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文献类型

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领域

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主题

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  • 2篇硅衬底
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  • 1篇压阻检测
  • 1篇谐振器
  • 1篇纳米
  • 1篇MOS电容

机构

  • 3篇中国科学院
  • 1篇中国科学院研...

作者

  • 3篇丁萃
  • 3篇杨恒
  • 2篇李昕欣
  • 2篇吴紫阳
  • 2篇吴燕红
  • 2篇戴斌
  • 2篇王跃林
  • 1篇成海涛

传媒

  • 1篇传感器与微系...

年份

  • 1篇2013
  • 2篇2011
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
基于MOS电容衬底压阻的纳米梁检测研究
2011年
传统的纳米谐振器压阻检测在工艺上需解决制备结深浅、掺杂浓度高的薄层电阻的技术难题。基于MOS电容衬底压阻的谐振式纳米梁系统是一种新型的压阻检测方案,它通过将MOS电容耗尽层下的掺杂区用作力敏电阻,回避了制备浅结高浓度电阻的技术问题,也解决了MOS沟道压阻抗干扰性差的问题,在SoI硅片上制作了150 nm厚的梁结构。在检测方面,通过设计屏蔽式驱动封装结构,解决了驱动信号电磁耦合干扰的问题,并结合一系列降低噪声、减小串扰的措施,实现了μV量级的微弱信号检测。测试得到该结构在常温常压下的Q值为197,谐振峰频率为3.96 MHz,输出端检测灵敏度为0.73 mV/nm。
丁萃成海涛杨恒
关键词:谐振器压阻检测MOS电容
采用衬底栅极的MIS电容下压阻结构及制作方法
本发明涉及一种采用衬底栅极的MIS电容下压阻结构与实现该压阻结构的自对准加工工艺。用于检测纳米梁位移。该结构用SOI硅片的顶层硅制作纳米梁,用硅衬底作为栅极,腐蚀去除梁与硅衬底间的埋层二氧化硅形成间隙,硅衬底、间隙与纳米...
杨恒吴燕红丁萃吴紫阳戴斌李昕欣王跃林
采用衬底栅极的MIS电容下压阻结构的制作方法
本发明涉及一种采用衬底栅极的MIS电容下压阻结构与实现该压阻结构的自对准加工工艺。用于检测纳米梁位移。该结构用SOI硅片的顶层硅制作纳米梁,用硅衬底作为栅极,腐蚀去除梁与硅衬底间的埋层二氧化硅形成间隙,硅衬底、间隙与纳米...
杨恒吴燕红丁萃吴紫阳戴斌李昕欣王跃林
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共1页<1>
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