方玲玲
- 作品数：4 被引量：10H指数：2
- 供职机构：苏州大学信息光学工程研究所更多>>
- 发文基金：江苏省高技术研究计划项目更多>>
- 相关领域：电子电信理学机械工程更多>>
- 光纤光栅相位掩模的研制
- 利用全息-离子束刻蚀和反应离子束刻蚀相结合的新方法，制作了周期为1069nm、占宽比为0.41、槽深为268nm的光纤光栅相位掩模和中心周期为1000nm、啁啾率1nm／mm、有效面积为100mm×10mm的线性啁啾相位...
- 刘全吴建宏汪海宾方玲玲杨卫鹏李朝明陈新荣
- 关键词：光纤光栅相位掩模离子束刻蚀衍射效率刻蚀工艺
- 文献传递
- 线性啁啾相位掩模的设计被引量：2
- 2006年
- 啁啾相位掩模法是啁啾光纤光栅的一种非常重要的制作方法。本文研究讨论了用全息干涉方法制作线性啁啾位相掩模的设计方法,提出用两球面波干涉产生条纹密度随空间距离线性变化的干涉条纹记录啁啾位相光栅,按设定光栅端点空频和端点空频差两种优化设计方法设计了长度100mm、啁啾量1nm/mm的线性啁啾光栅,理论和实验结果给出两种设计方案的非线性系数分别为2.5%和1.6%,理论设计和实验结果相符。
- 方玲玲吴建宏刘全陈刚
- 关键词：啁啾光纤光栅
- 制作光纤光栅用相位掩模的衍射行为研究被引量：3
- 2006年
- 利用严格耦合波理论对用于光纤光栅制作的相位掩模的衍射特性进行了深入的研究。研究发现，在紫外写入波长（248nm）下，为了使零级衍射效率〈5％，且±1级的衍射效率〉35％，相位掩模的刻槽深度必须控制在230．280nm。占宽比必须控制在0．48～0．65。同时，与标量衍射理论的结果进行了分析对比。这些都为相位掩模的实际制作提供了有意义的结果。
- 刘全吴建宏陈刚方玲玲
- 关键词：相位掩模光纤光栅衍射效率严格耦合波理论
- 线性啁啾相位掩模的研制被引量：5
- 2009年
- 利用严格耦合波理论分析了线性啁啾相位掩模的衍射特性,得到只有当相位掩模的占宽比在0.37～0.50之间,槽形深度在242～270 nm之间时,才能保证零级衍射效率小于2%,同时正负一级的衍射效率大于35%。在此基础上,利用全息-离子束刻蚀和反应离子束刻蚀相结合的新方法,制作了中心周期为1000 m,啁啾率1 nm/mm,有效面积为100mm×10 mm的线性啁啾相位掩模。发现先用短时间Ar离子束刻蚀对光刻胶光栅掩模槽形进行修正,然后采用CHF_3反应离子束刻蚀,能得到更合适的占宽比,从而确定了刻蚀新工艺。实验测量表明其零级衍射效率小于2%,正负一级衍射效率大于35%,最大非线性系数为1.6%。理论分析表明该相位掩模能够满足制作线性啁啾光纤光栅的需要。
- 刘全吴建宏杨卫鹏方玲玲
- 关键词：严格耦合波理论离子束刻蚀衍射效率
