周平和
- 作品数：4 被引量：6H指数：1
- 供职机构：陕西理工大学物理与电信工程学院物理系更多>>
- 发文基金：陕西理工学院科研基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学机械工程一般工业技术电子电信更多>>
- 湿法刻蚀熔石英斜坡陡度的研究被引量：1
- 2004年
- 用浸没的湿法刻蚀方法,以熔石英为基板刻蚀材料,用优化配方的HF刻蚀液进行刻蚀,研究了HF刻蚀一维光栅台阶的斜坡陡度.分析了台阶斜坡陡度的理论值,并给出了其实验结果值,最后分析了影响刻蚀斜坡陡度的一些因素.
- 周平和刘世杰郭颖潘峰卢进军
- 关键词：湿法刻蚀各向同性熔石英二元光学元件
- 厚层抗蚀剂光刻技术研究进展
- 2007年
- 厚层抗蚀剂光刻是一种制作深浮雕结构的微细加工技术。综述了近年来厚层抗蚀剂光刻技术的最新进展,从厚层抗蚀剂光刻工艺原理以及计算机模拟诸方面分析了该技术区别与传统光刻的一些特点,并对其应用的研究现状进行了总结,最后指出了进一步发展厚层抗蚀剂光刻技术的关键问题。
- 郭颖潘峰周平和王少华刘世杰
- 关键词：光刻模拟技术
- 非傍轴高斯光束通过方环硬边光阑的传输特性研究被引量：5
- 2006年
- 利用矢量Rayleigh积分公式研究了非傍轴高斯光束通过方环硬边光阑的传输,得到了衍射场分布的解析表达式。和傍轴传输相比较,该结果具有更广泛的适用性。以桶中功率为光束质量评价函数,讨论了遮拦比、截断参数对远场光束质量的影响。结果表明,环形光阑的尺寸决定着非傍轴光束远场能量分布的集中程度,截断参数和遮拦比的增大都会导致非傍轴高斯光束衍射效应增强,从而远场能量发散。
- 周平和潘峰郭颖卢进军姚进斌王少华刘世杰
- 关键词：光束质量
- 全内反射式衍射光栅近场光学特性
- 2007年
- 利用傅里叶模式理论分析了具有高衍射效率的全内反射式衍射光栅在TE和TM偏振态下的近场光分布特点,讨论了光栅结构参数以及入射角度对光栅内电场增强的影响。结果表明:全内反射光栅内部电场分布对偏振态较敏感,光栅槽深和占宽比对电场增强影响较小,光栅内的峰值电场随光栅周期增大而增大,并且峰值电场随着入射角度的增大而减小。在应用于高功率激光时,降低光栅内部的电场增强可以有效降低损伤风险。
- 周平和王少华刘世杰邵建达
- 关键词：全内反射衍射光栅损伤阈值近场分布
