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文献类型

  • 11篇中文专利

主题

  • 4篇气口
  • 4篇躯体
  • 4篇进气
  • 4篇进气口
  • 2篇氮气
  • 2篇导流
  • 2篇电离
  • 2篇氧化钛薄膜
  • 2篇乙烯
  • 2篇原子层沉积
  • 2篇水性
  • 2篇四氟乙烯
  • 2篇四氯化碳
  • 2篇气体
  • 2篇亲水性
  • 2篇主控
  • 2篇钛源
  • 2篇膜厚
  • 2篇精确控制
  • 2篇聚四氟乙烯

机构

  • 11篇中国科学院微...

作者

  • 11篇夏洋
  • 11篇吕树玲
  • 11篇万军
  • 11篇李超波
  • 11篇陈波
  • 10篇石莎莉
  • 6篇李楠
  • 6篇张艳清
  • 4篇饶志鹏
  • 4篇黄成强
  • 1篇马舒

年份

  • 5篇2015
  • 5篇2013
  • 1篇2012
11 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
掺氮二氧化钛薄膜的制备方法
公开了一种掺氮二氧化钛薄膜的制备方法,通过向反应腔室中先后通入含钛源气体,形成硅钛键;向原子层沉积设备反应腔中通入氮气和氢气,进行等离子体放电,氮气电离后部分氮原子与所述部分钛原子形成共价键,氮原子未成键的电子和电离的氢...
万军赵柯杰黄成强饶志鹏陈波李超波夏洋吕树玲石莎莉
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提高聚四氟乙烯薄膜亲水性的原子层沉积方法
公开了一种提高聚四氟乙烯薄膜亲水性的原子层沉积方法,包括:将聚四氟乙烯薄膜放置于原子层沉积设备反应腔中;向所述原子层沉积设备反应腔中通入四氯化碳,使得所述四氯化碳中的碳原子吸附在所述聚四氟乙烯薄膜表面;向所述原子层沉积设...
万军赵柯杰黄成强饶志鹏陈波李超波夏洋吕树玲石莎莉
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一种气体分配器及原子层沉积设备
本发明涉及原子层沉积设备技术领域,具体涉及一种气体分配器及包括该气体分配器的原子层沉积设备。所述气体分配器,包括进气管道、过渡管道和配气盘,所述配气盘固定设置在所述过渡管道的出气口,所述过渡管道的进气口与所述进气管道连接...
张艳清夏洋李超波万军吕树玲陈波石莎莉李楠
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一种原子层沉积设备
本发明涉及一种原子层沉积设备,尤其是涉及一种使用集显示和控制于一体的嵌入式控制单元作为控制系统主控部件的原子层沉积设备。所述原子层沉积设备,包括主控部件、电气控制部件、真空部件、加热部件和气路部件,主控部件分别与电气控制...
张艳清夏洋李超波万军吕树玲陈波石莎莉李楠
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一种用于原子层沉积设备的气体分配器
本发明涉及原子层沉积设备技术领域,具体涉及一种用于原子层沉积设备的气体分配器。所述用于原子层沉积设备的气体分配器,所述气体分配器设置在原子层沉积设备的反应腔室内,位于所述反应腔室内基片台的上方;所述气体分配器为环型或U型...
张艳清夏洋李超波万军吕树玲陈波石莎莉李楠
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掺氮二氧化钛薄膜的制备方法
公开了一种掺氮二氧化钛薄膜的制备方法,通过向反应腔室中先后通入含钛源气体,形成硅钛键;向原子层沉积设备反应腔中通入氮气和氢气,进行等离子体放电,氮气电离后部分氮原子与所述部分钛原子形成共价键,氮原子未成键的电子和电离的氢...
万军赵柯杰黄成强饶志鹏陈波李超波夏洋吕树玲石莎莉
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提高聚四氟乙烯薄膜亲水性的原子层沉积方法
公开了一种提高聚四氟乙烯薄膜亲水性的原子层沉积方法,包括:将聚四氟乙烯薄膜放置于原子层沉积设备反应腔中;向所述原子层沉积设备反应腔中通入四氯化碳,使得所述四氯化碳中的碳原子吸附在所述聚四氟乙烯薄膜表面;向所述原子层沉积设...
万军赵柯杰黄成强饶志鹏陈波李超波夏洋吕树玲石莎莉
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一种原子层沉积设备
本发明涉及一种原子层沉积设备,尤其是涉及一种使用集显示和控制于一体的嵌入式控制单元作为控制系统主控部件的原子层沉积设备。所述原子层沉积设备,包括主控部件、电气控制部件、真空部件、加热部件和气路部件,主控部件分别与电气控制...
张艳清夏洋李超波万军吕树玲陈波石莎莉李楠
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一种气体分配器及原子层沉积设备
本发明涉及原子层沉积设备技术领域,具体涉及一种气体分配器及包括该气体分配器的原子层沉积设备。所述气体分配器,包括进气管道、过渡管道和配气盘,所述配气盘固定设置在所述过渡管道的出气口,所述过渡管道的进气口与所述进气管道连接...
张艳清夏洋李超波万军吕树玲陈波石莎莉李楠
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原子层薄膜沉积系统
1.本外观设计产品的名称:原子层薄膜沉积系统。;2.本外观设计产品的用途:用于进行原子层薄膜沉积。;3.本外观设计的设计要点:于外部形状。;4.最能表明设计要点的图片或者照片:主视图。
夏洋李超波陈波万军吕树玲马舒
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共2页<12>
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