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王智涛

作品数：4 被引量：0H指数：0
供职机构：上海大学更多>>

合作作者

文献类型

  • 4篇中文专利

主题

  • 4篇分子
  • 4篇辐射化学
  • 4篇高分子
  • 4篇高分子薄膜
  • 2篇电子束辐照
  • 2篇亚胺
  • 2篇掩膜
  • 2篇酰亚胺
  • 2篇金属
  • 2篇金属模板
  • 2篇聚酰亚胺
  • 2篇聚酯
  • 2篇聚酯类
  • 2篇类模板
  • 2篇分离膜
  • 2篇辐照
  • 2篇辐照剂量

机构

  • 4篇上海大学

作者

  • 4篇郝旭峰
  • 4篇周瑞敏
  • 4篇吴新锋
  • 4篇王智涛
  • 4篇邓邦俊
  • 4篇周菲
  • 2篇贵舜延
  • 2篇费舜廷

年份

  • 2篇2009
  • 2篇2007
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
微孔阵列聚酯类模板的掩膜电子束辐照制备方法
本发明涉及一种微孔阵列聚酯类模板的掩膜电子束辐照制备方法，属辐射化学改性高分子材料工艺技术领域。本发明方法的主要特点是：首先选用金属膜为掩膜材料，用紫外光激光器在金属膜上打出微米级规整排列的小孔，形成微孔阵列结构的金属掩...
周瑞敏郝旭峰吴新锋周菲邓邦俊费舜廷王智涛
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聚酰亚胺类微孔分离膜的制备方法
本发明涉及一种用电子束辐照剂量聚酰亚胺类微孔分离膜的方法，属辐射化学及高分子薄膜加工处理技为领域。本发明方法以各种单体聚合而成的聚酰亚胺类薄膜为主要膜材料，在其上覆盖好具有微孔图案的金属模板，采用常规电子加速器所产生的高...
周瑞敏吴新锋郝旭峰周菲王智涛贵舜延邓邦俊
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微孔阵列聚酯类模板的掩膜电子束辐照制备方法
本发明涉及一种微孔阵列聚酯类模板的掩膜电子束辐照制备方法，属辐射化学改性高分子材料工艺技术领域。本发明方法的主要特点是：首先选用金属膜为掩膜材料，用紫外光激光器在金属膜上打出微米级规整排列的小孔，形成微孔阵列结构的金属掩...
周瑞敏郝旭峰吴新锋周菲邓邦俊费舜廷王智涛
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聚酰亚胺类微孔分离膜的制备方法
本发明涉及一种用电子束辐照剂量聚酰亚胺类微孔分离膜的方法，属辐射化学及高分子薄膜加工处理技为领域。本发明方法以各种单体聚合而成的聚酰亚胺类薄膜为主要膜材料，在其上覆盖好具有微孔图案的金属模板，采用常规电子加速器所产生的高...
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