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宋亚玉

作品数:17 被引量:13H指数:2
供职机构:陕西科技大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家科技支撑计划陕西科技大学研究生创新基金更多>>
相关领域:一般工业技术理学电子电信化学工程更多>>

文献类型

  • 9篇期刊文章
  • 6篇专利
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 7篇一般工业技术
  • 4篇理学
  • 1篇化学工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 12篇自组装
  • 9篇图案化
  • 6篇自组装单层
  • 6篇SUB
  • 5篇单层膜
  • 5篇分子
  • 4篇液相
  • 4篇自组装单层膜
  • 4篇分子膜
  • 4篇OTS
  • 3篇单分子
  • 3篇液相沉积
  • 3篇BIFEO
  • 2篇单分子膜
  • 2篇掩膜
  • 2篇液相沉积法
  • 2篇水热
  • 2篇水热合成
  • 2篇铁酸铋
  • 2篇图案

机构

  • 17篇陕西科技大学
  • 1篇河南大学

作者

  • 17篇宋亚玉
  • 16篇谈国强
  • 9篇苗鸿雁
  • 8篇夏傲
  • 6篇博海洋
  • 4篇任宣儒
  • 4篇王艳
  • 3篇于志伟
  • 3篇刘剑
  • 2篇贺忠亮
  • 1篇娄晶晶
  • 1篇刘艳
  • 1篇王勇
  • 1篇贺中亮

传媒

  • 2篇人工晶体学报
  • 1篇稀有金属材料...
  • 1篇硅酸盐学报
  • 1篇无机化学学报
  • 1篇无机盐工业
  • 1篇功能材料
  • 1篇陶瓷
  • 1篇材料科学与工...

年份

  • 2篇2013
  • 3篇2011
  • 5篇2010
  • 6篇2009
  • 1篇2008
17 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
紫外光辐照精细铁酸铋薄膜的制备及其图案化研究
铁磁电材料由于同时具有铁磁性和铁电性已被广泛作为一个磁电耦合参数秩序很有前途的材料。这些材料在自旋电子和信息存储应用方面具有很大的潜力。BiFeO3(BFO)是重要的铁磁电材料之一,它同时表现出铁电有序(居里温度为110...
宋亚玉
文献传递
一种自组装单层膜表面制备BiFeO<Sub>3</Sub>薄膜图案化的方法
本发明公开了一种自组装单层膜表面制备BiFeO<Sub>3</Sub>薄膜图案化的方法,按照以下步骤:(1)制备洁净基片;(2)制备OTS-SAMs基体;(3)制备图案化SAMs;(4)制备前驱体溶液;(5)制备BiFe...
宋亚玉谈国强
文献传递
功能化的Si基板表面制备图案化BiFeO<Sub>3</Sub>薄膜的方法
本发明公开了一种功能化的Si基板表面制备图案化BiFeO<Sub>3</Sub>薄膜的方法,该方法包括下述步骤:步骤一:选用Si基片为基底,将切割好的Si基片分别超声波清洗,吹干,紫外光照射仪中照射;步骤二:将经紫外光照...
王勇谈国强王艳任宣儒宋亚玉
文献传递
自组装功能膜诱导沉积TiO_2薄膜的研究
2009年
将自组装分子膜层(SAMs)技术与液相沉积技术(LPD)相结合,以氟钛酸氨((NH4)2TiF6)和硼酸(H3BO3)为原料配制反应前驱液,在镀有十八烷基三氯硅烷(OTS)自组装分子膜层的玻璃基底表面制备出与基底结合紧密、结构致密均一、厚度可控的纳米TiO2晶态薄膜。采用XRD、SEM和AFM等测试手段对薄膜的物相组成、显微结构和表面形貌进行了表征。结果表明:OTS-SAMs功能化基底对TiO2薄膜的沉积具有明显的诱导作用,当前驱液的(NH4)2TiF6浓度为0.05 mol.L-1,与H3BO3的摩尔比为3∶1,pH=3.0时,在50℃下沉积10 h后,无需退火,就可得到结晶良好的纯锐钛矿相TiO2晶态薄膜。
刘艳苗鸿雁谈国强于志伟宋亚玉
关键词:TIO2薄膜液相沉积影响因素
基于紫外光辐照改性自组装单层膜图案化表面的铁酸铋薄膜制备与表征被引量:1
2010年
采用自组装单层膜(self-assembled monolayers,SAMs)技术在玻璃基板表面制备了十八烷基三氯硅烷(octadecyltrichlorosilane,OTS)-SAMs,将OTS-SAMs基体在光掩膜覆盖下用紫外光进行刻蚀,得到含有亲水性和疏水性区域的模板,利用液相沉积法在OTS-SAMs模板表面制备了铁酸铋(BiFeO3)图案化薄膜。通过接触角仪、原子力显微镜、X射线衍射、扫描电镜、X射线能谱仪等测试手段对OTS膜和BiFeO3薄膜进行表征。结果表明:以OTS为模板利用液相沉积法制备出边缘轮廓清晰、粗糙度较小,与基板结合力较强,条纹宽度为10~20μm的BiFeO3图案化薄膜。
谈国强宋亚玉苗鸿雁博海洋夏傲
关键词:自组装单层膜紫外光铁酸铋图案化
二氧化铪(HfO_2)薄膜制备的研究进展被引量:2
2009年
随着集成电路的迅速发展,高K值柵介质材料将成为下一代MOS器件最具有希望的候选材料,HfO2具有宽带隙和高介电常数而备受关注。本文简述了HfO2薄膜的制备方法及研究进展。
谈国强贺中亮刘剑博海洋宋亚玉娄晶晶李锋娟
关键词:HFO2
图案化BiFeO<Sub>3</Sub>薄膜的光刻自组装制备方法
本发明公开了一种图案化BiFeO<Sub>3</Sub>薄膜的光刻自组装制备方法,该方法包括下述制备步骤:步骤一:选用普通载玻片为基底,将切割好的玻璃基片分别超声波清洗,吹干;紫外光照射仪中照射;步骤二:将经紫外光照射后...
谈国强王艳任宣儒宋亚玉
文献传递
OTS自组装单分子膜在玻璃表面功能化的研究被引量:4
2009年
采用分子自组装技术在羟基化的玻璃基片表面成功制备了十八烷基三氯硅烷单层膜(OTS-SAMs)。运用接触角测试仪测定了水在自组装薄膜表面的接触角;用原子力显微镜(AFM)分析了OTS-SAMs的表面形貌,并对经过紫外线照射改性的OTS-SAMs薄膜表面进行分析。结果表明:该组装膜具有很好的疏水性,其对水的接触角高达105°;在组装初期2min内,十八烷基三氯硅烷水解产物主要是与基体表面的羟基发生聚合反应,表现为岛状物结构团簇,随着组装时间的增加,基体表面的有机硅烷分子之间发生聚合反应,当组装15min后,成膜过程趋于稳定,可以在基体表面形成平整致密的自组装薄膜;经过紫外线照射改性后的薄膜表面亲水性明显提高,在2h时达到了很好的羟基化效果。
宋亚玉苗鸿雁谈国强刘剑贺忠亮于志伟夏傲
关键词:自组装技术OTS功能化
功能化的Si基板表面制备图案化BiFeO<Sub>3</Sub>薄膜的方法
本发明公开了一种功能化的Si基板表面制备图案化BiFeO<Sub>3</Sub>薄膜的方法,该方法包括下述步骤:步骤一:选用Si基片为基底,将切割好的Si基片分别超声波清洗,吹干,紫外光照射仪中照射;步骤二:将经紫外光照...
谈国强王艳任宣儒宋亚玉
自组装单层膜表面制备BiFeO_3图案化薄膜的研究被引量:1
2009年
采用短波紫外光(UV)对十八烷基三氯硅烷(OTS)自组装单分子层(SAMs)进行刻蚀,利用化学液相法在OTS-SAMs模板表面制备出铁酸铋(BiFeO3)图案化薄膜。通过接触角、X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、X射线能谱(EDS)等测试手段对OTS膜和BiFeO3薄膜进行表征。结果表明:以OTS为模板利用化学液相法成功制备出边缘轮廓清晰、条纹宽度为10~20μm的BiFeO3图案化薄膜。
谈国强宋亚玉苗鸿雁博海洋夏傲
关键词:自组装图案化
共2页<12>
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