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郑雪清

作品数:9 被引量:89H指数:4
供职机构:厦门大学化学化工学院固体表面物理化学国家重点实验室更多>>
发文基金:国家自然科学基金福建省自然科学基金更多>>
相关领域:化学工程金属学及工艺一般工业技术电气工程更多>>

文献类型

  • 6篇期刊文章
  • 3篇会议论文

领域

  • 9篇化学工程
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 4篇电沉积
  • 4篇电镀
  • 4篇镀铜
  • 3篇电沉积层
  • 3篇沉积层
  • 2篇电化学
  • 2篇电化学行为
  • 2篇镍钨合金
  • 2篇柠檬酸盐
  • 2篇钨合金
  • 2篇无氰
  • 2篇无氰镀
  • 2篇无氰镀铜
  • 2篇化学镀
  • 2篇化学镀铜
  • 2篇还原剂
  • 2篇碱性镀铜
  • 2篇合金
  • 1篇电极
  • 1篇电流

机构

  • 9篇厦门大学

作者

  • 9篇郑雪清
  • 9篇杨防祖
  • 9篇周绍民
  • 5篇许书楷
  • 4篇姚士冰
  • 3篇陈秉彝
  • 2篇吴丽琼
  • 2篇吴伟刚
  • 2篇曹刚敏
  • 2篇黄令
  • 1篇钟晓慧
  • 1篇蔡加勒

传媒

  • 1篇电化学
  • 1篇电镀与精饰
  • 1篇厦门大学学报...
  • 1篇材料保护
  • 1篇电镀与环保
  • 1篇电镀与涂饰
  • 1篇第六届全国化...
  • 1篇2012中国...

年份

  • 1篇2012
  • 1篇2009
  • 1篇2004
  • 1篇2002
  • 2篇1999
  • 1篇1998
  • 2篇1997
9 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
铅锌合金电沉积层的组成结构和形态被引量:1
1998年
采用X-射线衍射(XRD)、金相显微镜技术及电化学方法研究了铅锌合金电沉积层和Zn经阳极溶出后的镀层结构、组成和表面形态。结果表明,Pb-Zn合金电沉积层不能形成固溶体。XRD图仅出现与铅面心立方结构以及与锌密集六方结构相对应的各品面衍射线,其中较低Pb含量的Pb-Zn合金中Pb基本上为无序取向的晶体,而Zn则为(002)晶面择优,但择优度不高。沉积层经控电位阳极溶出后,其XRD图仍存在铅晶体的各晶面衍射线,而锌晶休各晶面衍射线消失;同时也出现表征正棱形PbSO4晶体的各晶面衍射线。金相实验结果表明:铅锌电沉积层表面由排列整齐的棱锥状晶粒构成;随镀层中Zn含量的增大,沉积层表面逐渐平整,棱锥状晶粒变小,最终形成团粒状态。锌溶出后的铅晶电极表面由原来的凹凸不平变成平整,且晶粒显著细小。
杨防祖蔡加勒姚兴斌郑雪清周绍民
关键词:电沉积层电极镀层电镀
镍钨合金电沉积的电流效率和镀层显微硬度被引量:27
1999年
通过调节镀液中不同的 Ni/ W 比例、温度和沉积电流密度,研究在焦磷酸盐体系中镍钨合金电沉积的电流效率、沉积层组成和显微硬度。实验结果表明:合金共沉积的电流效率不高。为了尽量提高合金的沉积电流效率,主要途径宜增大镀液中硫酸镍和钨酸钠的浓度;提高合金沉积电流密度,降低镀液中[ Ni]/[ W] 比例,则镀层中的钨含量增大;合金沉积层的显微硬度随镀层中的 W 含量提高而增大。
杨防祖曹刚敏郑雪清许书楷周绍民
关键词:镍钨合金电沉积层电流效率显微硬度电镀
柠檬酸盐碱性镀铜的电化学行为研究
在研发的柠檬酸盐碱性无氰镀铜工艺基础上,应用线性扫描法和循环伏安法,研究了柠檬酸盐碱性镀铜电解液的阴极还原和阳极氧化过程,并探讨了在不同Cu浓度、温度及pH值下铜络合离子还原的电化学行为。结果表明,在阴极过程中,铜络合离...
吴伟刚杨防祖姚士冰陈秉彝郑雪清周绍民
关键词:无氰镀铜柠檬酸盐电化学行为
文献传递
纯钯电沉积及其成核机理研究被引量:9
1997年
研究在柠檬酸钾和草酸铵镀液体系中纯钯电沉积及电结晶机理.结果表明,采用本实验室研制的添加剂②XP-4和XP-7,可在电流密度0.5~3.5A/dm2,温度40~60℃的宽广范围内获得全光亮的钯电沉积积层.采用脉冲电源电镀可有效地改善厚沉积层质量,减少沉积层裂纹和孔洞.循环伏安实验表明,钯电极过程的阴阳极峰电位之差达1.05V,说明其电极过程明显不可逆;伏安图上同时出现一感抗性电流环,说明钯沉积过程发生晶核形成过程;XP-4和XP-7阻化电沉积和氢的析出,提高钯电沉积的沉积电位.电位阶跃实验进一步表明,钯遵循连续成核和三-维生长的电结晶机理.
杨防祖许书楷姚士冰陈秉彝郑雪清钟晓慧周绍民
关键词:电沉积成核脉冲电镀
电流密度影响下镍钨合金电沉积层的组成、结构和形貌被引量:13
1999年
采用分光光度法、X射线衍射和金相显微镜等方法研究在焦磷酸盐体系中,电流密度影响下所获得的Ni-W合金电沉积层的组成、结构和表面形态.结果表明,随着电流密度的提高,合金沉积层中的W含量增大;形成置换固溶体的合金沉积层晶格参数涨大、晶格畸变度增大、而显微晶粒尺寸减小;合金沉积层的电结晶生长形态均呈现整齐的团粒状生长特征.讨论了上述实验结果.
杨防祖曹刚敏解建云郑雪清许书楷周绍民
关键词:电沉积层镍钨合金形貌电流密度
以乙醛酸为还原剂的化学镀铜
研究了以乙醛酸为还原剂的化学镀铜工艺和镀层结构.结果表明,化学镀铜过程呈现自催化特性;只有在合适的镀液pH范围内才可获得铜镀层;铜沉积速度随温度和硫酸铜浓度的提高而增大,而随乙醛酸和络合剂的浓度提高变化不大;铜镀层为面心...
杨防祖吴丽琼黄令郑雪清许书楷周绍民
关键词:化学镀铜乙醛酸
文献传递
以次磷酸钠为还原剂的化学镀铜被引量:44
2004年
研究了以次磷酸钠为还原剂、硫酸镍为再活化剂的化学镀铜工艺和镀层结构,指出工艺的基本特性。结果表明,在含有次磷酸钠和硫酸镍的镀液中,化学镀铜过程可以持续进行并呈现自催化特性;只有在合适的镀液pH范围内才可获得铜镀层;铜镀层为面心立方结构,没有明显的晶面择优取向现象,镀层结构的晶面间距d和晶胞参数a与标准Cu粉末的相比均较大,说明铜镀层仍存在应力和缺陷。
杨防祖吴丽琼黄令郑雪清周绍民
关键词:次磷酸钠还原剂化学镀铜硫酸镍自催化
柠檬酸钾镀钯新工艺被引量:3
1997年
研究在柠檬酸钾和草酸铵镀液体系中镀钯工艺。结果表明,采用本实验室研制的添加剂XP-4和XP-7以及PPS和FF,则可在电流密度0.5~3.5A/dm2、温度40~60℃的宽范围内获得全光亮的钯电沉积层。钯沉积的电流效率和沉积速度在镀液中钯含量为10g/L、1.0A/dm2的条件下分别可达到92.0%和0.25μm/min,并随电流密度和镀液中钯含量的变化而改变。XP-4和XP-7均阻化钯的电沉积,提高钯电沉积的过电位。它们共存时可使把电沉积的电位负移达240mV。
杨防祖许书楷姚士冰陈秉彝郑雪清钟晓慧周绍民
关键词:电镀镀钯柠檬酸钾
柠檬酸盐碱性镀铜的电化学行为研究
在研发的柠檬酸盐碱性无氰镀铜工艺基础上,应用线性扫描法和循环伏安法,研究了柠檬酸盐碱性镀铜电解液的阴极还原和阳极氧化过程,并探讨了在不同Cu2+浓度、温度及 pH值下铜络合离子还原的电化学行为。结果表明,在阴极过程中,铜...
吴伟刚杨防祖姚士冰陈秉彝郑雪清周绍民
关键词:无氰镀铜柠檬酸盐电化学行为反应活化能
文献传递
共1页<1>
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