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商干兵

作品数:6 被引量:4H指数:2
供职机构:上海交通大学微纳米科学技术研究院微米纳米加工技术国家级重点实验室更多>>
发文基金:上海市科委纳米专项基金国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 5篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 6篇理学

主题

  • 5篇巨磁阻
  • 5篇巨磁阻抗
  • 5篇巨磁阻抗效应
  • 5篇磁阻
  • 5篇磁阻抗
  • 3篇MEMS技术
  • 1篇电镀
  • 1篇多层膜
  • 1篇软磁
  • 1篇软磁薄膜
  • 1篇微细
  • 1篇微细加工
  • 1篇微细加工技术
  • 1篇各向异性场
  • 1篇NI
  • 1篇NIFE
  • 1篇B/C
  • 1篇CU
  • 1篇FE
  • 1篇U

机构

  • 6篇上海交通大学

作者

  • 6篇商干兵
  • 5篇曹莹
  • 5篇余先育
  • 5篇周志敏
  • 5篇周勇
  • 5篇丁文
  • 3篇高孝裕

传媒

  • 1篇功能材料
  • 1篇磁性材料及器...
  • 1篇功能材料与器...
  • 1篇信息记录材料
  • 1篇电子元件与材...

年份

  • 5篇2006
  • 1篇2005
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
夹心结构FeNi/Cu/FeNi多层膜巨磁阻抗效应研究被引量:2
2006年
采用MEMS技术在玻璃基片上制备了夹心结构FeNi/Cu/FeNi多层膜,并在1~40MHz范围内研究了它的巨磁阻抗效应。纵向巨磁阻抗效应先随着外加磁场的增大而迅速增加,在某一磁场下达到最大值后随磁场的增加而逐渐减小。在频率为5MHz时,Hext为0.8kA/m时巨磁阻抗效应最大值达到32.06%。另外,夹心结构多层膜表现出较大的负巨磁阻抗效应,在频率5MHz,Hext=9.6kA/m时,负最大巨磁阻抗效应可达-24.50%。
商干兵周勇余先育丁文周志敏曹莹
关键词:巨磁阻抗效应MEMS技术
电镀NiFe软磁薄膜巨磁阻抗效应研究
随着各种汽车控制系统、信息系统、环境测量系统等对具有高灵敏度、响应迅速而成本较低的微型磁传感器的大量需求,传统的磁阻(MR)传感器、巨磁阻(GMR)传感器在性能上已经不能完全满足当前使用的要求。而巨磁阻抗(GMI)传感器...
商干兵
关键词:巨磁阻抗效应软磁薄膜电镀
文献传递
三明治结构FeNi/Cu/FeNi多层膜巨磁阻抗效应研究被引量:2
2006年
采用MEMS技术在玻璃基片上制备了三明治结构FeNi/Cu/FeNi多层膜,在1—40MHz范围内研究了FeNi/Cu/FeNi多层膜中的巨磁阻抗效应特性。当磁场日。施加在薄膜的长方向时,巨磁阻抗效应随磁场的增加而增加,在某一磁场下达到最大值,然后随磁场的增加而下降到负的巨磁阻抗效应。在频率为5MHz时,巨磁阻抗效应在磁场以:800A/m时达到最大值26.6%。巨磁阻抗效应的最大值及负的巨磁阻抗效应与多层膜中磁各向异性轴的取向及发散有关。另外,当磁场施加在薄膜的短方向时,薄膜表现出负的巨磁阻抗效应,在频率5MHz、磁场Ha=9600A/m时,巨磁阻抗效应可达-15.6%。
周勇丁文曹莹商干兵周志敏高孝裕余先育
关键词:巨磁阻抗效应MEMS技术
制备态Fe_(21)Ni_(79)/Cu/Fe_(21)Ni_(79)三明治薄膜的纵向巨磁阻抗效应
2006年
采用直流电镀结合正胶光刻工艺制备了Fe21Ni79/Cu/Fe21Ni79三明冶薄膜,并在0.1-40MHz范围内研究了它的纵向巨磁阻抗效应特性。实验结果表明,Fe21Ni79/Cu/Fe21Ni79三明治薄膜有十分明显的纵向GMI效应,GMI先随外加磁场的增高而迅速增大,在Hext=0.96kA/m达到最大值后开始逐渐下降.在频率为1.2MHz,外加磁场为0.96kA/m时薄膜的纵向GMI最大值达到88.3%.
商干兵周勇丁文余先育曹莹周志敏
关键词:各向异性场
曲折形三层等宽FeCuNbSiB/Cu/FeCuNbSiB多层膜巨磁阻抗效应研究
2006年
采用磁控溅射方法,在玻璃基片上制备了曲折形三层等宽FeCuNbSiB/Cu/FeCuNbSiB多层膜。在1.40MHz下,研究了多层膜材料的巨磁阻抗(GMI)效应随外加磁场的变化关系。结果表明:在频率为5MHz、磁场强度为12kA/m下,横向和纵向GMI效应分别达-23.5%和-16.8%。薄膜材料的纵向、横向GMI效应随外加磁场变化呈现先增后降,而纵向表现尤为明显。
余先育曹莹周勇丁文商干兵周志敏高孝裕
关键词:巨磁阻抗效应微细加工技术
夹心结构FeNi/Cu/FeNi多层膜巨磁阻抗效应的研究
2005年
采用MEMS技术在玻璃基片上制备了夹心结构FeNi/Cu/FeNi多层膜,在100KHz-40MHz范围内研究了FeNi/Cu/FeNi多层膜中的巨磁阻抗效应特性。当磁场Hext施加在薄膜的长方向时,巨磁阻抗效应随磁场的增加而增加,在某一磁场下达到最大值,然后随磁场的增加而下降到负的巨磁阻抗效应。在频率为5MHz时,巨磁阻抗效应在磁场Hext=800A/m时达到最大值25.2%;在磁场Hext=9600A/m时,巨磁阻抗效应为-7.3%。巨磁阻抗效应的最大值及负的巨磁阻抗效应与多层膜中磁各向异性轴的取向及发散有关。另外,当磁场施加在薄膜的短方向时,薄膜表现出负的巨磁阻抗效应,在频率5MHz、磁场Hext=9600A/m时,巨磁阻抗效应可达-19.3%。
商干兵高孝裕余先育曹莹丁文周志敏周勇
关键词:巨磁阻抗效应
共1页<1>
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