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张宏

作品数:9 被引量:7H指数:2
供职机构:辽宁大学物理系更多>>
发文基金:国家自然科学基金辽宁省教委资助课题更多>>
相关领域:理学金属学及工艺电子电信更多>>

文献类型

  • 9篇中文期刊文章

领域

  • 6篇理学
  • 2篇金属学及工艺
  • 2篇电子电信

主题

  • 2篇电路
  • 2篇碰撞诱导转动...
  • 2篇转动传能
  • 2篇量子
  • 2篇量子干涉
  • 1篇动态电路
  • 1篇多孔硅
  • 1篇多米诺
  • 1篇杂质浓度分布
  • 1篇微分干涉角
  • 1篇微观结构
  • 1篇离子注入
  • 1篇量子干涉效应
  • 1篇逻辑电路
  • 1篇静电放电
  • 1篇寄生参数
  • 1篇各向异性
  • 1篇光致
  • 1篇光致发光
  • 1篇发光

机构

  • 9篇辽宁大学

作者

  • 9篇张宏
  • 5篇沈桂芬
  • 5篇张宏庆
  • 5篇范军
  • 2篇付世
  • 2篇丁德宏
  • 2篇李永庆
  • 2篇韩宇
  • 2篇姚朋军
  • 1篇姜树森
  • 1篇刘玲

传媒

  • 7篇辽宁大学学报...
  • 1篇微电子学与计...
  • 1篇微处理机

年份

  • 1篇2006
  • 3篇2005
  • 4篇2004
  • 1篇2003
9 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
关于GCNMOS的ESD保护电路的HBM的分析测试被引量:1
2005年
静电放电(electrostaticdischarge,ESD)是造成大多数的集成电路(integratedcircuits,ICs)或电子系统受到过度电性应力(electricaloverstress,EOS)破坏的主要原因。而HBM(humanbobymodel)是ESD破坏IC的最常见的一种方式.因此要在IC中加入相关的保护电路.对一种GCNMOS(gate-coupleNMOS)的保护电路进行详细的分析与测试.
张宏张宏庆范军沈桂芬
关键词:静电放电
碰撞诱导转动传能中的微分干涉角
2006年
理论模型基于一级含时波恩近似,考虑各项异性相互作用势,在此基础上给出了原子与1∏态双原子分子体系转动传能中量子干涉的微分干涉角.
张宏李永庆
关键词:碰撞诱导转动传能微分干涉角量子干涉
多孔硅的能带与发光机制的研究与分析
2004年
在光致发光技术对多孔硅光学性质研究的基础上讨论了与多孔硅的微观结构有关的多孔硅的能带结构,用能量赝势法模拟计算出多孔硅的能带间隙.
丁德宏张宏付世姚朋军范军张宏庆沈桂芬
关键词:多孔硅发光机制表面态光致发光
CO(■∏,v=3)转动传能中Λ-相关的量子干涉效应
2005年
理论模型基于一级含时波恩近似,考虑各项异性相互作用势,在此基础上给出了原子与1∏态双原子分子体系的积分干涉角.
李永庆张宏
关键词:碰撞诱导转动传能量子干涉
动态CMOS多米诺逻辑电路的研究被引量:2
2005年
主要对导致动态CMOS多米诺电路失效的原因进行详细的描述,并讨论了解决电路失效问题的若干方案,从而有效地提高了动态CMOS多米诺逻辑电路在实际应用中的可靠性和稳定性.
范军张宏张宏庆沈桂芬
关键词:动态电路串扰
XRD研究组合离子注入Si的辐射损伤
2004年
本文用 DCD法测量了注入能量为 1 80 Kev,不同剂量 ,不同退火温度的 N+ 2 /As+组合注入 Si样片。用 XRD动力学理论和最小二乘法拟合实验曲线 ,得到组合注入层的辐射损伤度 ,并讨论了损伤层在不同退火温度下的恢复情况。结果表明 :剂量为 5× 1 0 15ion/cm2时 ,注入层的衍射曲线出现双峰 ,次峰在主峰左侧 ,说明晶格膨胀且有非晶层形成。退火温度达 90 0℃时 ,衍射线为单峰 ,说明这个退火温度使层结构恢复为连续结构 ,且组合注入的辐射损伤在相同剂量下是单束注入的三倍多。
韩宇张宏
关键词:半导体材料离子注入XRD微观结构
TMAH腐蚀液的研究被引量:2
2003年
TMAH是一种新型的、性能优异的各向异性腐蚀液。文章通过大量对比实验,对该腐蚀液用于<100>、<111>单晶Si片不同电阻率、不同晶向的样品研究了粗糙度和腐蚀速率,得出重要结论。此研究对正确使用TMAH腐蚀液有重要指导意义。
沈桂芬姚朋军张宏刘玲张宏庆范军
关键词:TMAH粗糙度腐蚀速率各向异性
一种16位存储器版图的验证与参数提取被引量:2
2004年
随着集成电路的发展,存储器在IC(IntegratedCircuit)即"集成电路"中地位越来越突出.阐述了对一种16位存储器版图设计中的DRC(DesignRuleChecking)即"设计规则检查"和LVS(LayoutVersusSchematic)即"版图和电路比较"、以及RC寄生参数的提取.
张宏庆张宏范军丁德宏付世沈桂芬
关键词:DRCLVS寄生参数
组合离子注入的杂质浓度分布与损伤分布比较
2004年
用LSS理论,计算了注入能量为180keV,注入剂量为1×10^(13)~5×10^(15)ion/cm^2的N_2^+/As^+组合离子注人Si的杂质浓度分布,由X射线衍射的运动学理论,利用多层模型和试探应变函数拟合X射线衍射曲线,得到了晶格应变随注入深度的分布,并将二者进行了比较.结果表明N_2^+/As^+组合离子注入单晶Si的应变分布曲线为单峰,位于杂质浓度分布曲线的双峰之间,靠近重离子峰.
韩宇张宏姜树森
共1页<1>
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