傅鹏飞
- 作品数：3 被引量：5H指数：2
- 供职机构：哈尔滨商业大学更多>>
- 发文基金：黑龙江省自然科学基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术金属学及工艺更多>>
- 辉弧共溅射Ar/N_2流量比对TiN薄膜结构及硬度的影响被引量：3
- 2014年
- 采用辉光弧光协同共放电混合镀方法在A3碳钢基体上沉积氮化钛薄膜,通过改变Ar/N2流量比,研究Ar/N2流量比对TiN薄膜结构及硬度的影响。X射线衍射谱图表明制备的TiN有明显的(111)晶面择优取向;Ti2p的X射线光电子谱谱峰拟合分析表明Ti2p1/2峰和Ti2p3/2峰均有双峰出现,可知氮化物中的Ti存在不同的化学状态,整个膜层是由TiN,TiO2,TiNxOy化合物组成的复合体系,Ar/N2流量比影响各成分的含量。对比硬度的变化和组成成分之间的关系发现,膜层硬度随着含TiN量的增多而增大,当Ar/N2流量比为3∶1时,硬度最大。
- 林晶钱锋孙智慧傅鹏飞
- 关键词：TIN薄膜
- 紧固件陶瓷薄膜的制备及耐腐蚀性研究
- 紧固件是一种大量应用的基础金属用件,被广泛的用于机械、车辆、电力、通讯、石油化工、桥梁等众多领域。紧固件的高质量性、耐久性、耐腐蚀性对其的使用寿命起决定性影响。目前紧固件防腐蚀的处理方法主要是电镀,其中包括镀锌、镀锌镍合...
- 傅鹏飞
- 关键词：TIN磁控溅射多弧离子镀耐腐蚀性
- 文献传递
- 辉光弧光协同共放电方式制备TiN薄膜的研究被引量：2
- 2013年
- 分别采用中频磁控溅射、电弧离子镀及辉光弧光协同共放电混合镀(APSCD)三种方式在碳钢基体上制备TiN薄膜,采用原子力学显微镜、显微硬度计、台阶膜厚仪、电化学技术对薄膜表面形貌、显微硬度、膜厚、耐腐蚀性进行测试。研究结果表明:多弧离子镀薄膜颗粒的平均粗糙度为7.066 nm,混合镀薄膜颗粒的平均粗糙度为4.687 nm,在相同时间条件下,磁控溅射薄膜厚度为658 nm,混合镀膜厚度为1345 nm,混合镀工艺具有降低多弧离子镀粗糙度又可以克服磁控溅射沉积速率慢的优点。经过混合镀TiN薄膜后,基体表面显微硬度从226HV提高到1238 HV,在天然海水中测得混合镀膜层腐蚀电位比基体提高104mV。
- 林晶傅鹏飞钱锋刘壮
- 关键词：TIN薄膜磁控溅射多弧离子镀
