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刘功龙

作品数：13 被引量：0H指数：0
供职机构：上海大学更多>>
相关领域：医药卫生更多>>

合作作者

文献类型

  • 13篇中文专利

领域

  • 1篇医药卫生

主题

  • 8篇多晶
  • 6篇厚膜
  • 4篇碘酊
  • 3篇晶种
  • 2篇电极
  • 2篇氧化硅
  • 2篇蒸发管
  • 2篇探测器
  • 2篇气相沉积
  • 2篇响应特性
  • 2篇钠盐
  • 2篇金相
  • 2篇金相显微镜
  • 2篇晶体
  • 2篇刻蚀
  • 2篇空气柱
  • 2篇激光
  • 2篇激光刻蚀
  • 2篇激光能
  • 2篇激光能量

机构

  • 13篇上海大学

作者

  • 13篇刘功龙
  • 12篇史伟民
  • 9篇马磊
  • 8篇杨伟光
  • 6篇廖阳
  • 6篇吕燕芳
  • 4篇陈亮亮
  • 3篇黄璐
  • 3篇钱隽
  • 3篇李季戎
  • 3篇胡喆
  • 3篇刘晟
  • 2篇张月璐
  • 2篇李冬梅
  • 2篇沈春夏
  • 2篇周杰
  • 2篇张方方
  • 1篇魏斌
  • 1篇周平生
  • 1篇李杰

年份

  • 1篇2019
  • 1篇2016
  • 5篇2013
  • 6篇2012
共 13 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
基于激光刻蚀空气柱二维光子晶体的制备方法
本发明公开了一种基于激光刻蚀空气柱二维光子晶体的制备方法，属制备光子晶体技术领域。本发明主要通过控制膜的厚度、孔径大小和孔间隙，来调节反射的颜色的不同。本发明是通过磁控溅射的方法在硅（Si）衬底上沉积铬（Cr）层和氧化硅...
张方方李冬梅杨伟光黄璐沈春夏马磊刘功龙史伟民
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X射线成像多晶碘化汞探测器的制备方法
本发明涉及一种X射线成像多晶碘化汞探测器的制备方法，主要是先通过物理气相沉积法生长多晶碘化汞厚膜，最后再经过电极的制备及探测器封装等步骤，属于半导体探测器制备工艺技术领域。通过本方法制得的多晶碘化汞厚膜探测器具有漏电流小...
史伟民刘功龙廖阳吕燕芳张月璐马磊陶佳佳
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超声波辅助下水浴真空物理气相沉积厚膜的系统装置
本实用新型超声波辅助下水浴真空物理气相沉积厚膜的系统装置，主要包括有具有真空室、沉积厚膜的TFT基片、基片温度控制仪、真空抽气泵、循环冷却水管、膜原料蒸发管及其水浴加热槽超声波产生器。本实用新型的装置结构简单，易于操作，...
刘功龙史伟民吕燕芳廖阳杨伟光袁安东瞿晓雷
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超声波作用下真空蒸发气相沉积生长多晶碘化汞厚膜的方法
本发明涉及一种利用磁力搅拌激励的垂直沉积技术生长多晶碘化汞薄膜，生长出来的多晶碘化汞薄膜作为晶种层，通过超声波作用下真空蒸发物理气相沉积法在晶种层上沉积生长高质量多晶碘化汞厚膜的制备方法。生长出来的多晶碘化汞厚膜特别适合...
马磊史伟民刘功龙杨伟光陈亮亮
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用于辐射探测器的多晶碘化汞薄膜的制备方法
本发明涉及一种利用磁力搅拌激励的垂直沉积技术生长多晶碘化汞薄膜的工艺，生长出来的多晶碘化汞薄膜作为过度缓冲层，特别适合于X射线、Gama射线多晶碘化汞厚膜探测器的制备，本发明属化学液相沉积技术领域。本发明以2,7-二溴-...
史伟民马磊杨伟光刘功龙陈亮亮刘晟胡喆周杰
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多晶碘化汞探测器金钯材料电极制备方法
本发明涉及一种多晶碘化汞探测器金钯材料电极制备方法，具体步骤如下：a.多晶碘化汞厚膜的生长，b.多晶碘化汞厚膜表面的处理，c.电极材料的制备，d.电极的热蒸发制备工艺。本发明工艺简单，易于操作，电极掩模板图形可变，可大面...
刘功龙马磊史伟民廖阳吕燕芳李季戎钱隽陶佳佳
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超声波辅助下油浴真空物理气相沉积多晶碘化汞厚膜的装置和方法
本发明涉及一种超声波辅助下油浴真空物理气相沉积多晶碘化汞厚膜的装置和方法，本装置包括油浴加热槽，厚膜原料蒸发管，基板温度控制仪，真空室，磨砂石英顶盖和超声波发生器；多晶碘化汞粉末放置于厚膜原料蒸发管的底部，多晶碘化汞粉末...
刘功龙马磊史伟民廖阳吕燕芳钱隽李季戎黄璐
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纳米级多晶碘化汞晶种层薄膜的制备方法及其专用制备装置
本发明公开了一种纳米级多晶碘化汞晶种层薄膜的制备方法，采用电磁搅拌和温度调节方法对反应溶液化学平衡进行控制，加快化学液相沉积的过程。本发明还公开了一种纳米级多晶碘化汞晶种层薄膜制备装置，主要包括反应容器、恒温系统和加速溶...
刘功龙史伟民吕燕芳廖阳杨伟光李杰周平生张月璐
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一种可调色光源体
本发明涉及一种可调色光源体，它包括一个电激发光源，电激发光源光传导方向上设置一个光激发光源，该光激发光源可吸收部分电激发光源的光，并将其转化为低能量异波段的光激发光，上述光激发光混合未被吸收的电激发光形成可调色光。本发明...
吕燕芳王菲菲魏娜周朋超林宏刘功龙魏斌
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基于激光刻蚀空气柱二维光子晶体的制备方法
本发明公开了一种基于激光刻蚀空气柱二维光子晶体的制备方法，属制备光子晶体技术领域。本发明主要通过控制膜的厚度、孔径大小和孔间隙，来调节反射的颜色的不同。本发明是通过磁控溅射的方法在硅（Si）衬底上沉积铬（Cr）层和氧化硅...
张方方李冬梅杨伟光黄璐沈春夏马磊刘功龙史伟民
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