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熊长新

作品数:49 被引量:71H指数:4
供职机构:华中光电技术研究所更多>>
发文基金:国防基础科研计划国家重大科学仪器设备开发专项教育部留学回国人员科研启动基金更多>>
相关领域:理学电子电信金属学及工艺机械工程更多>>

文献类型

  • 32篇期刊文章
  • 10篇会议论文
  • 3篇专利

领域

  • 21篇理学
  • 10篇电子电信
  • 6篇金属学及工艺
  • 4篇化学工程
  • 3篇机械工程
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇航空宇航科学...

主题

  • 10篇红外
  • 8篇溅射
  • 8篇光学
  • 7篇类金刚石
  • 6篇面形
  • 6篇金刚石膜
  • 6篇类金刚石膜
  • 6篇粗糙度
  • 5篇面粗糙度
  • 5篇面形精度
  • 5篇表面粗糙度
  • 4篇抛光
  • 4篇离子束
  • 4篇离子束溅射
  • 4篇化学气相
  • 4篇化学气相沉积
  • 4篇保护膜
  • 4篇波段
  • 4篇磁控
  • 4篇磁控溅射

机构

  • 45篇华中光电技术...
  • 1篇武汉大学
  • 1篇华南理工大学

作者

  • 45篇熊长新
  • 21篇李钱陶
  • 10篇何光宗
  • 7篇杨长城
  • 5篇刘军汉
  • 4篇吴小丽
  • 4篇陈光
  • 3篇姚细林
  • 2篇车驰骋
  • 2篇张天行
  • 2篇王航
  • 2篇杨林峰
  • 2篇周杨
  • 1篇吴新建
  • 1篇程子清
  • 1篇朱谧
  • 1篇杨放
  • 1篇谢晋
  • 1篇耿安兵
  • 1篇刘士军

传媒

  • 25篇光学与光电技...
  • 2篇红外与激光工...
  • 2篇光学技术
  • 2篇应用光学
  • 1篇光学精密工程
  • 1篇2003年十...
  • 1篇2008中国...
  • 1篇第三届全国光...

年份

  • 3篇2024
  • 2篇2023
  • 2篇2022
  • 1篇2021
  • 5篇2020
  • 2篇2019
  • 1篇2018
  • 1篇2017
  • 4篇2015
  • 1篇2014
  • 2篇2013
  • 3篇2011
  • 5篇2010
  • 4篇2009
  • 1篇2008
  • 3篇2007
  • 3篇2006
  • 1篇2004
  • 1篇2003
49 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
超光滑加工精磨过程中损伤层与余量匹配的研究被引量:2
2015年
对超光滑加工散粒研磨工序中采用的三级精磨法,进行了实验研究,通过改进差分化学刻蚀实验测出各级损伤层的厚度,利用损伤层厚度对加工余量匹配进行了优化。研究表明损伤层厚度与砂粒的粒径和压载之积成线性关系,与研磨时长无关;实验测得W28、W10、W5号磨料在实验条件下研磨加工产生的损伤层厚度分别为12.4μm、8.2μm、5.8μm;并根据损伤层厚度提出了加工余量的匹配建议方案。损伤层的相关研究为超光滑加工中提高生产效率以及减少麻点产生几率的研究提供了参考。
陈光熊长新
关键词:研磨损伤层加工余量
反中波透长波红外分束膜的设计与制备研究
2017年
设计了45°入射反中波透长波分束膜系,并进行了误差仿真分析。选用"Ge+ZnS"和"ZnS+YF3"两组高、低折射率材料,采用离子辅助电子束蒸发技术,经过大量的镀制实验与工艺改进,解决了薄膜应力累积、不牢固、波长易偏移等问题,获得了45°入射中波红外3.7~4.8μm波段反射率R≥98%,长波红外7.7~10.3μm波段透过率T≥95%、光学性能良好的反中波透长波红外分束膜。镀膜样品一次性通过了GJB 2485-1995规定的高低温及附着力试验。试验结果表明,膜层致密性和附着力良好。
孙义可何光宗熊长新
关键词:红外离子辅助沉积环境试验
反应式离子辅助沉积增强型ITO膜制备工艺研究
在恶劣的海洋环境下,军用光电装备窗口容易沾水或凝结水珠,严重时还会结冰、结霜或发雾,从而直接影响了目视观测及光信号采集的效果。鉴此,我们特开展了ITO透明导电膜的专项研究。所有制备工艺实验均是在进口莱宝SYRUSpro1...
姚细林何光宗朱谧熊长新
文献传递
微晶玻璃试片的化学抛光研究被引量:3
2014年
光学零件的凹槽、孔道等复杂结构无法进行机械抛光,只能采用化学抛光。分析了化学抛光的机理和微晶玻璃的组成,设计了化学抛光技术方案、工艺流程和操作方法。对微晶玻璃化学抛光前后的光学表面进行了测试、分析。结果表明:化学抛光去除量主要由化学抛光液的温度和抛光时间控制。采用氟化氢铵、氢氟酸与添加剂组成的化学抛光液和合适的化学抛光工艺,可以能够得到光滑、透明的表面,表面粗糙度可降低到100nm;可见光透过率81%~83%。
汤英童袁顺山熊长新
关键词:微晶玻璃化学抛光光学加工
一种非抛光表面光学玻璃应力的准确测量方法
本发明属于光学检测领域,具体是涉及一种非抛光表面光学玻璃应力的准确测量方法。包括以下步骤:使用纳米级超声波清洗设备将待测零件进行清洗;选择与待测零件折射率一致且无色的透明硅油;在待测零件的上下表面上采用涂覆器均匀涂覆所述...
王玄洋车驰骋熊长新李玲祖
靶压对磁控溅射GeC薄膜折射率的影响被引量:2
2009年
采用磁控溅射技术,以碳氢气体和氩气为工作气体,在Ge基底上制备了GeC薄膜。研究了靶压对薄膜折射率的影响,发现在较高的靶压下制备的GeC薄膜具有较低的折射率,而在较低的靶压下则得到了高折射率的薄膜。通过控制溅射靶压,制备了折射率在2.5~3.8之间可变的GeC薄膜。利用拉曼光谱研究了GeC薄膜的结构。薄膜样品的硬度测试表明,较低折射率的GeC薄膜具有较高的硬度。
何光宗熊长新李钱陶吴小丽
关键词:磁控溅射折射率
常温溅射DLC膜的工艺研究
2009年
常温下,采用磁控溅射技术成功地在Ge基底上制备了类金刚石膜,并研究了溅射功率、碳氢气体与氩气流量比、溅射频率、基底负偏压等工艺参数对类金刚石膜沉积速率的影响和薄膜的光学性能。结果表明:溅射功率、溅射频率、碳氢气体与氩气流量比对沉积速率有显著的影响。沉积速率随着溅射功率的增大而增大,随着溅射频率的减小而增大。随着碳氢气体与氩气流量比、基底负偏压的增大沉积速率先增大后降低。制备的类金刚石膜具有较宽的光谱透明区,Ge基底单面沉积的类金刚石膜其峰值透过率最高达到63.99%。
吴小丽熊长新李钱陶何光宗
关键词:磁控溅射类金刚石膜沉积速率透过率
一种改进的计算薄膜中红外光学常数的方法
2018年
阐述了包络法、色散模型拟合法、K-K变换法等常用的光学常数获取方法,并分析了每种方法的局限性。针对光学薄膜普遍在中红外波段存在水吸收,而导致其光学常数难以准确计算的特点,在以上几种方法的基础上,提出了一种改进的计算方法,并对该方法进行了推导。采用离子束溅射技术,制备了单层Ta_2O_5、Al_2O_3和Nb_2O_5薄膜,并用该方法计算了薄膜中红外波段的光学常数,结果显示,三种薄膜的消光系数均在2.7~4μm波段存在明显峰值,表明用该方法计算的光学常数,能清晰地反映薄膜水吸收的特性,较常规方法具有更高的精度。
李定李钱陶熊长新
关键词:中红外光学常数离子束溅射
平面干涉仪测立方体直角方法的研究
2020年
为实现方体加工过程中快速准确的测角目的,解决传统测角技术难以适应大批量的方体加工问题,对平面干涉仪测立方体直角方法进行了研究。通过理论推导建立了待测角度偏差与干涉条纹条数的关系式,同时为在线加工过程角度的修正提供理论及检测方法的指导。通过对90 mm×90 mm×90 mm的立方体进行测角工艺探究,实现了用平面干涉仪对立方体直角误差的检测,以及误差正负的判断,结果表明当视场内条纹数m=5.5时,直角误差δ≤2″。条纹收缩时为正误差,条纹扩散时为负误差。
陈光熊长新王潺何侃张铉
关键词:平面干涉仪等厚干涉
低损耗Al2O3薄膜离子束溅射法制备与性能研究被引量:1
2020年
采用离子束溅射技术在反射率大于99.9997%、中心波长(λ)为635 nm的35层高反波堆表面镀制2M(光学厚度为λ/2)的Al2O3低损耗薄膜。测量分析样品制备不同阶段的表面均方根粗糙度、反射率,通过理论分析,计算得出了2M Al2O3薄膜的光学吸收。研究分析了氧气流量对Al2O3薄膜吸收、表面均方根粗糙度的影响。结果显示,氧气流量对Al2O3薄膜的表面均方根粗糙度影响较小,表面均方根粗糙度优于0.15 nm;随着氧气流量增加,2M Al2O3薄膜的吸收先减小,达到最小极值后再增加;采用优化后的工艺,可以稳定地获得消光系数优于5×10-6的Al2O3薄膜。对进一步降低Al2O3薄膜的弱吸收和扩展Al2O3薄膜的应用有指导意义。
李钱陶李定熊长新
关键词:光学吸收离子束溅射消光系数
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