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韩琭

作品数:3 被引量:32H指数:3
供职机构:清华大学化学工程系更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:化学工程理学更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 3篇化学工程
  • 1篇理学

主题

  • 3篇氯硅烷
  • 3篇硅烷
  • 2篇有机硅
  • 2篇甲基氯
  • 2篇甲基氯硅烷
  • 1篇对甲基
  • 1篇有机硅材料
  • 1篇有机硅单体
  • 1篇失活
  • 1篇团聚
  • 1篇流化
  • 1篇流化床
  • 1篇甲基
  • 1篇甲基二氯硅烷
  • 1篇二甲基二氯硅...
  • 1篇二氯硅烷
  • 1篇反应温度
  • 1篇DD
  • 1篇DDS
  • 1篇超声分散

机构

  • 3篇清华大学

作者

  • 3篇王金福
  • 3篇罗务习
  • 3篇韩琭
  • 3篇梁卫华
  • 3篇王光润

传媒

  • 1篇化工学报
  • 1篇高校化学工程...
  • 1篇化学反应工程...

年份

  • 1篇2003
  • 2篇2002
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
流化床直接法合成甲基氯硅烷的实验研究被引量:18
2002年
在f 24mm的实验室流化床装置上,对金属硅与氯甲烷在CuCl催化剂作用下直接合成二甲基二氯硅烷(DDS)的气-固-固相催化反应进行了实验研究。结果表明,为获得较高的DDS选择性,反应应在300℃以下进行,实验测得反应速率达到70gCH3Cl(kgSi)-1h-1,主副反应的活化能分别为92kJmol-1和254kJmol-1。将流化床实验的结果与固定床实验结果进行了对比,流化床反应器在反应活性和DDS选择性上均远优于固定床,是最适用于有机硅单体合成的反应器型式。根据文献资料和气-固-固催化反应机理对实验中观察到的现象进行了解释。
韩琭王光润梁卫华罗务习王金福
关键词:甲基氯硅烷有机硅单体流化床
直接法合成DDS过程中催化剂的分散及其影响被引量:8
2003年
Based on the synthesis of DDS in fluidization bed,a new method that can remarkably enhance reactivity and selectivity of the copper-silicon contact mass is investigated experimentally. DDS is produced from silicon and methyl chloride at about 300?℃in the direct synthesis process. The catalyst used in this reaction system is active cuprous chloride powder,which usually forms conglomeration of powder. The conglomerate of catalyst is known to be harmful to the synthesis reaction. Treated by ultrasonic energy,conglomeration of active cuprous chloride catalyst is destroyed,so as to achieve better proportioned dispersion of silicon and catalyst powder. By this means, CuCl catalyst is distributed evenly on the surface of silicon powder, thereby reaction activity and selectivity are increased in the synthesis process of DDS. Using ultrasonic dispersion achieves the same reaction activity with smaller catalyst dosage than the normal dispersion method.
韩琭罗务习梁卫华王光润王金福
关键词:DDS催化剂二甲基二氯硅烷团聚超声分散
反应温度对甲基氯硅烷合成的影响被引量:17
2002年
实验研究了直接法流化床合成甲基氯硅烷过程中反应温度对反应活性和二甲基二氯硅烷 (DDS)选择性的影响。研究结果表明 ,随着反应温度升高 ,催化反应的活性有所升高 ,但是 DDS的选择性逐渐降低。因此 ,该气 -固 -固催化反应有一个适宜的反应温度范围 (约 2 80~ 30 0℃ )。在较高温度下触体会失去活性 ,此时反应活性和 DDS选择性都会明显变差 ,再降低反应温度后失活的触体也不会恢复活性 。
韩琭罗务习梁卫华王光润王金福
关键词:甲基氯硅烷反应温度失活有机硅材料
共1页<1>
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