朱霞高
- 作品数：42 被引量：59H指数：5
- 供职机构：广州有色金属研究院更多>>
- 发文基金：广东省技术创新更多>>
- 相关领域：一般工业技术金属学及工艺理学电子电信更多>>
- CrTiAlCN多元多层梯度膜的制备及其结构被引量：6
- 2009年
- 采用中频反应磁控溅射、离子束辅助方法沉积CrTiAlCN多元硬质薄膜,利用扫描电镜、俄歇电子谱、透射电镜及X射线衍射等技术对膜层的过渡层、界面及微观结构进行研究。结果表明:沉积制备的膜层为多层梯度过渡结构,成分深度分布及相结构分析证实,所制备的多元多层梯度膜与所设计的基体/Cr/CrN/CrTiAlN/CrTiAlCN结构相吻合;在梯度过渡中,不同层之间界面体现为渐变过渡过程;沉积制备的多元多层梯度膜硬度高达26.31GPa,膜/基结合力大于80N,摩擦因数低至0.113,力学性能优良。
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- 关键词：磁控溅射离子束辅助
- 表面改性新技术在模具上的应用
- 综述了模具表面改性的新技术，包括了化学气相沉积(CVD)、等离子体增强化学气相沉积(PCVD)、物理气相沉积(PVD)等。重点介绍了在模具上沉积类金刚石(DLC)膜的方法、性能。
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- 关键词：表面改性类金刚石
- 文献传递
- Cr/CrN/CrTiAlN/CrTiAlCN多元多层薄膜在微型钻头上的应用性能被引量：2
- 2010年
- 为了提高微电子线路板(PCB)加工用微型钻头的使用寿命及保证钻孔质量,采用中频反应磁控溅射、离子束辅助的方法分别在WC硬质合金和微型钻头上沉积了Cr/CrN/CrTiAlN/CrTiAlCN多元多层梯度硬质薄膜,研究了多层膜的结构、形貌及钻削性能。结果表明:在WC硬质合金上沉积的多层膜显微硬度为2631HV,膜/基结合力大于80N,摩擦系数为0.113;镀膜后微钻刃型完好,刃型角度没有改变,同一钻头不同部位沉积的膜层厚度一致;微钻镀膜后使用寿命提高1倍以上,且解决了断针、批锋、塞孔等问题,同时满足孔位精度、孔壁粗糙度等技术要求。
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- 关键词：磁控溅射微型钻头
- 微型钻头表面强化超硬自润滑多元涂层的研究
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- 采用多种技术结合(包括离子源、非平衡磁控溅射、中频电源、阴极电弧等技术)的手段制备超硬自润滑多元薄膜。利用离子源离化出氩离子直接轰击工件，使工件露出新鲜的表面，然后，在高偏压条件下进行短时间阴极电弧金属离子轰击后，利用非...
- 关键词：
- 关键词：类金刚石膜钻头
- 金属碳化物/类金刚石(MeC/DLC)纳米多层膜材料及其制备方法
- 一种金属碳化物/类金刚石(MeC/DLC)纳米多层膜材料及其制备方法。纳米多层膜材料依次由基材(1)、过渡层I和纳米多层膜层II构成，过渡层I由金属层(2)、金属氮化物层(3)、金属碳氮化物层(4)构成，纳米多层膜层II...
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- 文献传递
- RF-PCVD制备无色透明类金刚石保护膜的研究
- 本文在传统RF-PCVD的设备上采用磁约束增强技术,在玻璃上低温沉积（＜150℃）出优质无色透明类金刚石保护膜（Diamond-like Carbon,DLC）。膜/基可见光透光率高（＞90%）,有相当高的硬度（Hv9-...
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- 关键词：无色透明类金刚石膜
- 选择合理涂层提高模具的使用寿命被引量：1
- 2006年
- 对常用模具钢的热处理工艺、表面强化处理作了简单叙述。着重叙述了常用于模具的镀膜涂层的性能与用途。
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- 关键词：使用寿命
- 掺钛类金刚石膜的微观结构研究被引量：12
- 2007年
- 采用无灯丝离子源结合非平衡磁控溅射的方法,在模具钢及单晶硅基体上制备了梯度过渡的掺钛类金刚石(Ti-DLC)膜层,利用俄歇电子谱(AES)、透射电镜(TEM)、X射线光电子能谱(XPS)及X射线衍射(XRD)等手段对膜层的过渡层、界面及微观结构进行研究。结果表明:制备的膜层成分深度分布与所设计的基体/Ti/TiN/TiCN/TiC/Ti-DLC相吻合,在梯度过渡中不同膜层之间界面体现为渐变过程,结合非常良好;少量的Ti主要以纳米晶TiC的形式掺入到非晶DLC膜当中;所制备的膜层具有厚2.9μm、硬度高达25.77 GPa、膜/基结合力44 N-74 N。
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- 关键词：微观结构离子源非平衡磁控溅射
- 掺钨类金刚石膜的制备与性能研究被引量：6
- 2006年
- 采用无灯丝长条离子源结合非平衡磁控溅射的方法，在不同基体上制备了面积较大、光滑、均匀的掺钨类金刚石（W-DLC）膜层，用SEM、Raman、XPS、XRD、硬度计、划痕仪、摩擦磨损试验机等手段分析和研究了膜层的形貌、结构及部分性能．结果表明：膜／基硬度高，W—DLC／Si为Hv0.02515=3577；膜／基结合力在45-75N之间；摩擦系数小，抗磨损性能良好．
- 侯惠君李洪武林松盛朱霞高林凯生代明江
- 关键词：非平衡磁控溅射
- RF-PCVD低温沉积无色透明类金刚石保护膜的工艺研究被引量：3
- 2006年
- 采用磁约束增强射频辉光放电等离子体辅助化学气相沉积法（RF—PCVD）低温沉积出无色透明的类金刚石保护膜（DLC），主要研究了炉压P0、射频功率Pf、自生负偏压U2、磁感应强度B、电极间距d、反应气体、镀膜时间t等工艺参数对成膜的影响．试验结果表明，外加磁场B制约了带电粒子逃逸出电极空间，提高了反应气体的离化率及等离子体浓度和活性，并使非独立变量Pf和Uz成为独立变量，有利于工艺调节．当极间距大时，需适当提高Pf，Uz和C-H流量才可得到无色、较硬的DLC膜．在比功率密度大于0．009W·cm^-2·Pa^-1、C-H浓度即体积分数0．9％～1．4％及膜厚小于90nm的条件下，可沉积出无色透明、硬度较高的DLC膜．
- 朱霞高侯惠君林松盛袁镇海戴达煌
- 关键词：类金刚石膜磁感应强度
