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王青林

作品数：5 被引量：0H指数：0
供职机构：洛阳工学院更多>>
相关领域：金属学及工艺理学一般工业技术电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 2篇会议论文

领域

  • 3篇金属学及工艺
  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 2篇应力场
  • 2篇外延膜
  • 2篇SI
  • 1篇应变场
  • 1篇熔敷
  • 1篇显微组织
  • 1篇金属
  • 1篇金属覆层
  • 1篇晶体
  • 1篇激光熔敷
  • 1篇合金
  • 1篇覆层
  • 1篇铂
  • 1篇硅

机构

  • 3篇洛阳工学院
  • 3篇武汉大学

作者

  • 5篇王青林
  • 4篇王仁卉
  • 3篇张一民
  • 2篇郑世安
  • 2篇马云庆
  • 2篇吴逸贵
  • 2篇范湘军
  • 2篇蒋昌忠

传媒

  • 2篇电子显微学报
  • 1篇材料开发与应...
  • 1篇第八次全国电...
  • 1篇第七次全国电...

年份

  • 3篇1994
  • 2篇1993
共 5 条 记 录，以下是 1-5
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排序方式：
Pt/Si外延膜界面处Si基体中应力场的LACBED研究
＜正＞ 我们利用大角度会聚束电子衍射（简称LACBED）的方法对Pt/Si外延膜界面处Si基体中的应力场进行了研究。Pt/Si外延膜试样是用蒸镀的方法在基体Si片上沿（111）面外延生成金属Pt而成。X-射线分析结果表明...
鄢炎发蒋昌忠王青林范湘军王仁卉
文献传递
Pt/Si外延膜界面处Si基体中应力场的LACBED研究
1993年
我们利用大角度会聚束电子衍射(简称LACBED)的方法对Pt/Si外延膜界面处Si基体中的应力场进行了研究。Pt/Si外延膜试样是用蒸镀的方法在基体Si片上沿(111)面外延生成金属Pt而成。X-射线分析结果表明Pt沿Si(111)面外延生长很好。图1是Pt/Si界面的明场象。左面为衬底Si,右边为外延生长Pt层。图2是电子束照射在界面附近不同地方的LACBED花样。图中界面在LACBED花样中所处的位置可以清晰地看出。图2(a)可以看出。
鄢炎发蒋昌忠王青林范湘军王仁卉
关键词：铂硅应力场
激光熔敷合金层界面的研究
1994年
激光熔敷合金层界面的研究张一民，郑世安，马云庆，吴逸贵，王青林，王仁卉（洛阳工学院材料系，洛阳４７１０３９）（武汉大学物理系）激光熔敷是八十年代兴起的材料表面强化技术，它可以在低成本钢材上制取高性能表面，降低了能量消耗，是当前国内外新工艺研究中活跃的...
张一民郑世安马云庆吴逸贵王青林王仁卉
关键词：金属覆层合金激光熔敷显微组织
激光熔敷合金层界面的研究
＜正＞激光熔敷是八十年代兴起的材料表面强化技术,它可以在低成本钢材上制取高性能表面,降低了能量消耗,是当前国内外新工艺研究中活跃的研究领域,具有重要的研究价值。目前,对激光熔敷合金层的界面组织结构研究较少。本文用 X 射...
张一民郑世安马云庆吴逸贵王青林王仁卉
文献传递
会聚束电子衍射技术及其应用
1994年
介绍了用ＣＢＥＤ方法，测量晶体缺陷的几何参数、晶体的应变场及晶体取向关系。
张一民王青林鄢炎发
关键词：应变场晶体
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