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闻立时

作品数:321 被引量:1,410H指数:19
供职机构:中国科学院金属研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划中国科学院知识创新工程重要方向项目更多>>
相关领域:一般工业技术理学金属学及工艺电子电信更多>>

文献类型

  • 201篇期刊文章
  • 64篇专利
  • 55篇会议论文
  • 1篇科技成果

领域

  • 90篇一般工业技术
  • 89篇理学
  • 62篇金属学及工艺
  • 28篇电子电信
  • 14篇电气工程
  • 13篇化学工程
  • 5篇经济管理
  • 5篇动力工程及工...
  • 2篇冶金工程
  • 2篇机械工程
  • 1篇环境科学与工...

主题

  • 88篇离子镀
  • 81篇电弧离子镀
  • 47篇磁控
  • 46篇涂层
  • 43篇溅射
  • 42篇磁控溅射
  • 28篇脉冲偏压
  • 25篇合金
  • 21篇纳米
  • 18篇靶材
  • 16篇脉冲偏压电弧...
  • 15篇喷涂
  • 15篇热丝
  • 14篇氮化
  • 14篇反应磁控溅射
  • 13篇溅射制备
  • 13篇光学
  • 13篇高温氧化
  • 12篇直流反应磁控...
  • 12篇热障

机构

  • 273篇中国科学院金...
  • 35篇大连理工大学
  • 29篇东北大学
  • 25篇中山大学
  • 16篇华南理工大学
  • 12篇中南大学
  • 9篇东北师范大学
  • 8篇北京航空航天...
  • 7篇沈阳航空工业...
  • 7篇中国科学院
  • 6篇辽宁工学院
  • 5篇北京科技大学
  • 5篇湘潭大学
  • 5篇香港城市大学
  • 3篇九江学院
  • 3篇沈阳工业大学
  • 2篇辽宁工业大学
  • 2篇沈阳建筑大学
  • 2篇辽宁石油化工...
  • 2篇燕山大学

作者

  • 321篇闻立时
  • 126篇孙超
  • 99篇黄荣芳
  • 81篇宫骏
  • 62篇肖金泉
  • 35篇王启民
  • 34篇华伟刚
  • 31篇杜昊
  • 30篇赵彦辉
  • 29篇董闯
  • 28篇林国强
  • 27篇巴德纯
  • 20篇郎文昌
  • 19篇裴志亮
  • 19篇柯培玲
  • 19篇武颖娜
  • 16篇沈辉
  • 16篇刘山川
  • 15篇王福会
  • 14篇王冰

传媒

  • 46篇金属学报
  • 18篇真空
  • 16篇真空科学与技...
  • 11篇材料研究学报
  • 8篇材料保护
  • 7篇材料导报
  • 7篇人工晶体学报
  • 6篇功能材料
  • 4篇世界科技研究...
  • 4篇腐蚀科学与防...
  • 4篇真空科学与技...
  • 4篇材料科学进展
  • 4篇2000年中...
  • 3篇稀有金属材料...
  • 3篇科学通报
  • 3篇硅酸盐学报
  • 3篇无机材料学报
  • 3篇高分子材料科...
  • 3篇功能材料与器...
  • 3篇金属功能材料

年份

  • 1篇2015
  • 1篇2014
  • 3篇2012
  • 11篇2011
  • 17篇2010
  • 18篇2009
  • 26篇2008
  • 35篇2007
  • 16篇2006
  • 33篇2005
  • 22篇2004
  • 17篇2003
  • 15篇2002
  • 20篇2001
  • 21篇2000
  • 8篇1999
  • 10篇1998
  • 7篇1997
  • 8篇1996
  • 4篇1995
321 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
太阳电池TiO2减反射薄膜的制备与特性研究(英文)
由于TiO2薄膜具有不同的晶体结构,在红外和可见光范围内能够展现出不同的折射率和透过率,并且它还具有高的介电常数、宽的禁带、高的耐磨性和稳定性,因此倍受物理学领域的广泛关注。被广泛应用于很多领域。本文的目的是研究太阳电池...
王贺权巴德纯沈辉闻立时
关键词:直流反应磁控溅射太阳电池
文献传递
一种大面积高速度热丝化学气相沉积金刚石的方法及设备
一种大面积高速度热丝化学气相沉积金刚石的方法,采用通常的氢与甲烷的比例,甲烷占总流量的1-1.5%,混合气体流量10~200SCCM/cm<Sup>2</Sup>;保持反应区温度在2000~2600℃,其特征在于:将氢气...
闻立时黄荣芳陈广超
文献传递
多模式可编程调制的旋转横向磁场控制的电弧离子镀装置
本发明涉及薄膜制备领域,具体地说是一种利用旋转磁场控制弧斑运动的多模式可编程调制的旋转横向磁场控制的电弧离子镀装置。该电弧离子镀装置设有靶材、旋转磁场装置、电磁线圈、绝缘套、法兰、真空室、基体夹座,真空室内设置基体夹座、...
肖金泉郎文昌孙超宫骏赵彦辉闻立时
文献传递
HFCVD金刚石膜的形貌对红外透射率的影响被引量:4
2000年
本文测量HFCVD生长的金刚石膜的红外透射率。结果表明 ,膜中的缺陷、杂质和非金刚石相在透射谱中产生吸收带 ;膜表面的粗糙度和组织形貌对透射率有较大的影响。形核表面面对红外光源时 ,由于减少表面散射而透射率较高 ;定向或高取向膜的透射率高于混杂取向膜的透射率 ,表明晶格取向和晶界分布影响膜的透射性能。
宋贵宏宫骏孙超黄荣芳闻立时
关键词:金刚石膜热丝化学气相沉积晶体形貌
一种溶致液晶固态偏振薄膜及其制备方法
本发明公开了一种溶致液晶固态偏振薄膜及其制备方法。该偏振薄膜的制备过程包括下述步骤:改性处理、制备溶致液晶溶液、涂布薄膜并取向、以及稳定化处理,最后制得本溶致液晶固态偏振薄膜。本溶致液晶固态偏振薄膜的偏振效率可达95%以...
张亚辉龚建勋曾德长刘正义闻立时邱万奇
文献传递
ZnO:Al薄膜的组织结构与性能被引量:12
2000年
用直流磁控反应溅射合金靶制备了ZnO薄膜,研究了衬底温度和退火温度对薄膜的结构及电学和光学性能的影响.衬底温度升高能改善薄膜的电学特性,其原因是薄膜晶粒尺寸的增大温度升高导致薄膜基本光学吸收边向短波移动,但对高透射区(450~850nm)的透射率影响不大.
裴志亮谭明晖杜昊陈猛孙超黄荣芳闻立时
关键词:ZNO薄膜透射率
一种磁控管溅射装置
本实用新型涉及真空镀膜磁控溅射沉积技术,更具体地,涉及一种在真空溅射镀膜时使用的溅射装置,包括:磁控管(1)和电磁线圈(6),彼此同轴相对放置,其中电磁线圈(6)可以沿着磁控管(1)中心轴线远近移动。通过控制电磁线圈(6...
肖金泉张小波孙超宫骏华伟刚石南林闻立时
文献传递
透明导电薄膜在不同衬底上的性能对比研究被引量:5
2005年
为了对比研究不同透明衬底上ZnO:Al(ZAO)薄膜的性能,采用直流反应溅射法制备薄膜,并对其作EDS、XRD和电学测试分析。结果表明:所制备的ZAO薄膜具有典型的ZnO晶体结构;沉积在玻璃基片上的ZAO薄膜,Al,O含量高于沉积在透明聚酯塑料基片上的,而Zn的含量则相反;在两种衬底上获得的ZAO薄膜电阻率分别为4.5×10-4Ω·cm和9.73×10-4Ω·cm,可见光透射率分别达到87.7%和81.5%。由此可见:用直流反应磁控溅射法在不同衬底上都能获得可见光透射率达到80%以上的ZAO薄膜;相比而言,在玻璃衬底上获得的ZAO薄膜电阻率低,而在透明聚酯塑料上沉积的ZAO薄膜透射性好。
陆峰徐成海闻立时曹洪涛裴志亮孙超
关键词:ZAO薄膜衬底直流磁控溅射电阻率透射率
可调速调幅的旋转磁场控制的电弧离子镀弧源
本实用新型涉及薄膜制备领域,具体地说是一种可调速调幅的旋转磁场控制的电弧离子镀弧源。在靶材周围空间设有旋转磁场发生装置,旋转磁场发生装置为采用相差一定均匀角度、相互连接在一起的几个磁极均匀布在同一圆周上,磁极数量为4n或...
肖金泉郎文昌孙超宫骏赵彦辉华伟刚闻立时
文献传递
脉冲偏压电弧离子镀CrA1N薄膜性能研究
CrAIN薄膜具有良好的力学性能和高温抗氧化性能,日益受到人们的重视,但目前该薄膜的制备还存在着很多问题,如膜基结合力较低等。本文利用脉冲偏压电弧离子镀分离靶弧流调控技术在高速钢和不锈钢基体上制备了CrAlN、CrAlN...
卢国英林国强赵彦辉董闯闻立时
关键词:脉冲偏压电弧离子镀高温抗氧化性
文献传递
共33页<12345678910>
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