韩春霞
- 作品数：14 被引量：27H指数：3
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- 相关领域：金属学及工艺化学工程更多>>
- Na2SiO3-Na2WO4-丙三醇电解液中Na2SiO3对ZAlSi12Cu2Mg1微弧氧化膜形成的影响
- 2007年
- 电解液组成对微弧氧化陶瓷膜的形成具有重要作用。在Na2SiO3-Na2WO4-丙三醇复合电解液体系下，对ZAlSi12Cu2Mg1合金微弧氧化陶瓷膜的形成进行研究，通过改变Na2SiO3的含量，研究了其对微弧氧化的临界起弧电压、稳定氧化时间、陶瓷膜层厚度、膜层生长速率和陶瓷膜层相组成的影响。结果表明：Na2SiO3含量从6g／L到12g／L变化时，膜层厚度从154μm逐渐增加到174μm；稳定氧化时间由27min缩短为18min；膜层生长速率约从5．70μm／min提高到9．67μm／min；但Na2SiO3含量超过12g／L时，膜层厚度却不再增加了；当Na2SiO3含量为14g／L时，膜层厚度为166μm；当Na2SiO3含量为8g／L时，临界起弧正向电压达385V，负向电压达最低值为27V。XRD分析表明：陶瓷膜层中含有莫来石、SiO2、α-Al2O3和γ-Al2O3相，陶瓷膜层的莫来石、Si02、α-Al2O3和γ—Al2O3相含量随电解液Na2SiO3含量变化而变化。
- 刘彩文刘向东刘永珍韩春霞王晓军张雅萍
- 关键词：ZALSI12CU2MG1陶瓷膜层
- Na2SiO3-Na2WO4-丙三醇电解液中Na2SiO3对ZAlSi12Cu2Mg1微弧氧化膜形成的影响
- 电解液组成对微弧氧化陶瓷膜的形成具有重要作用．在 NaSiO-NaWO-丙三醇复合电解液体系下, 对 ZAlSi12Cu2Mg1合金微弧氧化陶瓷膜的形成进行研究,通过改变 NaSiO的含量,研究了其对微弧氧化的临界起弧电...
- 刘彩文刘向东刘永珍韩春霞王晓军张雅萍
- 关键词：ZALSI12CU2MG1陶瓷膜层
- 文献传递
- ZAlSi12Cu2Mg1微弧氧化过程中负向电压对陶瓷膜层形成的影响被引量：3
- 2007年
- 在交流条件下,采用硅酸钠电解液,通过调节不同的负向电压值,在ZAlSi12Cu2Mg1合金表面制得了微弧氧化陶瓷膜层。研究了不同的负向电压值对陶瓷膜层形成过程的影响。结果表明:负向电压从80 V到160 V变化时,氧化时间从5 min延长到65 min,膜层厚度从28μm增加到208μm,致密度从0.267 g/cm^3增大到1.048 g/cm^3,特别是微弧氧化第2阶段氧化时间,在负向电压为160V时持续了32 min,试样表面逐渐变粗糙;在电解液组成为NaSiO_3 8 g/L,NaOH 2 g/L,Na_2EDTA 2g/L下,适宜的正/负向电压值为480/140 V,获得厚度为166μm的膜层。XRD分析表明:陶瓷层主要由莫来石、α-Al_2O_3和γ-Al_2O_3以及氧化铝的非晶物质组成。
- 韩春霞刘向东刘彩文刘永珍王晓军
- 关键词：微弧氧化负向电压陶瓷膜层
- NaOH-Na_2SiO_3-Na_2WO_4体系下负向电压对ZAlSi12Cu2Mg1微弧氧化膜特性及组织的影响被引量：1
- 2007年
- 交流电源中负向电压对铝合金微弧氧化陶瓷膜形成过程及其组织性能有重要影响。本文研究了在NaOH-Na_2SiO_3-Na_2WO_4电解液体系下负向电压对ZAlSi12Cu2Mg1铸造铝合金微弧氧化陶瓷膜厚度、硬度及截面形貌的影响。试验中,负向电压从85 V到110 V变化。利用电涡流测厚仪测量陶瓷膜的厚度,用显微硬度计测量陶瓷膜截面的显微硬度,并进行截面形貌观察。试验结果表明:负向电压的提高,有利于陶瓷膜厚度和显微硬度的增加,但负向电压达到一个极限值后,陶瓷膜表面变粗糙,甚至烧蚀,膜层与基体结合变差,陶瓷膜中开始出现裂纹,显微硬度下降;在负向电压为适合值95V时,得到的陶瓷膜厚度为110μm,显微硬度为8810 MPa(HV);同时,沿陶瓷膜厚度方向,从陶瓷膜与基体结合界面到陶瓷膜表层,显微硬度呈现先增加后降低的趋势,在致密层中显微硬度存在一个最大值。
- 刘永珍刘向东王晓军韩春霞刘彩文
- 关键词：微弧氧化负向电压ZALSI12CU2MG1
- Na2SiO3-Na2WO4电解液体系中丙三醇对ZAlSi12Cu2Mg1微氧化膜形成的影响
- 电解液组成是影响微弧氧化陶瓷膜形成重要的因素.在Na2SiO3-Na2WO4复合电解液体系下,对ZAlSi12Cu2Mg1微弧氧化陶瓷膜的形成进行研究,通过改变丙三醇的含量,研究了其对微弧氧化的临界起电压、稳定氧化时间和...
- 刘彩文刘向东韩春霞张雅萍张静刘晓丽
- 关键词：丙三醇表面处理微弧氧化
- 文献传递
- 电参数对ZAlSi12Cu2Mg1合金微弧氧化陶瓷膜层形成的影响
- ZAlSi12Cu2Mg1合金具有铸造流动性好、无热裂倾向、热膨胀系数小等优点,是一种重要的工程材料。但由于其耐磨性、耐蚀性、耐热性较差,使用寿命短,限制了其广泛应用。如采用微弧氧化技术在其表面形成致密陶瓷层,则有望改善...
- 韩春霞
- 关键词：微弧氧化电参数陶瓷膜层
- 文献传递
- Na2SiO3-Na2WO4电解液体系中丙三醇对ZAlSi12Cu2Mg微弧氧化膜形成的影响
- 2007年
- 电解液组成是影响微弧氧化陶瓷膜形成重要的因素。在Na2SiO3-Na2WO4复合电解液体系下，对ZAlSi12Cu2Mg1微弧氧化陶瓷膜的形成进行研究，通过改变丙三醇的含量，研究了其对微弧氧化的临界起弧电压、稳定氧化时间和陶瓷膜层厚度的影响。并测定了陶瓷膜的相组成。结果表明：丙三醇含量从0ml／L到10ml／L变化时，临界起弧正向电压由360V逐渐升高至408V；膜层厚度从63μm逐渐增加到156μm；稳定氧化时间由16min延长到26min；XRD分析表明：陶瓷膜层中主要由莫来石、SiO2和α-Al2O3和γ-Al2O3相组成。
- 刘彩文刘向东韩春霞张雅萍张静刘晓丽
- 关键词：丙三醇ZALSI12CU2MG1微弧氧化陶瓷膜
- 利用阿基米德排水法测量陶瓷体积密度和孔隙率的装置
- 本实用新型公开利用阿基米德排水法测量陶瓷体积密度和孔隙率的装置，包括玻璃计量桶、调压机构、滑动机构和容器，所述玻璃计量桶顶部密封连接有顶盖，所述顶盖与所述滑动机构滑动连接，所述顶盖一侧开有气孔，所述气孔与所述调压机构流体...
- 王峰刘景顺王璐韩春霞
- Na2SiO3-Na2WO4电解液体系中丙三醇对ZAlSi12Cu2Mg1微弧氧化膜形成的影响
- 电解液组成是影响微弧氧化陶瓷膜形成重要的因素．在 NaSiO-NaWO复合电解液体系下,对 ZAlSi12Cu2Mg1微弧氧化陶瓷膜的形成进行研究,通过改变丙三醇的含量,研究了其时微弧氧化的临界起弧电压、稳定氧化时间和陶...
- 刘彩文刘向东韩春霞张雅萍张静刘晓丽
- 关键词：丙三醇ZALSI12CU2MG1陶瓷膜
- 文献传递
- ZAlSi12Cu2Mg1微弧氧化陶瓷膜层形成过程研究被引量：3
- 2007年
- 通过控制微弧氧化时间,研究了ZA1Si12Cu2Mg1在不同氧化时间下膜层的生长过程,分析了氧化过程中正向电流密度、膜层厚度的变化。结果表明:微弧氧化阶段又分为氧化过渡阶段和氧化烧结阶段。氧化过渡阶段陶瓷层以向外生长为主;生成Al_2O_3非晶氧化物;氧化烧结阶段膜层以向内生长为主,此阶段膜层生长速率最快,生成Al_2O_3晶体和莫来石。氧化烧结阶段对陶瓷膜层的形成起重要作用,对氧化烧结阶段的控制可直接影响膜层的厚度以及膜层中Al_2O_3晶体含量。
- 韩春霞刘向东王晓军吕凯王力杰
- 关键词：ZALSI12CU2MG1微弧氧化陶瓷膜层
