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颜秉熙

作品数:11 被引量:16H指数:2
供职机构:复旦大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:金属学及工艺理学电子电信一般工业技术更多>>

文献类型

  • 4篇专利
  • 3篇期刊文章
  • 3篇会议论文
  • 1篇学位论文

领域

  • 3篇金属学及工艺
  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 4篇退火
  • 4篇溅射
  • 4篇光催化
  • 4篇磁控
  • 4篇磁控溅射
  • 3篇氧化钛薄膜
  • 3篇真空
  • 3篇真空镀
  • 3篇蒸发
  • 3篇光电
  • 3篇二氧化钛薄膜
  • 3篇钢板
  • 2篇电特性
  • 2篇氧化钛
  • 2篇三层结构
  • 2篇能级
  • 2篇紫外波段
  • 2篇离子轰击
  • 2篇级差
  • 2篇溅射制备

机构

  • 11篇复旦大学
  • 1篇贵州民族大学

作者

  • 11篇颜秉熙
  • 10篇沈杰
  • 6篇罗胜耘
  • 4篇毛鑫光
  • 4篇马进

传媒

  • 2篇真空科学与技...
  • 1篇物理化学学报
  • 1篇中国真空学会...
  • 1篇第16届全国...

年份

  • 1篇2015
  • 1篇2014
  • 4篇2013
  • 5篇2012
11 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
磁控溅射制备多层钼掺杂TiO2薄膜的光电性能
TiO2薄膜在紫外光照下可表现出光催化和超亲水特性,且由于TiO2薄膜本身强度高,化学性质稳定,因此在太阳能电池、光分解水制氢、自清洁玻璃等诸多领域拥有十分广阔的应用前景。然而,由于TiO2的禁带宽度较大(Eg=3.20...
颜秉熙
关键词:磁控溅射光电性能
蒸发制备锌镁合金镀层中锌镁层的扩散研究被引量:2
2013年
锌镁合金镀层是一种具有优异防腐蚀性能的新型钢板保护镀层,真空镀由于其优良的镀层性能正逐步发展为锌镁合金镀层的重要制备工艺。本文在镀锌钢板表面采用真空热蒸发镀镁,再由快速退火工艺形成锌镁合金镀层。通过X射线衍射、二次离子质谱和扫描电镜分析了在退火过程中锌、镁层的扩散过程,并通过盐雾试验和电化学测试研究扩散过程对锌镁合金镀层腐蚀性能的影响。研究发现:退火过程中镁快速向锌层扩散,并在锌层内一定深度处富集,而锌逐渐向镁层扩散,这种相互扩散形成了锌镁合金。同时铁也会向锌层扩散,形成锌铁合金。镁富集区具有扩散阻挡作用,阻止镁进一步向内扩散的同时也阻止铁向表面的扩散。腐蚀性能测试表明,370℃下退火60~120 s的样品具有较好防腐蚀性能。
马进沈杰毛鑫光颜秉熙
关键词:扩散快速退火
多层钼掺杂二氧化钛薄膜的光电特性
颜秉熙罗胜耘沈杰
一种三层结构的掺钼TiO<Sub>2</Sub>光催化薄膜及其制备方法
本发明属于光催化薄膜技术领域,具体为一种三层结构的掺钼TiO<Sub>2</Sub>光催化薄膜及其制备方法。三层结构中,底层为高浓度掺钼TiO<Sub>2</Sub>薄膜,中间为低浓度掺钼TiO<Sub>2</Sub>薄...
沈杰罗胜耘颜秉熙
一种三层结构的掺钼TiO<Sub>2</Sub>光催化薄膜及其制备方法
本发明属于光催化薄膜技术领域,具体为一种三层结构的掺钼TiO<Sub>2</Sub>光催化薄膜及其制备方法。三层结构中,底层为高浓度掺钼TiO<Sub>2</Sub>薄膜,中间为低浓度掺钼TiO<Sub>2</Sub>薄...
沈杰罗胜耘颜秉熙
文献传递
真空镀钢板锌镁合金防腐蚀镀层研究进展
锌镁合金是一种新兴的钢铁保护性镀层,具有比纯镀锌钢板更优异的防腐蚀性能。本文综述了近年来国内外真空镀制备锌镁合金镀层的研究进展,表明相对于传统的湿法电镀和热浸镀,真空镀得到的镀层具有优良的附着力、致密度、可加工性和耐腐蚀...
沈杰毛鑫光马进颜秉熙
关键词:真空镀蒸发退火
一种钼碳共掺二氧化钛光催化薄膜的制备方法
本发明属于光催化薄膜技术领域,具体为一种钼碳共掺二氧化钛光催化薄膜的制备方法。本发明采用射频磁控溅射技术,使用三靶共溅的溅射仪器,三个溅射靶分别为碳化钛陶瓷靶、嵌钼二氧化钛陶瓷靶以及纯二氧化钛陶瓷靶;基板采用玻璃或金属板...
沈杰罗胜耘颜秉熙
文献传递
真空镀钢板锌镁合金防腐蚀镀层研究进展被引量:5
2013年
锌镁合金是一种新兴的钢铁保护性镀层,具有比纯镀锌钢板更优异的防腐蚀性能。本文综述了近年来国内外真空镀制备锌镁合金镀层的研究进展,表明相对于传统的湿法电镀和热浸镀,真空镀得到的镀层具有优良的附着力、致密度、可加工性和耐腐蚀性,因此真空镀成为一种很有竞争力和发展前途的制备工艺,具有独特的优势,可望率先实现产业化。
毛鑫光马进颜秉熙沈杰
关键词:真空镀蒸发退火
直流反应磁控溅射制备的Mo掺杂TiO_2薄膜的光电特性被引量:8
2012年
通过直流反应磁控溅射制备了不同Mo掺杂量的Mo-TiO2薄膜.用原子力显微镜(AFM)、X射线衍射(XRD)仪、X射线光电子能谱(XPS)仪、紫外-可见(UV-Vis)分光光度计详细研究了Mo掺杂量对薄膜表面形貌、晶体结构、元素价态及吸收带边的影响.用瞬态光电流和循环伏安法考察了不同Mo含量ITO/Mo-TiO2电极的光电特性.结果表明:在TiO2薄膜中掺入的Mo以Mo6+和Mo5+两种价态存在;随着Mo掺杂量的增加,Mo-TiO2薄膜的晶粒尺寸逐渐减小,晶格畸变增大,吸收阈值显著红移;薄膜的禁带宽度先减小后增大,在Mo掺杂量为2.7%(n(Mo)/n(Ti))时禁带宽度最小;Mo掺杂量为0.9%的样品在氙灯下的光生电流最大,且随着所加阳极偏压的提高光生电流并未呈现出饱和的趋势.此后随着掺杂量的提高,薄膜的光生电流开始下降,当Mo掺杂量达到3.6%时,薄膜的光电流小于未掺杂的样品;说明适当浓度的Mo掺杂能够提高Mo-TiO2薄膜光电性能,光生电流最大可达未掺杂的2.4倍.
颜秉熙罗胜耘沈杰
关键词:循环伏安直流反应磁控溅射二氧化钛薄膜
一种钼碳共掺二氧化钛光催化薄膜的制备方法
本发明属于光催化薄膜技术领域,具体为一种钼碳共掺二氧化钛光催化薄膜的制备方法。本发明采用射频磁控溅射技术,使用三靶共溅的溅射仪器,三个溅射靶分别为碳化钛陶瓷靶、嵌钼二氧化钛陶瓷靶以及纯二氧化钛陶瓷靶;基板采用玻璃或金属板...
沈杰罗胜耘颜秉熙
文献传递
共2页<12>
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