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一种低温高速沉积氢化非晶氮化硅薄膜的方法: 本发明公开了一种低温高速沉积氢化非晶氮化硅薄膜的方法，首先将清洗好的衬底放置到对靶磁控溅射装置的基片台上，然后对对靶磁控溅射装置的反应室抽真空，并用氩等离子体清对靶磁控溅射装置的基片台和反应室器壁，再加热基片台，向反应室...; 于威傅广生孟令海腾晓云王春生卢海江; 文献传递

氢稀释对纳米晶硅薄膜微结构的影响被引量：5: 2011年; 采用电感耦合等离子体化学气相沉积技术制备了氢化纳米硅薄膜,利用Raman散射、X射线衍射、红外吸收等技术对不同氢稀释条件下薄膜的微观结构和键合特性变化进行了研究。结果表明,较高的氢稀释比导致薄膜从非晶硅到纳米晶硅的结构转化,随着氢稀释比的增加,所沉积薄膜的晶化度及纳米晶硅的晶粒尺寸单调增加,纳米硅颗粒呈现在(110)方向的择优生长趋势。键合特性分析显示,随氢稀释比增加,薄膜中整体键合氢含量减小,而SiH2键合比例呈现显著增加趋势,该结果反映了氢原子刻蚀和纳米硅界面面积比的同时增强。光学吸收谱分析表明,通过改变反应气体的氢稀释比,可实现从1.72～1.84eV光学带隙可调的纳米硅薄膜制备。; 于威卢海江路万兵孟令海王新占韩理傅广生; 关键词：电感耦合等离子体

初始晶硅多层薄膜光电响应及载流子输运特性被引量：1: 2013年; 采用等离子体化学气相沉积技术,通过交替改变H2流量,制备了多层结构的氢化初始晶硅薄膜,利用拉曼(Raman)散射、傅里叶变换红外(FTIR)透射光谱和光电流谱等技术研究了薄膜的微观结构和光电响应特性.微观结构分析揭示,薄膜呈现为由纳米晶硅和非晶硅两相组成的初始晶硅结构,薄膜光学带隙随晶化度提高逐渐降低.光电流谱的结果显示,纳米硅晶粒对薄膜内部光生载流子的空间分离可有效降低其非辐射复合几率,导致薄膜光电响应峰值随晶化度的提高向短波方向移动,然而纳米硅晶粒界面缺陷对载流子的空间限制使薄膜长波谱段的光电响应显著降低.外加偏压下,观察到350～1000nm范围的光电响应,表明外加偏压可促进光生载流子的有效收集.分析表明,纳米硅晶粒内部电子-空穴对的空间分离及界面载流子激发的共同作用,导致薄膜光电响应及外量子效率大幅增加和峰位的红移.实验结果为初始晶硅高效太阳电池的载流子输运控制提供了基础数据.; 于威朱海荣赵一孙宇凯卢海江傅广生; 关键词：光电响应

一种低温高速沉积氢化非晶氮化硅薄膜的方法: 本发明公开了一种低温高速沉积氢化非晶氮化硅薄膜的方法，首先将清洗好的衬底放置到对靶磁控溅射装置的基片台上，然后对对靶磁控溅射装置的反应室抽真空，并用氩等离子体清对靶磁控溅射装置的基片台和反应室器壁，再加热基片台，向反应室...; 于威傅广生孟令海腾晓云王春生卢海江

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卢海江