干涉滤光片的谐振腔间隔层的方法,制备了集成在一个基片上的8通道中波红外(0λ=2.8μm)窄带滤光片,通道线宽为0.7 mm,光谱通道定位精度优于1%,各通道相对半峰宽为1%.此法有效提高了成品率,并可满足实现通道数更多,集成度更高的滤光器件发展的需求.
林炳刘定权孔令方张凤山
关键词:光学薄膜
组合刻蚀法制备窄带滤光片列阵被引量:9
2006年
介绍了组合刻蚀法制备窄带滤光片列阵的基本原理和制备工艺,这是一种效率非常高的制备方法,只需N次刻蚀就可以完成2^N通道窄带滤光片列阵的制备,而且可以用于制备不同波段窄带滤光片列阵。展示了可见一近红外波段32通道窄带滤光片列阵和中红外波段16通道窄带滤光片列阵的实验结果,其中32通道窄带滤光片列阵的带通峰位基本呈线性分布在774.7~814.2nm之间,所有滤光片的半峰全宽都非常窄(δλ〈1.5nm),相应于淑δλ/λ〈0.2%,半峰全宽最窄的滤光片达到0.8nm,相应于δλ/λ〈0.1%,其带通峰位λ=794.3nm;各通道的带通透过率在21.2%~32.4%之间,大部分在30%左右。
王少伟王利吴永刚王占山刘定权林炳陈效双陆卫
关键词:光学器件滤光片列阵
一种具有完全光子带隙的二维光子晶体薄膜被引量:1
2005年
简单介绍利用光子晶体的概念,提出一种正方结构的类似棋盘式的二维光子晶体结构,根据光子晶体能带理论计算并设计了这一结构,利用碲化铅(PbT e)与一氧化硅(S iO)材料对组合,可在此两种材料的透光区波段内,获得具有TE与TM的重合完全光子带隙,相对宽度为4.55%,其意义是可以制作全角反射镜和偏振分光镜,文中为实际制备这一器件结构提供理论指导和可行性分析。
林炳于天燕刘定权张凤山
关键词:光学薄膜光子晶体红外光子带隙
红外/可见光宽带分色片设计与制备被引量:14
2004年
红外、可见光分色片对成像光谱技术起着至关重要的作用 ,应用诱导增透概念设计宽光谱分色片 ,并在薄膜制备过程中 ,采用了光学控制结合晶体振荡控制的方法获得了符合实用要求的红外 /可见分色片 ,其 4 0 0nm~ 90 0nm范围 4 5度入射光透过率大于 80 % ,在 132 5nm~ 130 0 0nm平均反射率大于 90 % ,其光谱特性在已报道过的同类分色片中位于前沿 .
林炳于天燕刘定权张凤山
关键词:分色片红外入射光晶体宽带可见光
16通道微型集成滤光片制备技术的研究被引量:6
2006年
多光谱成像光谱技术正在向光谱通道更多、集成度更高、体积小和重量更轻的方向发展,而用于分光的多通道滤光片是其关键光学元件,需要相应发展新型多光谱窄带集成滤光片制备技术.提出了组合刻蚀法布里-珀罗(F-P)滤光片间隔层的方法,将光学薄膜制备技术,离子束刻蚀技术与掩膜法技术相结合,形成新的多通道集成滤光片的制备方法.并在单个微型基片上,成功制备了集成16通道窄带线阵滤光片,获得的单元滤光片几何线宽为0.7mm,相对半峰全宽优于1.0%,透射峰定位精度优于0.25%.这一方法不但可满足集成度更高的滤光器件的要求,而且拓展了薄膜制备的方法.
林炳于天燕李大琪刘定权张凤山
关键词:光学薄膜
离子束刻蚀光学薄膜的速率定标技术
2004年
离子束刻蚀技术现在越来越多被应用在可见光乃至红外薄膜中,在这一技术中最为关键的环节就是如何精确地测量离子源对薄膜的刻蚀速率,此速率因不同材料不同工艺条件而变化。现在利用光谱测量与数据拟合的方法,能够快速简便地测定出被刻蚀的材料的物理厚度,从而标定离子束刻蚀的速率。
林炳刘定权张凤山
关键词:数据拟合光学薄膜离子束刻蚀刻蚀速率定标
用于镀制超薄银膜的一种有效的监控方法
2005年
银经常被应用于制备诱导增透滤光片,在这种宽带滤光片中,银膜的厚度一般在几个纳米,这样使得精确监控银的厚度很困难。提出一种简单易行的改进方法,通过在蒸发源上方加一个调速挡板,结合晶振膜厚仪,可以获得±0.4nm以内控制精度的超薄银膜。
林炳于天燕张凤山
关键词:光学薄膜超薄薄膜膜厚监控
光子晶体概念在超窄带滤光片中的应用研究
2003年
本文的根本目的针对用于闪电探测的超窄带滤光片的研制。在具体研究中将区别于常规的薄膜光学滤光片的设计原理,采用光子晶体的新概念发展一种创新性强的新设计方案,以实现滤光片性能的大幅度提高,降低对实验设备的要求和提高成品率。通过引入光子晶体这一最新发展起来的科学概念,优化我国光学元器件水平的创新性工作。
林炳
关键词:光子晶体闪电探测光子带隙
离子束刻蚀光学薄膜的速率定标技术
离子束刻蚀技术现在越来越多被应用在可见光乃至红外薄膜中,在这一技术中最为关键的环节就是如何精确地测量离子源对薄膜的刻蚀速率,此速率因不同材料不同工艺条件而变化。现在利用光谱测量与数据拟合的方法,能够快速简便地测定出被刻蚀...
林炳刘定权张凤山
关键词:离子束刻蚀数据拟合光学薄膜
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