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邓中朝

作品数:53 被引量:72H指数:5
供职机构:中国核工业集团公司核工业西南物理研究院更多>>
发文基金:国家自然科学基金中国核工业科学基金国家磁约束核聚变能发展研究专项更多>>
相关领域:核科学技术理学电子电信化学工程更多>>

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  • 1篇1997
  • 1篇1995
  • 1篇1994
  • 4篇1992
53 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
多道HCN激光干涉仪在HL-1装置上的电子密度分布测量被引量:3
1994年
本文描述了为测量HL-1装置电子密度分布而研制的多道远红外(FIR)激光干涉仪系统及其特点。首次对装置在弹丸加料以及拉瓦尔(Laval)超声分子束注入实验条件下的等离子体电子密度时-空分布进行了观测和初步分析。同时,介绍一种处理密度相移信号的新方法。
邓中朝刁光跃张清春周艳雷大成刘雪岩汪占河邓慧忱
关键词:激光干涉仪电子密度HL-1装置
LHCD期间HL-1M等离子体密度的锯齿现象被引量:1
1999年
利用HCN激光多道干涉仪,首次在HL-1M装置上在低混杂电流驱动(LHCD)期间观测到密度锯齿现象。分析表明,密度锯齿不是通常的q=1锯齿。
周艳邓中朝刁光跃傅荟文刘泽田王恩耀
关键词:等离子体电流驱动LHCD托卡马克
HL-1M装置多脉冲钕玻璃激光汤姆逊散射系统被引量:1
2002年
描述了钕玻璃激光汤姆逊散射系统在HL 1M装置上的光路总体布局与调试 ,及HL 1M装置上电子温度的测量。散射光源为带有一级放大并可产生 1或 8个激光脉冲的钕玻璃激光器 ,用非线性KDP晶体倍频后 ,能够产生波长为 5 30nm、输出功率约为 10 0MW的脉冲。采用大孔径接收光路和D f =1 2 .8光栅光电谱仪 ,能够实现对等离子体五个空间点电子温度的测量。线色散约为 4 2nm·mm- 1 ,温度的测量范围为 10 0eV~ 2keV。
邓中朝施佩兰刘泽田冯洁郦文忠付荟文黄渊周艳
关键词:汤姆逊散射电子温度HL-1M装置托卡马克装置等离子体测量
HL-1装置几种杂质特性被引量:6
1992年
本文叙述了用真空紫外光谱方法观测HL-1装置常规、器壁碳化和抽气孔栏三种放电条件下等离子体杂质的变化以及某些杂质的特性。
李可华王全明骆翠贤陈小平邓中朝
HL-1电子密度行为在各种条件下的实验研究被引量:1
1995年
在HL-1装置电子密度测量中,进一步改进了密度相移信号的处理方法。在氘放电、氦补充送气条件下得到了HL-1最高电子密度10.8×1013cm-3。总结了密度在各种实验条件下的行为,并对各种实验条件对密度的影响进行了分析。
刁光跃邓中朝张清春周艳雷大成
关键词:电子密度HL-1装置
HL-1M装置的杂质线辐射特性
2001年
给出了HL-1M装置放电实验中杂质线辐射的测量结果。氢分子束注入后 ,等离子体电子密度ne 明显提高 ,而杂质浓度大大降低。对应于分子束注入脉冲 ,分子束的“团簇”效应引起了杂质辐射峰化时间的错位。
王全明李可华刘永邓中朝姚良骅
关键词:HL-1M装置等离子体
HL-1装置等离子体密度控制的研究被引量:4
1989年
本文分析了目前HL-1装置等离子体密度的控制方法。实验结果和分析表明,用控制粒子源、提供负源和改变通最的三种途径相结合来控制粒子数的变化,是一种有效的密度控制方法。
郑永真汪占河徐德明邓中朝曹真周培德
关键词:等离子体HL-1装置
HL-1装置的低q放电实验被引量:5
1990年
装置获得的最低qL值是衡最托卡马克磁流体不稳定性的控制水平的重要品质参数.通过精细调节补充送气和电流上升率的方法控制电流密度分布,使用钛吸气方法控制边缘等离子体参数,HL-1装置获得了最低qL值为1.8的稳定等离子体。实验结果表明,若电流上升率与密度上升率之比为(23—40)×10^(-19)kA·m^3的范围内,最利于获得低MHD增长率的稳定放电。预计这与中心q(0)<1峰化的电流密度分布有关。
郑永真石秉仁徐光碧胡高邓中朝储秀中杨青巍
关键词:HL-1装置托卡马克装置放电
HL-1M装置欧姆等离子体实验的初步分析被引量:4
1997年
从1994年10月24日开始,对HL-1M装置进行欧姆加热等离子体的调试实验,获得了Ip=310kA,qa<2.5,ne=3×1013cm-3,Te(0)>1keV,Ti(0)>0.5keV和τE≈10ms的平衡稳定等离子体。本文简述了HL-1M装置及其诊断、数据采集与处理系统,并对有关气体再循环。
秦运文王恩耀严建成谈满秋袁保山董贾福任俱前孙守祁叶高英邓中朝冉利波左鹤年刘莉张利严东海杨青巍陈燎原贺红光段旭如姚良骅崔正英潘宇东邓希文
关键词:托卡马克等离子体
内壁反射式远红外激光干涉仪的设计和应用被引量:1
2005年
介绍用于HL-2A偏滤器托卡马克装置的远红外(FIR)激光干涉仪及其在等离子体电子密度测量中的应用.一种新的软件比较相位技术被用来计算相移.自恰式光路设计方法用于内壁挂镜光路的设计.防污染装置延长了真空室中反射镜的使用寿命.电子密度测量结果表明偏滤器位形的等离子体放电减小了等离子体与第一壁的相互作用,等离子体密度比孔栏放电位形的略为偏低.
周艳邓中朝易江唐益武刘泽田施佩兰潘丽罗萃文陈燎原王恩耀
关键词:电子密度偏滤器激光干涉仪设计方法
共5页<12345>
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