王赞海
- 作品数:5 被引量:38H指数:3
- 供职机构:北京有色金属研究总院更多>>
- 发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划国家科技攻关计划更多>>
- 相关领域:一般工业技术金属学及工艺理学电子电信更多>>
- W/Ti合金靶材的制备及性能研究
- 随着超大规模集成电路(ULSI)工艺技术的不断进步,半导体器件特征尺寸在不断缩小,连接器件的金属布线向多层化和细微化发展,布线金属正由传统的Al向新兴的Cu转变.但铜在硅中的扩散速度比铝高,1000°C Al在 Si中的...
- 储茂友王星明王赞海
- 关键词:超大规模集成电路
- 文献传递
- 溅射法镀二氧化钛薄膜靶材及工艺研究进展被引量:15
- 2006年
- 介绍了溅射法镀膜的基本原理,阐述了溅射法镀二氧化钛薄膜用靶材及相应溅射镀膜工艺的研究现状。溅射镀TiO2薄膜用靶材主要有金属钛、二氧化钛和“非化学计量”二氧化钛靶材3大类。由于钛的氧化态及靶材导电性不同,它们对溅射工艺(如溅射气氛等)有一定具体的要求,通过对靶材和相应工艺进行分析比较,指出应用“非化学计量”靶材是溅射法制备二氧化钛薄膜技术发展的重要方向。
- 赵鑫王星明黄松涛储茂友郭奋王赞海
- 关键词:溅射靶材二氧化钛薄膜
- W/Ti合金靶材及其制备技术被引量:10
- 2006年
- 介绍了W/Ti合金扩散阻挡层在集成电路布线技术中的作用及应用情况。阐述了W/Ti合金靶材的特性参数-相对密度、微观结构、金属纯度,与W/Ti合金薄膜性能之间的关系,指出高密度、高纯度、富Ti相含量少的合金靶材是制备优良W/Ti合金扩散阻挡层薄膜的基本条件。介绍了制备W/Ti合金靶材的3种方法-真空热压、惰性气体热压、热等静压,并概述了不同方法制备的靶材性能上的差异,给出制备高性能W/Ti合金靶材的工艺条件。
- 王赞海储茂友王星明郭奋赵鑫
- 关键词:溅射靶材扩散阻挡层热压
- 氧化钛烧结体的氧含量测定
- 2008年
- 用电子探针X射线微分析(EPMA)方法测定了一系列氧化钛烧结体中的氧含量,并用X射线衍射(XRD)分析对其相态作了研究,所得的结果指出根据产品的氧含量与其某些物理特性之间的内在联系,即可从其表观的某些物理性质估计某一烧结产品的氧化物含量,而所得结果对下一步的镀膜工作具有指导意义。
- 赵鑫沈剑韵王星明黄松涛储茂友郭奋王赞海
- 关键词:氧化钛EPMAXRD
- 惰性气体热压法制备W/Ti合金靶材研究被引量:16
- 2006年
- 用W粉和Ti粉作原料, 采用惰性气体热压法制备W/Ti合金靶材. 研究了靶材致密性、富Ti的β相含量、微观结构均匀性与工艺条件的关系. 结果表明, 控制温度在1250~1450 ℃之间, 压力在20 Mpa左右, 保温时间在30 min左右可制备高性能的W/Ti合金靶材.
- 王赞海王星明储茂友郭奋赵鑫沈剑韵
- 关键词:溅射靶材扩散阻挡层热压