郭永康
- 作品数：137 被引量：576H指数：14
- 供职机构：四川大学物理科学与技术学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家教育部博士点基金国家重点实验室开放基金更多>>
- 相关领域：电子电信机械工程理学一般工业技术更多>>
- 用灰阶编码掩模进行邻近效应校正的实验研究被引量：1
- 2000年
- 利用灰阶编码掩模实现光学邻近效应精细校正是改善光刻图形质量的有效方法 ,设计并利用电子束直写系统加工了用于实现邻近效应校正的灰阶编码掩模 ,首次在投影光刻系统上用这一方法实现了光学邻近效应校正 ,获得了满意的实验结果 ,在可加工 0 7微米的I线曝光装置上获得了经邻近效应校正的 0 5微米光刻线条。
- 杜惊雷粟敬钦张怡霄郭永康崔铮
- 关键词：光学邻近效应校正光学光刻
- 分数傅里叶变换全息与菲涅耳衍射
- 2004年
- 曾阳素郭永康
- 关键词：分数傅里叶变换菲涅耳衍射全息光学
- ICF驱动器中光束谐波分离技术被引量：3
- 2007年
- 在激光惯性约束聚变研究过程中,激光驱动器打靶系统的光束谐波分离技术是驱动器建造研究的重要内容之一。根据高功率固体激光驱动器的发展历程,介绍了几种目前世界上正在应用的光束谐波分离技术,并对这些光束谐波分离方法的优缺点进行了对比分析。结合我国激光驱动器谐波分离技术的发展现状提出了将来的发展方向。这对大型激光驱动器的建造具有一定的指导意义。
- 王成程袁静马驰郭永康魏晓峰郑万国
- 关键词：激光技术惯性约束聚变高功率固体激光驱动器
- 关于两独立光源及一光源两部分发出的光波之干涉
- 1982年
- 郭永康
- 关键词：光源光波光学教学
- 用于微器件加工的AZ4620厚胶光刻工艺研究被引量：10
- 2005年
- 对AE4620厚胶紫外光刻工艺进行了实验研究,探讨了其工艺特性及光刻胶层的刻蚀面形与各种工艺条件的关系,提出了刻蚀高深宽比、最佳浮雕面形所需的工艺条件。通过对光刻工艺过程的研究, 可为较好地控制正性光刻胶面形,制作微机械、微光学器件提供了参考依据,对微浮雕结构的深刻蚀具有重要的指导意义。
- 罗铂靓杜惊雷唐雄贵杜春雷刘世杰郭永康
- 关键词：光刻胶显影
- 误差扩散法设计用于惯性约束聚变驱动器的色分离光栅-光束采样光栅集成元件
- 2007年
- 针对多次曝光法制作集成衍射光学元件时存在的加工制作复杂,会引入较大的对位误差等问题,基于计算全息中的误差扩散编码原理及部分相干光成像理论,提出采用误差扩散编码方法来设计用于制作浮雕结构集成元件的编码掩模的新方法。给出了利用误差扩散法设计的色分离光栅-光束采样光栅(CSG-BSG)集成元件编码掩模,模拟计算了经部分相干成像系统后的空间像光强分布,并与理想的集成元件面形进行了比较。结果表明,校正后均方差为7.5%,体积偏差为10.2%。
- 张怡霄姚欣高福华郭永康
- 关键词：集成光学
- 校正激光直写邻近效应的快速方法被引量：2
- 1998年
- 针对激光直写中的邻近效应的特点，提出通过直写曝光数据预补偿进行光学邻近效应校正的快速、有效方法，并获得了满意的实验结果。
- 杜惊雷郭永康黄奇忠粟敬钦高福华邱传凯崔铮
- 关键词：激光直写激光光刻
- 模压全息原理
- 1992年
- 从彩虹全息图的点基元全息图为线全息图出发，讨论了它的白光再现原理，并讨论了全息浮雕条纹的电铸复制和模压复制原理，指出观察模压全息图应注意的问题．
- 郭永康江朝川
- 关键词：全息图模压白光
- 光学邻近效应与掩模特征尺寸的关系
- 1998年
- 依据物的空间频谱分布、部分相干成象理论及空间滤波概念，分析了投影光刻中的掩模特征尺寸与光学邻近效应（ＯＰＥ）的关系。
- 石瑞英杜开瑛郭永康姚军张怡霄崔铮
- 关键词：投影光刻掩模光学效应
- 色分离光栅对输入波前畸变宽容度的研究被引量：6
- 2002年
- 采用频域分段的方法 ,对强激光系统的波前畸变进行了理论分析 ;使用随机相位屏构建低频畸变波前模型 ,并提出采用迭代算法构建中高频畸变波前模型。使用构建的畸变波前模型作为输入 ,通过模拟计算 。
- 高福华曾阳素粟敬钦高峰蔡海涛郭永康魏晓峰马驰
- 关键词：衍射光学元件激光惯性约束聚变ICFDOE波前畸变宽容度
