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谷德君

作品数：52 被引量：12H指数：2
供职机构：沈阳芯源微电子设备有限公司更多>>
发文基金：国家科技重大专项更多>>
相关领域：自动化与计算机技术电子电信文化科学交通运输工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 47篇专利
  • 4篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 4篇电子电信
  • 4篇自动化与计算...
  • 2篇文化科学
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇机械工程
  • 1篇交通运输工程

主题

  • 35篇半导体
  • 31篇半导体行业
  • 30篇湿法
  • 30篇湿法处理
  • 23篇晶片
  • 13篇晶圆
  • 11篇承片台
  • 6篇电机
  • 6篇供液
  • 6篇硅片
  • 6篇摆臂
  • 5篇喷嘴
  • 5篇夹持
  • 4篇液膜
  • 4篇涂布
  • 4篇主轴
  • 4篇主轴电机
  • 4篇内槽
  • 4篇浸泡
  • 4篇半导体晶片

机构

  • 51篇沈阳芯源微电...
  • 1篇大连理工大学

作者

  • 52篇谷德君
  • 15篇卢继奎
  • 11篇王一
  • 8篇陈波
  • 6篇陈焱
  • 4篇汪涛
  • 3篇王永斌
  • 1篇宗润福
  • 1篇尹宁

传媒

  • 2篇机械工程师
  • 1篇半导体技术
  • 1篇装备制造技术

年份

  • 3篇2018
  • 9篇2017
  • 5篇2016
  • 9篇2015
  • 6篇2014
  • 3篇2013
  • 6篇2012
  • 5篇2011
  • 4篇2010
  • 1篇2009
  • 1篇2008
共 52 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种液体涂敷切边装置
本发明涉及在晶片上形成涂布液膜并去掉部分保护膜的设备，具体地说是一种液体涂敷切边装置，包括底板、处理罩、处理腔、环门、切边喷嘴、承片台、主轴电机及处理杯，其中处理罩安装在底板上，处理罩内设有安装在底板上的主轴电机，主轴电...
卢继奎谷德君
文献传递
一种适用于方形基板的化学液回收装置
本发明属于半导体行业晶片湿法处理领域，具体地说是一种适用于方形基板的化学液回收装置，包括固定及旋转方形基板的承片台、CUP、接液槽、气缸、电机及台面板，接液槽安装在台面板上，在接液槽内设有由电机驱动的承片台，方形基板位于...
谷德君卢继奎
文献传递
喷胶工艺中光刻胶热应力分析
2012年
针对TSV工艺中喷胶工艺因晶圆与光刻胶的膨胀系数不同而产生的应力分布不均的情况,对喷胶后光刻胶的应力分布进行了分析,并采用有限元分析软件ANSYS中的热应力分析单元对可实现同种工艺膜厚的三种不同配方喷涂的效果进行模拟分析。三组分析数据对比发现,通过对喷胶工艺的参数控制,采取最优的工艺参数,当光刻胶稀释比例为1∶12、光刻胶流量为2.2mL/min和喷嘴的移动速度为120mm/s时,取得的胶膜应力分布最为均匀。
卢继奎谷德君
关键词：TSV有限元分析热应力
显影方法
本发明公开了一种在半导体晶片上获得光刻胶图形的显影方法。该方法中，首先提供显影设备与晶圆，所述显影设备包括喷洒显影液的显影喷头与能够旋转的承片台；其中：晶圆固定设置于承片台上，晶圆随着承片台旋转时显影喷头能在晶圆上方横向...
张浩渊谷德君
文献传递
晶圆浸泡装置
本发明属于半导体行业晶片湿法处理领域，具体地说是一种满足晶圆浸泡需求的晶圆浸泡装置，储液槽及电动执行器分别安装在底板上，片盒位于储液槽内，升降连杆的一端与电动执行器的输出端相连，另一端插入储液槽内、与片盒铰接；储液槽上部...
谷德君王一
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一种化学液供给系统
本发明属于半导体行业晶片湿法处理领域，具体地说是一种化学液供给系统，包括由气动泵、过滤器、加热器、冷却器、节流阀及供液桶依次相连形成的主循环管路和连通于加热器与冷却器之间的分支管路，气动泵与过滤器之间的管路上、节流阀与供...
谷德君汪涛王一
文献传递
一种用于化学液喷洒的摆臂装置及其喷洒方法
本发明属于半导体行业晶片湿法处理领域，具体地说是一种用于化学液喷洒的及其喷洒方法，摆臂装置包括摆臂套筒、带键槽滚珠丝杠支座、升降驱动电机、旋转驱动电机、传动装置、摆臂固定架及化学液管路，升降驱动电机与旋转驱动电机分别安装...
谷德君王一
一种化学液供给装置
本发明属于半导体行业晶片湿法处理领域，具体地说是一种化学液供给装置，包括供液桶、补液桶、电磁阀、药液阀、溢流阀及液位传感器，其中供液桶与补液桶之间连通的管路上设有药液阀，所述药液阀通过电磁阀与压缩空气源相连；所述供液桶及...
谷德君卢继奎张浩渊
文献传递
一种单电机驱动双摆臂转动的装置
本发明属于半导体行业晶片湿法处理领域，具体地说是一种单电机驱动双摆臂转动的装置，包括电机、单元固定板、减速器及摆臂单元，电机通过单元固定板安装在晶圆处理单元底座上，电机的输出端连接有减速器，在减速器的输出端连接有第二同步...
王一谷德君
文献传递
一种液体涂敷装置
本发明涉及在半导体晶片上形成薄膜的装置，具体地说是一种在晶片上形成涂布液膜的液体涂敷装置，包括底板、处理罩、处理腔、第三支架、喷嘴、驱动旋转机构、承片台及旋转电机，处理罩安装在底板上，其侧壁上开有供晶片出入的豁口；处理腔...
卢继奎谷德君
文献传递
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