石峰
- 作品数：195 被引量：231H指数：9
- 供职机构：国防科学技术大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家部委资助项目教育部“新世纪优秀人才支持计划”更多>>
- 相关领域：机械工程电子电信自动化与计算机技术金属学及工艺更多>>
- 基于扩展事件图的复杂仿真系统因果追溯分析方法
- 随着仿真技术在军事仿真领域的不断应用,作为研究对象的客观系统已经从系统范畴提升到体系范畴,从而导致仿真系统越来越复杂。由于仿真中涉及的实体众多,交互关系复杂,作用过程具有不确定性,仿真模型复杂且具有多领域多组织特征,使得...
- 石峰
- 关键词：复杂仿真系统因果解释
- 易潮解晶体的磁流变抛光方法
- 本发明公开了一种易潮解晶体的磁流变抛光方法，包括（1）配制非水基磁流变抛光液；（2）将非水基磁流变抛光液加入磁流变机床循环系统中进行两次磁流变抛光加工；（3）两次磁流变抛光加工完成后，采用芳香烃对所得易潮解晶体迅速进行清...
- 戴一帆胡皓陈少山石峰彭小强关朝亮
- 文献传递
- 一种新的基于重复共轭对称构前导的OFDM同步算法被引量：9
- 2010年
- 针对基于重复共轭对称结构前导的OFDM系统,提出了一种延迟相关与对称相关相结合的符号同步新算法,在搜索出定时度量峰值位置的基础上,使用固定门限搜索出第一条路径。理论分析表明该方法可以实现性能良好的符号同步。在静态多径信道和6径典型市区信道条件下对新提出的算法进行了仿真,仿真结果表明所提算法可有效抑制传统的基于对称定时度量同步算法中存在的定时位置偏移,获得准确的定时性能。
- 石峰王晨周柱张尔扬
- 关键词：OFDM
- 光学加工用抛光盘的光顺能力评价方法
- 本发明公开了一种光学加工用抛光盘的光顺能力评价方法，包括以下步骤：首先测量试验工件的初始面形数据，并进行滤波处理；再对试验工件进行光顺，测量光顺后的最终面形数据并进行滤波处理；将滤波后初始面形数据与最终面形数据作差，得到...
- 彭小强戴一帆舒勇胡皓石峰宋辞
- 文献传递
- 基于温控磁流变的蓝宝石非球面元件修形及组合抛光方法
- 本发明公开了一种基于温控磁流变的蓝宝石非球面元件修形及组合抛光方法，包括在对蓝宝石非球面元件进行磁流变抛光的过程中，将抛光环境的温度控制在蓝宝石水合层生长的最佳温度，并通过恒温装置控制抛光过程中温度的稳定，从而最大效率地...
- 石峰田野谢凌波宋辞候云泽
- 文献传递
- 熔石英光学元件全过程原位修复与监测一体化装置及方法
- 本发明公开了一种熔石英光学元件全过程原位修复与监测一体化装置及方法，本发明的装置包括修复平台，修复平台上设有水平布置的X轴直线轴，X轴直线轴上设有用于安装固定被修复的熔石英光学元件的刚性支撑调节机构，修复平台上对应X轴直...
- 宋辞王博石峰田野铁贵鹏
- 单晶硅柱面反射镜离子束倾斜入射加工工艺优化被引量：6
- 2020年
- 针对单晶硅柱面镜加工过程中面临的加工效率低、加工精度差以及表面质量难控等问题,提出采用离子束倾斜入射的方法来进行单晶硅柱面镜的加工工艺优化。通过建立离子束倾斜入射的去除函数理论模型,揭示去除效率同入射角度的关联规律;通过分析离子束倾斜入射的微观形貌作用机理,揭示表面质量同入射角度的关联规律;综合优化去除效率和表面质量,获得倾斜入射的最佳入射角度,并建立基于离子束倾斜入射的新工艺路线。在一块尺寸为100 mm×100 mm的单晶硅凸柱面镜上采用新工艺路线进行加工实验,结果表明:在保证加工精度和表面质量的情况下,加工时间节约53.7%,验证了离子束倾斜入射加工的先进性。
- 宋辞田野石峰张坤沈永祥
- 关键词：光学设计离子束倾斜入射单晶硅
- 光学复杂曲面元件的磁流变抛光补偿加工方法、系统及介质
- 本发明公开了一种光学复杂曲面元件的磁流变抛光补偿加工方法、系统及介质，本发明的磁流变抛光补偿加工方法包括：获取平面去除函数；映射得到不同曲率下的球面去除函数；针对待加工工件面形区域内的每一个驻留点，拟合计算驻留点附近的复...
- 彭小强胡皓戴一帆赵陶铁贵鹏石峰李信磊
- 文献传递
- 一种大梯度相位型强光元件的可变补偿干涉检测系统与方法
- 本发明公开了一种大梯度相位型强光元件的可变补偿干涉检测系统与方法，系统包括波面干涉仪、标准镜头、待测大梯度相位型强光元件、扩束系统、SLM、SLM相位控制系统和平移台，扩束系统用于实现SLM口径与波面干涉仪口径的匹配，S...
- 薛帅石峰宋辞铁贵鹏田野邓明杰
- 文献传递
- 熔石英元件纳米射流超光滑抛光流场仿真与实验被引量：3
- 2016年
- 利用计算流体力学软件Fluent对纳米颗粒射流超光滑加工的流场分布特点进行了流体动力学分析。基于仿真结果对去除函数的变化规律进行了研究,通过具体实验来对流体动力学仿真结果进行了验证。搭建了纳米射流抛光装置,利用该装置对熔石英元件进行了加工。原子力显微镜观测结果表明熔石英元件表面粗糙度RMS值由初始的0.680 nm减小到了0.307 nm,实现了超光滑加工。
- 杨平彭文强李圣怡石峰
- 关键词：流场分析熔石英超光滑
