付新华
- 作品数：10 被引量：42H指数：4
- 供职机构：长春理工大学光电工程学院更多>>
- 发文基金：吉林省科技发展计划基金更多>>
- 相关领域：电子电信一般工业技术理学化学工程更多>>
- 红外增透与保护膜技术的研究被引量：14
- 2006年
- 采用电子束与离子辅助沉积技术，在氟化镁晶体材料上制备3．5～4．9μm增透与保护膜。经过实验，选取氧化钛与二氧化硅作为薄膜材料，并优化沉积工艺参数，尽可能减少吸收损失，对氟化镁基底实现有效的增透和保护。实验结果表明，镀膜后其单面剩余反射率由未镀膜时的2．5％减少到1．2％，并能承受湿热和雨淋测试。
- 付秀华董连和付新华王崇娥
- 关键词：红外增透膜保护膜离子辅助沉积
- 大口径半球形基底膜层均匀性的分析
- 2017年
- 针对半球面大口径球形光学元件的膜层均匀性进行了理论分析研究。通过建立半球形基底内表面的数学模型,运用膜厚理论公式表达出内表面的膜厚分布。推算了蒸发源不同位置对膜层均匀性的影响,同时对理想点源、小面源和实际蒸发特性对膜厚的影响进行了分析。该研究工作对大曲率半球膜层镀制工艺具有一定的指导意义,在改善此种表面膜层均匀性上提供了理论依据。
- 高健付新华
- 关键词：大口径光学元件真空镀膜膜厚均匀性
- 晶体表面增透膜设计及工艺研究被引量：9
- 2007年
- 运用光学薄膜计算机模拟系统,设计了用于LBO晶体表面的双点增透膜(1064nm/532nm)及其在真空环境中的制备,获得了满意的光学性能,实测曲线与理论曲线非常接近,符合设计要求。
- 房淑芬付新华周滨滨
- 关键词：晶体表面增透膜膜系设计
- 基于图像处理技术对刀具测量的研究被引量：7
- 2018年
- 一种实验室环境下使用的自动对刀仪,系统通过激光器发出光束,经照明光学系统对光束进行扩束,投射到刀具上表面,在刀具另一侧,通过成像光学系统将刀具的投影像成像到CCD传感器上,由计算机对图像进行采集和处理,采用基于弦到点的距离累积(CPDA)的完整的角检测技术来进行离散曲率估计,进而利用最小二乘法拟合刀尖的圆弧半径,并得出刀尖的位置。通过模拟和数据分析对研究的图像处理算法进行验证。验证实验数据表明,刀具参数测量精度可达5μm,位置精度可达2μm。
- 李秋实付新华吴震文琦
- 关键词：图像处理数据分析
- 大尺寸天文光栅铝膜均匀性研究被引量：1
- 2019年
- 天文观测所使用的光栅为大尺寸中阶梯光栅,其制作方法是利用金刚石刻刀对铝膜进行加工,形成光栅槽形,所以铝膜的质量能够直接影响光栅的性能。铝膜的厚度均匀性是判断铝膜质量的重要指标,以现有的内径1.8米镀膜设备为例,对铝膜的厚度均匀性做理论分析和实验研究,得出了电子束制备铝膜的蒸气发射特性n为4.5,并确定了最佳的真空室布局:蒸发源位置l=500mm,工件架高度h=900mm。在直径680mm的镀膜面积范围内,铝膜的厚度均匀性可以达到±1%,满足大尺寸天文光栅研制对铝膜厚度均匀性的要求。
- 周敬萱周敬萱糜小涛张善文齐向东
- 红外增透与保护膜技术的研究
- 采用电子束与离子辅助沉积技术,在氟化镁晶体材料上制备3.5～4.9μm增透与保护膜.经过实验,选取氧化钛与二氧化硅作为薄膜材料,并优化沉积工艺参数,尽可能减少吸收损失,对氟化镁基底实现有效的增透和保护.实验结果表明,镀膜...
- 付秀华董连和付新华王崇娥
- 关键词：红外增透膜保护膜离子辅助沉积
- 文献传递
- PMMA镀减反射膜的研制
- 2004年
- 通过对PMMA光学塑料红、绿、蓝三种光减反射膜的设计和制备 ,研究了这种材料的真空镀膜技术 ,对制备的膜层进行了光谱、牢固性和防水性能的测试 ,并给出了其中一些实验结果。最后进行了简短的分析 ,对进一步提高薄膜质量提出了改进方法。
- 付秀华付新华
- 关键词：减反射膜
- 多波段红外增透与保护膜技术的研究被引量：12
- 2007年
- 采用电子束真空镀膜和离子辅助沉积的方法，在口径φ150mm，厚度6mm．且具有较大曲率的多光谱ZnS导流罩上，镀制红外增透保护膜。所镀膜层在3～5μm平均透过率高于90％，在8～10μm平均透过率高于92％，并且能够承受恶劣的环境测试。
- 付秀华姜会林付新华王崇娥
- 关键词：真空镀膜离子辅助沉积
- 塑料眼镜片镀膜质量评价被引量：1
- 2008年
- 根据增透膜的设计原理,从可见光颜色的本质入手,介绍目前常用眼镜片镀制增透膜的膜系结构,并重点分析几种常用眼镜片实测反射率光谱曲线和理想的曲线之间的区别,以及如何通过观察颜色判断膜层的增透效果,然后对膜层牢固性的几种测试方法进行介绍,最终给出镀膜质量评价结果。
- 贺才美付秀华付新华付天光
- 关键词：塑料眼镜增透膜
- H_2对类金刚石薄膜性能影响的研究被引量：1
- 2013年
- 类金刚石膜因其高的硬度、高的介电性、低的摩擦系数、优异的光学和化学性能以及巨大的潜在应用前景而成为研究热点。采用离子增加化学气相沉积方法在Si基底表面制备含氢类金刚石薄膜,通过XPS能谱测试,确定膜层的成份组成,膜层中除了含有碳以外还含少量的吸附的氧。调节反应源气体中H2的比例,结果表明H2的含量直接影响DLC薄膜的性能。随着H2的含量增大,膜层的表面粗糙度降低,膜层的硬度变大,而应力相应增大。这是由于反应源气体中H2含量的增加,DLC薄膜中氢的含量反而降低,膜层内sp2团簇结构的无序性增加,sp3键的比例增加,这将使得膜层内的碳的空间网络结构所占的比例增加。
- 唐吉龙付新华
- 关键词：类金刚石膜应力等离子增强化学气相沉积
