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胡继刚

作品数：9 被引量：5H指数：1
供职机构：中国科学技术大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划中国科学技术大学青年创新基金更多>>
相关领域：电子电信理学机械工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 7篇专利
  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇机械工程
  • 1篇理学

主题

  • 9篇光刻
  • 7篇光刻机
  • 5篇偶氮
  • 5篇偶氮苯
  • 3篇导模
  • 3篇偶氮苯聚合物
  • 3篇平面反射镜
  • 3篇反射镜
  • 3篇表面起伏光栅
  • 2篇等离子体
  • 2篇等离子体波
  • 2篇亚波长
  • 2篇亚波长光栅
  • 2篇汞灯
  • 2篇光刻系统
  • 2篇光源
  • 2篇光源系统
  • 2篇光栅
  • 2篇光子
  • 2篇光子器件

机构

  • 9篇中国科学技术...
  • 1篇巢湖学院

作者

  • 9篇胡继刚
  • 8篇张斗国
  • 8篇陈漪恺
  • 8篇明海
  • 8篇王向贤
  • 5篇朱良富
  • 5篇王沛
  • 2篇汪波
  • 2篇陈鲁
  • 1篇傅强
  • 1篇汪波

传媒

  • 1篇中国激光

年份

  • 1篇2014
  • 4篇2013
  • 2篇2012
  • 1篇2011
  • 1篇2010
共 9 条 记 录，以下是 1-9
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排序方式：
一种基于表面等离子体干涉的可重构亚波长光栅光刻机
本实用新型公开了一种基于表面等离子体干涉的可重构亚波长光栅光刻机，该光刻机包括：激光光源，光电快门，起偏器，分束镜，平面反射镜A，平面反射镜B，棱镜，匹配油，玻璃基底，金属薄膜，偶氮苯聚合物薄膜。激光光源发出的光束经起偏...
王向贤张斗国陈漪恺胡继刚朱良富王沛明海
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一种基于导模干涉的偶氮苯聚合物表面起伏光栅光刻机
本发明公开了一种基于导模干涉的偶氮苯聚合物表面起伏光栅光刻机，包括：激光光源，光电快门，透镜，半波片，起偏器，分束器，平面反射镜，棱镜，匹配油，玻璃基底，金属薄膜，偶氮苯聚合物薄膜，光波导参数测量仪。激光光源发出的光扩束...
王向贤张斗国朱良富陈漪恺胡继刚王沛明海
文献传递
一种基于紫外LED光源的光刻机
本发明公布了一种基于紫外LED光源的光刻机，其结构包括实现光束均匀辐照曝光的紫外LED光源光学系统，控制曝光时间和相对辐照强度的发光控制器，光栏，光刻掩模板和光刻基片，该光刻机可采用接触式或接近式曝光。本发明结构简单，与...
王向贤明海张斗国胡继刚陈鲁汪波陈漪恺
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曲面金属-电介质多层复合结构超分辨特性及其光刻效应研究
本论文推导了柱坐标系下曲面金属-电介质多层复合结构的等效介质理论和色散方程，分析了曲面金属-电介质多层复合结构实现超分辨效应的物理机理及其条件;研究了结构的几何参数、介电常数和结构所处的环境介质对其远场超分辨特性的影响，...
胡继刚
关键词：电介质有限元方法
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一种基于导模干涉的偶氮苯聚合物表面起伏光栅光刻机
本发明公开了一种基于导模干涉的偶氮苯聚合物表面起伏光栅光刻机，包括：激光光源，光电快门，透镜，半波片，起偏器，分束器，平面反射镜，棱镜，匹配油，玻璃基底，金属薄膜，偶氮苯聚合物薄膜，光波导参数测量仪。激光光源发出的光扩束...
王向贤张斗国朱良富陈漪恺胡继刚王沛明海
一种基于表面等离子体干涉的可重构亚波长光栅光刻机
本发明公开了一种基于表面等离子体干涉的可重构亚波长光栅光刻机，该光刻机包括：激光光源，光电快门，起偏器，分束镜，平面反射镜A，平面反射镜B，棱镜，匹配油，玻璃基底，金属薄膜，偶氮苯聚合物薄膜。激光光源发出的光束经起偏器后...
王向贤张斗国陈漪恺胡继刚朱良富王沛明海
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均匀辐照365nm LED光源设计及其在光刻中的应用被引量：5
2012年
优化设计了365nm紫外LED点光源阵列、聚焦透镜组的排布,实现了高强度均匀辐照的LED面光源。利用优化后的365nm LED面光源进行了接触式曝光光刻实验,所得刻写图形与掩模板图形一致。提出的基于365nm紫外LED阵列均匀辐照面光源的光刻方法具有结构简单、节能、环保等优势。
王向贤汪波傅强陈漪恺胡继刚张斗国明海
关键词：光学制造紫外发光二极管阵列光刻
一种基于导模干涉的偶氮苯聚合物表面起伏光栅光刻机
本实用新型公开了一种基于导模干涉的偶氮苯聚合物表面起伏光栅光刻机，包括：激光光源，光电快门，透镜，半波片，起偏器，分束器，平面反射镜，棱镜，匹配油，玻璃基底，金属薄膜，偶氮苯聚合物薄膜，光波导参数测量仪。激光光源发出的光...
王向贤张斗国朱良富陈漪恺胡继刚王沛明海
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一种基于紫外LED光源的光刻机
本实用新型公布了一种基于紫外LED光源的光刻机，其结构包括实现光束均匀辐照曝光的紫外LED光源光学系统，控制曝光时间和相对辐照强度的发光控制器，光栏，光刻掩模板和光刻基片，该光刻机可采用接触式或接近式曝光。本实用新型结构...
王向贤明海张斗国胡继刚陈鲁汪波陈漪恺
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