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田丽

作品数：1 被引量：3H指数：1
供职机构：浙江大学材料与化学工程学院更多>>
发文基金：浙江省自然科学基金更多>>
相关领域：一般工业技术电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇气相沉积
  • 1篇膜层
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇硅基
  • 1篇硅基底
  • 1篇CVD
  • 1篇CVD技术

机构

  • 1篇浙江大学

作者

  • 1篇沈复初
  • 1篇叶必光
  • 1篇刘立
  • 1篇田丽
  • 1篇郦剑
  • 1篇袁骏

传媒

  • 1篇材料科学与工...

年份

  • 1篇2001
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
CVD技术在制备含硅化合物膜层中的应用被引量：3
2001年
本文综述了近十几年来CVD技术在不同基底材料上制取含硅化合物膜层的研究应用 。
刘立沈复初袁骏叶必光田丽郦剑
关键词：硅基底CVD化学气相沉积
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共1页<1>
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