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吴思诚

作品数:5 被引量:0H指数:0
供职机构:西北大学物理学系更多>>
相关领域:理学一般工业技术电子电信化学工程更多>>

文献类型

  • 3篇会议论文
  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇化学工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 2篇纳米
  • 2篇溅射
  • 2篇光催化
  • 2篇MO薄膜
  • 2篇磁控
  • 2篇催化
  • 2篇ZNO薄膜
  • 1篇氮掺杂
  • 1篇等离子体共振
  • 1篇氧化钛
  • 1篇氧化钛薄膜
  • 1篇铈掺杂
  • 1篇吸收谱
  • 1篇离子
  • 1篇纳米二氧化钛
  • 1篇纳米复合材料
  • 1篇缓冲层
  • 1篇溅射法
  • 1篇溅射法制备
  • 1篇光催化性

机构

  • 5篇西北大学
  • 1篇金堆城钼业股...

作者

  • 5篇吴思诚
  • 4篇姚合宝
  • 3篇王俊哲
  • 2篇金微
  • 2篇郑新亮
  • 2篇张璐
  • 1篇江洪湖
  • 1篇焦扬
  • 1篇范海波
  • 1篇王旋
  • 1篇赵宝华
  • 1篇郝强
  • 1篇张树清
  • 1篇赵颖

传媒

  • 1篇中国钼业
  • 1篇陕西省物理学...

年份

  • 2篇2012
  • 2篇2010
  • 1篇2009
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
Ag-TiO2纳米光致变色材料的国内外研究进展
介绍了Ag/TiO2纳米复合材料的光致变色现象,综述了Ag/TiO2光致变色材料在国际和国内的研究现状。这种光致变色材料在当前高科技领域具有重要的研究意义和广阔的应用前景。
张璐吴思诚金微王俊哲焦扬姚合宝
关键词:AG/TIO2纳米复合材料表面等离子体共振光致变色
文献传递
Mo缓冲层在溅射ZnO薄膜中的应用
2012年
ZnO薄膜材料作为一种新兴的材料,在半导体光电子领域有着广泛的应用前景。本文利用磁控溅射法在Si衬底上先生长一层Mo缓冲层,然后在Mo缓冲层上制备ZnO薄膜。通过性能对比发现,Mo缓冲层对于ZnO的结晶性能和发光性能的提高具有明显的改善作用。
吴思诚王旋范海波郑新亮姚合宝赵宝华
关键词:磁控溅射ZNO薄膜MO薄膜缓冲层
掺铈氧化钛薄膜光催化性能的研究
射频磁控溅射法分别制备纯TiO2薄膜,Ce掺TiO2薄膜及N、Ce共掺TiO2薄膜。用紫外-可见分光光度计对薄膜的吸收谱做了测定。测定结果表明:掺Ce的TiO2薄膜对紫外光吸收增强,N和Ce共掺TiO2薄膜不仅对紫外吸收...
王俊哲江洪湖郝强张璐吴思诚郑新亮姚合宝
关键词:TIO2薄膜CE光催化吸收谱
磁控溅射法制备ZnO/Mo/Si薄膜及特性研究
第一代半导体材料(硅)和第二代半导体材料(砷化镓GaAs,磷化铟InP)由于禁带宽度较窄,已经不能适应半导体技术发展的要求。氧化锌(ZnO)和氮化镓(GaN)作为典型的宽禁带半导体材料成为当前研究的热点方向。由于GaN材...
吴思诚
关键词:MO薄膜ZNO薄膜
文献传递
氮铈共掺杂改性纳米二氧化钛薄膜光催化性能研究
介绍纳米二氧化钛的光催化原理,并对氮掺杂,铈掺杂以及氮铈共掺杂对二氧化钛的光催化性能的改性,从微观机理上进行了分析。
金微赵颖张树清王俊哲吴思诚姚合宝
关键词:纳米二氧化钛氮掺杂铈掺杂光催化
共1页<1>
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