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朱宁

作品数:25 被引量:23H指数:3
供职机构:天津理工大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金天津市重大科技攻关项目国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:理学电子电信一般工业技术自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 15篇期刊文章
  • 9篇专利
  • 1篇科技成果

领域

  • 7篇理学
  • 4篇电子电信
  • 3篇自动化与计算...
  • 3篇一般工业技术
  • 1篇医药卫生

主题

  • 6篇循环伏安
  • 6篇循环伏安法
  • 6篇金刚石薄膜
  • 6篇伏安法
  • 5篇电化学
  • 5篇电极
  • 3篇多巴
  • 3篇膜电极
  • 3篇金刚石
  • 3篇壳聚糖
  • 3篇化学气相
  • 3篇化学气相沉积
  • 3篇反应气体
  • 3篇刚石
  • 3篇传感
  • 2篇等离子体增强
  • 2篇等离子体增强...
  • 2篇电池
  • 2篇电化学稳定性
  • 2篇电致发光

机构

  • 25篇天津理工大学
  • 2篇天津大学
  • 1篇天津电源研究...

作者

  • 25篇朱宁
  • 9篇曲长庆
  • 8篇戴玮
  • 7篇尹振超
  • 6篇吴小国
  • 6篇张聪聪
  • 5篇陈凯玉
  • 4篇杨保和
  • 3篇常明
  • 3篇宁延一
  • 3篇陈希明
  • 2篇管世振
  • 2篇张辉
  • 2篇张喻
  • 2篇申凤婷
  • 2篇张瑜
  • 2篇巩国樑
  • 2篇杨健
  • 2篇申风婷
  • 2篇孙志远

传媒

  • 8篇天津理工大学...
  • 3篇人工晶体学报
  • 2篇光电子.激光
  • 2篇功能材料

年份

  • 1篇2016
  • 2篇2014
  • 3篇2013
  • 4篇2012
  • 2篇2011
  • 2篇2010
  • 2篇2009
  • 2篇2008
  • 2篇2007
  • 1篇2006
  • 1篇2005
  • 1篇2004
  • 1篇2003
  • 1篇1995
25 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种硅基纳米金刚石薄膜的制备方法
一种硅基纳米金刚石薄膜的制备方法,采用直流等离子喷射CVD制备,步骤如下:1)刻制圆柱体型石墨基台,并在其上表面中心刻出圆形凹槽;2)用金刚石微粉在硅片表面产生划伤和缺陷;3)在真空条件下通入反应气体在硅片上沉积纳米金刚...
朱宁张聪聪戴伟曲长庆吴小国尹振超
文献传递
一种用于检测多巴胺的掺硼金刚石薄膜电极的制备方法
一种用于检测多巴胺的掺硼金刚石薄膜电极的制备方法,以尖端状钨丝作为基底,在钨丝上沉积掺硼金刚石薄膜,并对金刚石薄膜表面氨基活化处理,然后在掺硼金刚石薄膜上直接制备络氨酸酶修饰层,钨丝通过银膏与导线相连;该掺硼金刚石薄膜电...
朱宁张聪聪戴玮曲长庆尹振超申凤婷陈凯玉张喻
文献传递
碳纳米管在不锈钢衬底上生长电化学应用被引量:1
2010年
将不锈钢衬底进行适当的预处理,采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)的方法,在适当的工艺条件下,利用甲烷与氢气的混和气体,在不锈钢衬底上生长出多壁碳纳米管(MWCNT).将生长有碳纳米管(CNT)的不锈钢片作为基体电极,通过共价修饰法,制备出壳聚糖(CS)与碳纳米管复合膜的化学修饰电极,用来检测亚硝酸盐.对NO2^-在电极表面的阳极溶出伏安特性进行研究,结果表明:使用CS/CNT修饰电极检测亚硝酸盐,在0.1mol/L,pH=6.0的KCl底液中,对NO2^-具有良好的选择性与吸附性,峰电流与NO2^-的浓度在2.0×10^-6~1.0×10^-3mol/L范围内呈良好的线性关系,检测限可达3.0×10^-7mol/L,具有很好的应用前景.
戴玮朱宁
关键词:等离子体增强化学气相沉积壳聚糖共价修饰亚硝酸盐
直流电弧等离子体喷射CVD硼掺杂金刚石薄膜的制备及电化学性能研究被引量:4
2012年
采用直流电弧等离子体喷射CVD(Chemical Vapor Deposition)法在硅(100)衬底上制备了(111)占优的掺硼金刚石(BDD)薄膜,研究了压强对薄膜生长的影响,在压强为5500 Pa时得到了(100)占优的金刚石薄膜,并用SEM、XRD及拉曼光谱分析了薄膜的表面形貌、晶体结构、薄膜品质。测试结果表明,掺硼金刚石膜具有较好的成膜质量。霍尔测试表明BDD的电阻率为0.0095Ω.cm,载流子浓度为1.1×1020cm-3;研究了BDD薄膜电极在硫酸钠空白底液、铁氰化钾/亚铁氰化钾溶液和多巴胺溶液中的循环伏安曲线(CVs),发现该金刚石薄膜电极在硫酸钠中具有较宽的电化学窗口(约为4 V)、接近零的背景电流和良好的可逆性,利用BDD电极检测多巴胺溶液,具有明显的氧化还原峰值和较好的稳定性。结果表明利用该方法制备的BDD电极在电化学检测方面具有明显的优势。
张聪聪戴玮朱宁尹振超吴小国曲长庆
关键词:循环伏安法多巴胺
金刚石薄膜压力和温度传感器研制
常明陈希明曲长庆吴小国朱宁宁延一李晓伟熊英潘鹏李燕杨保和
探索出利用灯丝法CVD制取应力敏元件的掺硼金刚石的合成工艺参数,表面处理、退火工艺与组织结构及各项性能间变化规律,为压力和热敏元件的合成、应用、生产提供实验和理论依据;研制出掺硼金刚石薄膜压力和热敏元件(根据掺硼金刚石薄...
关键词:
关键词:金刚石薄膜压力传感器温度传感器
壳聚糖修饰掺硼金刚石薄膜电极测定铜离子被引量:2
2011年
通过热丝化学气相沉积(HFCVD)的方法,以钽(Ta)为衬底,三氧化二硼(Be2O3)为硼源,制备掺硼金刚石(BDD)薄膜。并采用共价键合法进一步制得壳聚糖修饰BDD薄膜电极。以此修饰电极为工作电极,在0.1mol/L,pH=4的磷酸氢二钠缓冲液中对Cu2+进行检测。实验表明,Cu2+在4.0×10-7~1.0×10-3 mol/L浓度范围内与峰电流成良好的线性关系,相关系数为0.9916,检测限达7.0×10-8 mol/L。比较了不同富集方式对Cu2+的检测效果,并分别用未经修饰的BDD电极和经壳聚糖修饰的BDD电极对相同浓度的Cu2+进行电化学检测,发现不仅还原峰电流明显增大而且还原峰电位也发生偏移,这表明经化学修饰的BDD电极能更加灵敏、准确地测定Cu2+,同时也佐证了壳聚糖成功修饰在BDD电极上。
多思朱宁
关键词:热丝化学气相沉积壳聚糖铜离子
EL的特性及集成电路驱动的研究
2005年
在分析了EL电致发光特性的基础上,介绍了EL的应用领域及驱动特点.同时介绍了美国Sipex公司生产的电致发光驱动芯片SP4422A和美国IMP公司的IMP803电致发光驱动芯片及其实用电路的分析.
张新良王海朱宁
关键词:EL集成驱动
细胞色素c在硼掺杂金刚石电极上的电化学特性研究被引量:1
2013年
采用直流电弧等离子体喷射设备制备掺硼金刚石(BDD)电极。并用扫描电镜及拉曼光谱分析了薄膜的表面形貌及薄膜品质,测试结果表明,掺硼金刚石薄膜表面结构排列紧密。使用BDD电极研究细胞色素c的直接电化学特性,结果表明在磷酸盐缓冲液中细胞色素c(cytc)在BDD电极上呈现一对峰形较好的氧化还原峰,峰电流与扫速的平方根呈线性关系,且与细胞色素c浓度在5—50μmol·L^-1范围内近似呈线性关系。
张瑜朱宁陈凯玉
关键词:细胞色素C电化学特性
掺硼金刚石薄膜电极在检测抗坏血酸中的应用
2008年
采用掺硼的金刚石薄膜电极作为工作电极,对底液为1.0 mol/L的KCl溶液中的抗坏血酸进行了循环伏安以及阳极溶出法进行了检测.得到检测限为6.4×10-6mol/L,线性范围为8.0×10-6mol/L^3.1×10-4mol/L,相关系数为0.978.实验结果表明应用掺硼金刚石薄膜电极与其他电极的检测结果相差不大,且在电极再生性方面存在巨大的优势,使电极寿命更长,具有极好的应用前景.
巩国樑孙志远朱宁高成耀
关键词:循环伏安法抗坏血酸
在金属薄膜衬底上定向生长碳纳米管
2010年
研究和探讨了预处理和温度影响对碳纳米管定向生长机制的作用。利用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)的方法,以金属Fe薄膜为催化剂,在单晶硅衬底上定向生长碳纳米管(CNT)。通过给予不同的预处理时间和温度条件,在Fe/Si衬底上沉积出碳纳米管,通过扫描电子显微镜(SEM)进行表征,将不同的条件下生长的碳纳米管进行对比。结果表明,在适当的工艺条件下,可以生长出方向性好,纯度高的碳纳米管。
戴玮朱宁
关键词:碳纳米管预处理温度等离子体增强化学气相沉积
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