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熊传铭

作品数:5 被引量:3H指数:1
供职机构:武汉大学物理科学与技术学院物理系更多>>
相关领域:电子电信文化科学理学历史地理更多>>

文献类型

  • 5篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇文化科学
  • 1篇历史地理
  • 1篇理学

主题

  • 3篇硅中氧
  • 2篇
  • 2篇
  • 1篇单晶
  • 1篇热扩散
  • 1篇组态
  • 1篇物理系
  • 1篇物理学
  • 1篇物理学家
  • 1篇理事
  • 1篇理事长
  • 1篇理学
  • 1篇理学家
  • 1篇名师
  • 1篇教育
  • 1篇教育史
  • 1篇怀念
  • 1篇硅单晶
  • 1篇半导体

机构

  • 5篇武汉大学
  • 1篇中国科学院

作者

  • 5篇熊传铭
  • 3篇陈畅生
  • 1篇刘怀俊
  • 1篇曾繁清
  • 1篇沈学础

传媒

  • 2篇稀有金属
  • 1篇Journa...
  • 1篇物理
  • 1篇湖北文理学院...

年份

  • 1篇2013
  • 1篇2008
  • 1篇1991
  • 2篇1989
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
怀念戴春洲先生
2008年
熊传铭
关键词:物理学家物理系半导体理事长
硅中氧的热沉淀(上)被引量:2
1989年
本文综述近年来国内外在硅单晶中氧杂质的热沉淀行为方面的研究工作。着重介绍了在不同的热处理条件下,氧在硅单晶中产生的各种热沉淀现象和性质,以及解释这些热行为的氧沉淀理论。最后讨论了硅中氧的各种热沉淀对硅材料及器件性能的影响,并展望了今后在这一领域尚需解决的问题。
陈畅生熊传铭
关键词:硅单晶
襄阳名师刘叔远被引量:1
2013年
刘叔远(1897--1982),名应光,清光绪廿三年丁酉八月廿三(1897年9月13日)生于湖北省襄阳城内一个世代书香门第。
刘怀俊熊传铭
关键词:教育史
硅中氧的热沉淀(下)
1989年
三、硅中氧的热沉淀理论硅中氧的热沉淀行为实质上是固溶体中固态-固态相变的一种形式,它可用固体内一个新固相的成核和生长特性来描述。(一)固溶体内的成核与核的生长固溶体内一个新固相的成核有二种不同的形式:a.均匀成核,它在溶质原子位置上成核;b.异质成核,在固溶体内的结构缺陷(如位错、晶粒边界或堆垛层错等)
陈畅生熊传铭
关键词:
硅中氧的结构组态及热扩散行为
1991年
利用变温FTIR测量和变温Hall效应测量方法,探讨了在室温(RT)至475℃温度范围内,硅中9μm峰的中心位置及其红外吸收系数随温度变化的规律.实验证实了氧在硅单晶中存在二种不同的组态:在RT—325℃范围内为Si_2O组态,其束缚能为E_b~0.8—1.0eV;在325—475℃范围内,Si_2O组态和准自由间隙氧原子组态同时并存,准自由氧原子扩散所须克服硅晶格的势垒为E_L~1.5—1.6eV.由此很好地解释了硅中氧的热扩散行为.
陈畅生曾繁清熊传铭沈学础
关键词:硅中氧热扩散
共1页<1>
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