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蒋晓龙

作品数：54 被引量：8H指数：2
供职机构：中国工程物理研究院激光聚变研究中心更多>>
发文基金：国家自然科学基金中国科学院知识创新工程重要方向项目国家科技重大专项更多>>
相关领域：电子电信理学文化科学自动化与计算机技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 46篇专利
  • 6篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 11篇电子电信
  • 3篇自动化与计算...
  • 3篇文化科学
  • 3篇理学
  • 2篇机械工程
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇天文地球
  • 1篇化学工程
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇交通运输工程

主题

  • 30篇激光
  • 26篇熔石英
  • 15篇光学
  • 14篇光学元件
  • 11篇激光损伤
  • 10篇大口径
  • 9篇刻蚀
  • 7篇元件
  • 7篇大口径光学元...
  • 6篇平移
  • 5篇光束
  • 4篇光源
  • 4篇二氧化碳激光
  • 4篇辐照
  • 3篇等离子体刻蚀
  • 3篇衍射
  • 3篇透镜
  • 3篇图像
  • 3篇图像采集
  • 3篇涂膜

机构

  • 48篇中国工程物理...
  • 7篇中国科学技术...
  • 1篇安徽大学
  • 1篇杭州电子科技...

作者

  • 54篇蒋晓龙
  • 44篇廖威
  • 43篇张传超
  • 42篇张丽娟
  • 41篇陈静
  • 36篇王海军
  • 33篇栾晓雨
  • 24篇蒋一岚
  • 21篇袁晓东
  • 18篇蒋晓东
  • 18篇白阳
  • 15篇周海
  • 11篇贾宝申
  • 8篇朱启华
  • 7篇郑万国
  • 7篇杨科
  • 6篇刘正坤
  • 6篇付绍军
  • 5篇徐向东
  • 5篇邱克强

传媒

  • 2篇强激光与粒子...
  • 1篇光学精密工程
  • 1篇物理学报
  • 1篇中国激光
  • 1篇真空

年份

  • 3篇2024
  • 7篇2023
  • 3篇2022
  • 5篇2021
  • 4篇2020
  • 6篇2019
  • 10篇2018
  • 9篇2017
  • 2篇2016
  • 3篇2015
  • 2篇2013
共 54 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
用于光学元件的激光预处理装置及处理方法
本发明公开了一种用于光学元件的激光预处理装置及处理方法，包括：用于发出激光的激光光源；依次设置在激光传输方向上的分光劈板、反射镜、光束整形系统和放置待处理光学元件的电动平移台；其中，激光光源发出的激光经分光劈板之后经反射...
蒋一岚栾晓雨王海军廖威陈静张丽娟张传超蒋晓龙白阳袁晓东周海
文献传递
可旋转扫描的激光输出装置
本发明涉及激光领域。本发明提供了一种可旋转扫描的激光输出装置，能够使输出的激光做环状运动，其技术方案可概括为：可旋转扫描的激光输出装置，包括第一全反镜、扫描振镜、平移台、旋转台及至少一个调距全反镜，能够不需要激光发生器进...
蒋一岚王海军贾宝申叶亚云廖威陈静栾晓雨张传超张丽娟白阳蒋晓龙范乃吉袁晓东周海
文献传递
一种涉氚光学元件干法无损去污除膜方法
本发明属于光学元件技术领域，具体涉及一种涉氚光学元件干法无损去污除膜方法。本发明首先根据元件表面膜层和基底的折射率等光学特征参数，模拟计算元件透射率/反射率与膜层厚度间的函数关系曲线；接着，利用分光光度计光路对光学元件透...
蒋晓龙倪卫朱启华廖威栾晓雨谭宁王成程蒋晓东张传超唐洪平王海军
熔石英微凹柱透镜阵列的制备方法
本发明专利公开了一种熔石英微凹柱透镜阵列的制备方法，包括：从二氧化碳激光器获得连续稳定的二氧化碳激光；对二氧化碳激光进行聚焦；将清洗后的熔石英样片放置在聚焦的二氧化碳激光的焦点位置；采用振镜系统扫描聚焦后的二氧化碳激光辐...
张传超廖威杨科蒋晓龙白阳张丽娟王海军陈静蒋一岚栾晓雨周海袁晓东郑万国
文献传递
熔石英元件的飞秒激光改性装置及其损伤点复合修复方法
本发明公开了一种熔石英元件的飞秒激光改性装置及其损伤点复合修复方法，包括损伤点尺寸测量、飞秒激光改性、溶液腐蚀和残液清洗的步骤。采用以上技术方案的熔石英元件的飞秒激光改性装置及其损伤点复合修复方法，先利用飞秒激光改性装置...
方振华陈静蒋晓龙王静轩廖威张传超张丽娟贾宝申蒋晓东栾晓雨
文献传递
一种用于光斑强度调控的光学元件的制备方法
本发明涉及应用光学技术领域，尤其涉及一种用于光斑强度调控的光学元件的制备方法。本发明提供了一种用于光斑强度调控的光学元件的制备方法，包括以下步骤：将熔石英光学元件置于模具中进行等离子体刻蚀，得到刻蚀后的光学元件；所述模具...
贾宝申蒋晓龙唐洪平
原位调控材料微结构制备熔石英微透镜阵列的方法
本发明公开了一种原位调控材料微结构制备熔石英微透镜阵列的方法，利用二氧化碳激光辐照熔石英样品形成材料微结构调控区阵列，然后采用氢氟酸溶液刻蚀熔石英样品，得到熔石英微透镜阵列。采用以上方案，极大简化了熔石英微透镜阵列的制作...
张传超廖威杨科王海军张丽娟陈静蒋一岚蒋晓龙栾晓雨周海袁晓东郑万国
文献传递
一种从熔石英假想温度分布获取残余应力分布的方法
本发明公开了一种从熔石英假想温度分布获取残余应力分布的方法，按照以下步骤进行：S1：构建熔石英的假想温度分布；S2：作出初始冻结状态曲线以及体积变化曲线；S3：计算各个位置的体积收缩量；S4：获得相对体积应变量的分布；S...
张传超廖威陈静蒋晓龙方振华张丽娟王海军蒋晓东朱启华
文献传递
用于单面涂膜的降液式提拉涂膜机
本发明公开了一种用于单面涂膜的降液式提拉涂膜机，主体支架、涂膜器、升降控制机构和储液器，储液器的底部通过连接管与涂膜器的底部连通。采用以上技术方案的用于单面涂膜的降液式提拉涂膜机，结构新颖，设计巧妙，不仅具有传统提拉涂膜...
廖威方振华陈静张丽娟蒋晓龙张传超贾宝申王静轩蒋晓东
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弯月面涂胶均匀性改进
2015年
针对大面积衍射光学元件制作过程中对光刻胶均匀涂覆的困难,研究弯月面均匀涂胶方法。利用沟槽型弯月面涂胶机,分析影响光刻胶厚度和厚度均匀性的因素。从实验上验证了光刻胶的胶厚和涂覆扫描速率的正相关关系。分析了光刻胶的浓度、基片与涂覆器刀口间隙、供胶速率等因素对胶厚及胶厚均匀性的影响。利用非接触式的激光微位移传感器监测基片和涂覆器刀口间隙,控制此间隙的抖动小于15μm,优化系统运行的稳定性,提升了弯月面涂覆胶厚的均匀性,实现了胶厚峰谷值偏差3%和标准偏差0.5%的均匀光刻胶涂覆,能够满足脉宽压缩光栅等制作过程中对光刻胶均匀涂覆的需求。
林继平刘正坤洪义麟蒋晓龙邱克强刘颖徐向东付绍军
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